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具有可见光活性的纳米掺氮TiO_2制备和表征 被引量:24
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作者 费贤翔 熊予莹 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期223-227,共5页
用硫酸钛与氨水反应得到TiO2前体,煅烧后制得掺氮TiO2粉体,研究不同反应条件和不同温度下掺氮TiO2的吸光特性和形态结构,结果表明掺氮TiO2在400℃下加热1h,所得粉体是锐钛矿相结构,粒径约15nm,与未掺杂TiO2相比,吸收边红移22nm,对400-51... 用硫酸钛与氨水反应得到TiO2前体,煅烧后制得掺氮TiO2粉体,研究不同反应条件和不同温度下掺氮TiO2的吸光特性和形态结构,结果表明掺氮TiO2在400℃下加热1h,所得粉体是锐钛矿相结构,粒径约15nm,与未掺杂TiO2相比,吸收边红移22nm,对400-510nm的可见光有一定的吸收率,可见光下对甲基橙的降解表明具有可见光活性。 展开更多
关键词 TIO2 可见光 光催化
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以ACF为模板制备掺氮TiO_2及其光催化脱氨氮研究 被引量:14
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作者 李威 柳丽芬 +2 位作者 杨凤林 张兴文 余济美 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2005年第5期374-381,共8页
本文采用溶胶-凝胶法制备了以活性炭纤维(ACF)为模板的掺氮TiO2光催化剂,利用XRD、XPS、TEM、SEM和UV-Vis等方法对催化剂进行了表征,测定了催化剂在紫外、日光照射下光催化脱氨氮的活性.ACF作模板掺氮TiO2催化剂具有介孔结构,平均粒径约... 本文采用溶胶-凝胶法制备了以活性炭纤维(ACF)为模板的掺氮TiO2光催化剂,利用XRD、XPS、TEM、SEM和UV-Vis等方法对催化剂进行了表征,测定了催化剂在紫外、日光照射下光催化脱氨氮的活性.ACF作模板掺氮TiO2催化剂具有介孔结构,平均粒径约为10 nm,比表面积为64.43 m2/g.紫外、可见光光催化2 h氨氮(85 mg/L)废水的氨氮去除率分别为68%和47%.结果表明,催化剂中氮的含量是影响催化剂光催化活性的重要因素. 展开更多
关键词 二氧化钛 光催化氧化 可见光活性 脱氨
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掺氮光敏化纳米晶TiO_2的研制 被引量:9
3
作者 邱炜 陈爱平 +2 位作者 刘威 刘伟 施利毅 《华东理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期79-82,共4页
以四氯化钛、氨气或氨水为原料,醇为溶剂制备了掺杂氮的可见光敏化纳米晶TiO2,通过紫外可见吸收光谱验证了它具有良好的可见光吸收性能,吸收阈值最大可以达到830nm。XRD分析表明这种方法制备的TiO2为纳米金红石型或锐钛矿与金红石的混晶... 以四氯化钛、氨气或氨水为原料,醇为溶剂制备了掺杂氮的可见光敏化纳米晶TiO2,通过紫外可见吸收光谱验证了它具有良好的可见光吸收性能,吸收阈值最大可以达到830nm。XRD分析表明这种方法制备的TiO2为纳米金红石型或锐钛矿与金红石的混晶,制得的样品经350℃热处理后比文献报道的在600℃处理的TiO2具有更好的可见光吸收。通过TG-DTA曲线、FT-IR、紫外-可见光谱图分析了氮的掺杂过程,指出前躯体中氮的存在形式以及氧化钛晶格中掺杂氮的存在状态对氧化钛的可见光敏化有重要影响。 展开更多
关键词 可见光敏化 纳米晶 氧化钛
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表面掺氮活性炭的制备及其甲醛吸附性能研究 被引量:18
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作者 孙康 蒋剑春 +2 位作者 卢辛成 陈超 贾羽洁 《林产化学与工业》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期77-82,共6页
以苯胺(An)为氮源,在活性炭表面原位聚合、炭化制备掺氮活性炭,考察了苯胺添加量对活性炭的孔隙结构变化、表面含氮基团及甲醛平衡吸附量的影响.结果表明,活性炭与苯胺质量比10∶2条件下制备的掺氮活性炭(AC2),其氮元素质量分数2.05... 以苯胺(An)为氮源,在活性炭表面原位聚合、炭化制备掺氮活性炭,考察了苯胺添加量对活性炭的孔隙结构变化、表面含氮基团及甲醛平衡吸附量的影响.结果表明,活性炭与苯胺质量比10∶2条件下制备的掺氮活性炭(AC2),其氮元素质量分数2.05%,总孔容和中孔容有所下降,而微孔率略有增加,这一变化有利于气相分子吸附.AC2的甲醛平衡吸附量379 mg/g,是市售气体净化用活性炭、竹炭的3~6倍,平衡吸附时间为6h.通过活性炭表面掺氮,增大孔隙周围电子云密度,增强对甲醛中羰基碳正离子的吸引力.由此提供了一条由商品活性炭改性制备甲醛去除用活性炭的有效途径. 展开更多
关键词 活性炭 甲醛 吸附
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N/TiO2光催化剂的制备及掺杂过程分析 被引量:14
5
作者 唐建军 王岳俊 +2 位作者 谢炜平 邹原 周康根 《过程工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期172-176,共5页
以饱和尿素溶液水解沉淀钛酸四丁酯制备水合TiO2,再于400~700℃的空气气氛下煅烧2h,制得淡黄色的N/TiO2光催化剂.对N/TiO2光催化剂的物相、粒径、比表面积及光吸收性能进行了测试和表征,结果表明,样品的粒径为10~30nm,比表面积为30~7... 以饱和尿素溶液水解沉淀钛酸四丁酯制备水合TiO2,再于400~700℃的空气气氛下煅烧2h,制得淡黄色的N/TiO2光催化剂.对N/TiO2光催化剂的物相、粒径、比表面积及光吸收性能进行了测试和表征,结果表明,样品的粒径为10~30nm,比表面积为30~70m2/g,能吸收400nm以上的可见光;N/TiO2光催化剂在波长420nm的荧光灯激发下,经180min对2,4-二氯苯酚的光催化降解率超过40%.通过TG-DTA,FT-IR及XPS等测试,分析了N/TiO2光催化剂的氮掺杂过程,表明掺杂氮源均匀存在于水合TiO2中,并在TiO2从无定型转为锐钛矿型的过程中以T——N化学键的形式进入了TiO2的晶格. 展开更多
关键词 光催化剂 TIO2 可见光催化活性
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掺氮石墨烯研究 被引量:14
6
作者 陈旭 何大平 木士春 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第8期1292-1301,共10页
本文简述了掺氮石墨烯的优异特性,并对掺氮石墨烯的合成方法、表征技术及应用进行了评述。其中,掺氮石墨烯的合成方法主要包括化学气相沉积法、氨源热解、氮等离子放电法、电弧放电、氨电热反应法、溶剂热法和含氮前驱体转换法等。掺氮... 本文简述了掺氮石墨烯的优异特性,并对掺氮石墨烯的合成方法、表征技术及应用进行了评述。其中,掺氮石墨烯的合成方法主要包括化学气相沉积法、氨源热解、氮等离子放电法、电弧放电、氨电热反应法、溶剂热法和含氮前驱体转换法等。掺氮石墨烯的表征技术主要包括XPS、Raman、TEM、SEM和AFM等测试分析技术。介绍了掺氮石墨烯在新能源材料领域的最新应用,特别是作为锂离子电池、锂空电池电极、超级电容器以及燃料电池氧还原催化剂等关键材料的应用。最后,对掺氮石墨烯研究过程中可能存在的一些科学问题进行了简评。 展开更多
关键词 石墨烯 锂离子电池 锂空电池 质子交换膜燃料电池 催化剂 阴极
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碳纳米管负载Pd基催化剂对水中2,4-二氯酚的催化加氢脱氯 被引量:13
7
作者 刘冬 周娟 +2 位作者 万海勤 万玉秋 郑寿荣 《环境化学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期351-357,共7页
对多壁碳纳米管(MWNTs)进行掺氮得到含氮的多壁碳纳米管N-MWNTs,分别以MWNTs和N-MWNTs为载体,采用浸渍法合成了催化剂Pd/MWNTs和Pd/N-MWNTs.使用透射电镜(TEM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)、X射线衍射仪(XRD)、元素分析仪等对催... 对多壁碳纳米管(MWNTs)进行掺氮得到含氮的多壁碳纳米管N-MWNTs,分别以MWNTs和N-MWNTs为载体,采用浸渍法合成了催化剂Pd/MWNTs和Pd/N-MWNTs.使用透射电镜(TEM)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP)、X射线衍射仪(XRD)、元素分析仪等对催化剂进行了表征,并对2,4-二氯酚(2,4-DCP)的液相催化加氢脱氯反应进行了研究.结果表明,Pd/N-MWNTs对2,4-DCP具有更高的催化活性;该反应体系的催化反应过程不受传质阻力的影响;2,4-DCP在催化剂上的加氢脱氯行为符合Langmuir-Hinshelwood模型,即2,4-DCP的还原脱氯受表面吸附所控制. 展开更多
关键词 PD MWNTS PD N-MWNTs 2 4-DCP 液相加氢脱氯
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掺氮3C-SiC电子结构的第一性原理研究 被引量:9
8
作者 宋久旭 杨银堂 +2 位作者 柴常春 刘红霞 丁瑞雪 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期87-91,共5页
采用广义梯度近似方案处理电子间相互作用的交换关联能量泛函,电子波函数采用平面波基矢展开,并采用超软赝势近似离子实与价电子间相互作用,对掺氮(3×3×3)3C-SiC超晶胞电子结构进行了第一性原理研究.对不同掺氮浓度3C-SiC超... 采用广义梯度近似方案处理电子间相互作用的交换关联能量泛函,电子波函数采用平面波基矢展开,并采用超软赝势近似离子实与价电子间相互作用,对掺氮(3×3×3)3C-SiC超晶胞电子结构进行了第一性原理研究.对不同掺氮浓度3C-SiC超晶胞的能带结构和态密度进行计算,结果表明氮原子的2p态和2s态分别占据价带顶和导带底,随着掺杂浓度的增加,导带底和价带顶的位置逐渐向低能端移动,导带底移动速度要大于价带顶,导致禁带宽度减小. 展开更多
关键词 3C—SiC 电子结构 第一性原理计算
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可见光响应掺氮TiO_2的制备及对白血病HL60细胞体外杀伤效应的研究 被引量:9
9
作者 熊予莹 费贤翔 +1 位作者 熊建文 张镇西 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1735-1739,共5页
采用硫酸钛与氨水反应制备掺氮TiO2。UV-Vis漫反射谱研究表明掺氮的TiO2在紫外区的吸收边明显红移(约20nm),并且在400nm^530nm出现新的吸收区域,光吸收阈值从380nm扩展到530nm。XPS分析表明,在TiO2掺杂的N为间隙态,而且还存在大量的氧... 采用硫酸钛与氨水反应制备掺氮TiO2。UV-Vis漫反射谱研究表明掺氮的TiO2在紫外区的吸收边明显红移(约20nm),并且在400nm^530nm出现新的吸收区域,光吸收阈值从380nm扩展到530nm。XPS分析表明,在TiO2掺杂的N为间隙态,而且还存在大量的氧空位。氧空位在导带下形成的窄带使得掺氮的TiO2在400nm^530nm出现新的吸收区域。用MTT法测量了掺氮TiO2杀伤白血病HL60细胞的活性。结果显示,无论有无可见光照射,掺氮TiO2对白血病肿瘤细胞杀灭效果明显好于未掺杂TiO2。 展开更多
关键词 TIO2 HL60细胞
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溶胶凝胶法制备掺杂纳米TiO_2粉末及其光催化性能 被引量:7
10
作者 周志超 段学臣 +2 位作者 朱奕漪 段文杰 刘杨林 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2013年第3期434-440,共7页
采用溶胶–凝胶法制备掺锌纳米TiO2粉末、掺氮纳米TiO2粉末以及锌氮共掺纳米TiO2粉末(掺杂量均为1%)。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、透射电镜(TEM)、傅立叶红外光谱测试仪及紫外可见–分光光度计等分析粉末的物相、形... 采用溶胶–凝胶法制备掺锌纳米TiO2粉末、掺氮纳米TiO2粉末以及锌氮共掺纳米TiO2粉末(掺杂量均为1%)。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、透射电镜(TEM)、傅立叶红外光谱测试仪及紫外可见–分光光度计等分析粉末的物相、形貌、光学性能及光催化性能。结果表明:在纳米TiO2粉末中掺锌或氮,既不会改变粉末的晶体结构,也不会产生新相。与纯TiO2粉末相比,掺锌或掺氮后粉末光催化性能更好。但同时掺入锌和氮,反而会降低TiO2粉末的光催化性。在热处理温度为500℃条件下制备的掺氮TiO2粉末光催化活性最高。 展开更多
关键词 溶胶–凝胶法 光催化 热处理
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掺氮碳化硅纳米管电子结构的第一性原理研究 被引量:8
11
作者 宋久旭 杨银堂 +1 位作者 刘红霞 张志勇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期4883-4887,共5页
采用基于密度泛函理论的第一性原理计算,对本征碳化硅纳米管和掺氮碳化硅纳米管的电子结构进行了计算.计算表明本征(8,0)碳化硅为直接带隙半导体,能带间隙为0.94 eV;掺氮浓度为1.56%和3.12%的碳化硅纳米管的能带间隙减小为0.83 eV和0.74... 采用基于密度泛函理论的第一性原理计算,对本征碳化硅纳米管和掺氮碳化硅纳米管的电子结构进行了计算.计算表明本征(8,0)碳化硅为直接带隙半导体,能带间隙为0.94 eV;掺氮浓度为1.56%和3.12%的碳化硅纳米管的能带间隙减小为0.83 eV和0.74 eV.从差分电荷密度可以看出,能带间隙的减小是氮硅键与碳硅键相比共价成键能力降低的结果. 展开更多
关键词 碳化硅纳米管 第一性原理 电子结构
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含氮类金刚石薄膜的力学和摩擦学性能的研究 被引量:8
12
作者 王成兵 王舟 张俊彦 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第1期59-63,共5页
利用脉冲等离子体增强化学气相沉积系统沉积了含氮类金刚石碳薄膜.利用X射线光电子能谱和红外光谱分析了薄膜的化学键状态,在UMT摩擦磨损试验机上考察了薄膜的摩擦学性能,利用扫描电子显微镜分析了摩擦对偶球表面的转移膜形貌.结果表明... 利用脉冲等离子体增强化学气相沉积系统沉积了含氮类金刚石碳薄膜.利用X射线光电子能谱和红外光谱分析了薄膜的化学键状态,在UMT摩擦磨损试验机上考察了薄膜的摩擦学性能,利用扫描电子显微镜分析了摩擦对偶球表面的转移膜形貌.结果表明:随着薄膜中氮含量的增加,薄膜中的sp2C含量增加,硬度有所降低,薄膜的平均摩擦系数先减小后增加. 展开更多
关键词 类金刚石碳薄膜 摩擦学 力学
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大直径直拉硅中氮对原生氧沉淀的影响 被引量:6
13
作者 余学功 杨德仁 +3 位作者 杨建松 马向阳 李立本 阙端麟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期49-53,共5页
研究了在大直径直拉硅单晶中掺氮 (N )对原生氧沉淀的影响 .通过高温一步退火 (10 5 0℃ )和低 -高温两步退火 (80 0℃ +10 5 0℃ )发现在掺 N直拉 (NCZ)硅中氧沉淀的行为与一般直拉 (CZ)硅是大不相同的 ,经过高温一步退火后 ,在氧化诱... 研究了在大直径直拉硅单晶中掺氮 (N )对原生氧沉淀的影响 .通过高温一步退火 (10 5 0℃ )和低 -高温两步退火 (80 0℃ +10 5 0℃ )发现在掺 N直拉 (NCZ)硅中氧沉淀的行为与一般直拉 (CZ)硅是大不相同的 ,经过高温一步退火后 ,在氧化诱生层错环 (OSF- ring)区氧沉淀的量要小于空洞型缺陷 (voids)区 ,而经过低 -高温两步退火后 ,OSF-ring区的氧沉淀量要远远大于 voids区 .由此可得 ,在晶体生长过程中 ,N通过改变硅晶体中空位的浓度及其分布从而改变原生氧沉淀的尺寸和分布 .并在此基础上讨论了在大直径 NCZ硅中掺 N影响原生氧沉淀的机理 . 展开更多
关键词 大直径 直拉硅 原生氧沉淀 直拉
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用紫外-可见光谱仪研究玻璃基掺氮二氧化钛薄膜的沉积速率和光学带隙 被引量:4
14
作者 赵青南 张君 +2 位作者 李春领 何鑫 赵修建 《分析仪器》 CAS 2003年第4期20-22,共3页
用紫外 -可见光谱仪研究了不同溅射功率下磁控溅射法在玻璃基上沉积掺氮二氧化钛膜的沉积速率和光学带隙。结果表明 ,随着溅射功率的增加 ,薄膜的沉积速率增加 ,吸收边波长红移 ,薄膜的光学带隙宽度减小。热处理温度对不掺氮二氧化钛薄... 用紫外 -可见光谱仪研究了不同溅射功率下磁控溅射法在玻璃基上沉积掺氮二氧化钛膜的沉积速率和光学带隙。结果表明 ,随着溅射功率的增加 ,薄膜的沉积速率增加 ,吸收边波长红移 ,薄膜的光学带隙宽度减小。热处理温度对不掺氮二氧化钛薄膜的吸收边和光学带隙的影响较小。 展开更多
关键词 紫外-可见光谱 磁控溅射 二氧化钛薄膜 沉积速率 光学带隙 玻璃基
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微氮硅单晶中的空洞型原生缺陷 被引量:5
15
作者 余学功 杨德仁 +2 位作者 马向阳 李立本 阙端麟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1286-1290,共5页
研究了掺氮和不掺氮直拉硅单晶中 ,空洞型原生缺陷 (voids)的分布行为和其退火性质 .从两种晶体不同位置取样 ,观察与大尺寸 voids相关的流水花样缺陷 (FPD)沿晶体轴向的分布 ,然后在 10 5 0~ 12 5 0℃下 Ar气中退火不同时间 .实验结... 研究了掺氮和不掺氮直拉硅单晶中 ,空洞型原生缺陷 (voids)的分布行为和其退火性质 .从两种晶体不同位置取样 ,观察与大尺寸 voids相关的流水花样缺陷 (FPD)沿晶体轴向的分布 ,然后在 10 5 0~ 12 5 0℃下 Ar气中退火不同时间 .实验结果表明在掺氮直拉硅中与较大尺寸 voids相关的 FPD缺陷的密度大量减少 ,其体内这种 FPD缺陷的退火行为与不掺氮直拉硅一样 ,在高温下才能被有效的消除 .这表明在直拉硅中掺氮可以抑制大尺寸的 voids的产生 ,而且掺氮硅中 展开更多
关键词 硅单晶 直拉硅 空洞型缺陷 半导体 Voids缺陷 流水花样缺陷
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显微激光拉曼光谱法鉴别SiC晶体的多型体结构 被引量:4
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作者 韩荣江 王继扬 +7 位作者 徐现刚 胡小波 董捷 李现祥 李娟 姜守振 王丽 蒋民华 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期877-881,共5页
利用显微激光拉曼光谱法对掺氮 6H SiC单晶中的寄生多型体进行了鉴别 ,结果表明其中有 4H SiC和 15R SiC两种寄生多型体。不同SiC多型体的纵光学声子与等离子体激元的耦合模 (LOPC模 )表明 :在掺氮 6H SiC单晶的生长条件下 ,6H SiC的掺... 利用显微激光拉曼光谱法对掺氮 6H SiC单晶中的寄生多型体进行了鉴别 ,结果表明其中有 4H SiC和 15R SiC两种寄生多型体。不同SiC多型体的纵光学声子与等离子体激元的耦合模 (LOPC模 )表明 :在掺氮 6H SiC单晶的生长条件下 ,6H SiC的掺氮效应与 4H SiC存在明显差别 ,而与 1 5R 展开更多
关键词 6H-SIC 4H-SiC 耦合模 SIC晶体 单晶 等离子体 型体 声子 激光拉曼光谱
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钽粉的低温掺氮及氮在钽中的分布 被引量:6
17
作者 何季麟 潘伦桃 +1 位作者 郑爱国 王向东 《中国材料进展》 CAS CSCD 2010年第2期50-52,共3页
叙述了钽粉在镁还原脱氧后引入氮气对钽粉进行掺氮,在200℃以下0.1MPa以上,保温时间大于2h时,得到的钽粉粒子间含氮差别率在20%以下。用俄歇电子能谱仪对渗氮的钽表面进行元素分布研究,发现氮在钽中分布是不均匀的,对于每个粒子也是外... 叙述了钽粉在镁还原脱氧后引入氮气对钽粉进行掺氮,在200℃以下0.1MPa以上,保温时间大于2h时,得到的钽粉粒子间含氮差别率在20%以下。用俄歇电子能谱仪对渗氮的钽表面进行元素分布研究,发现氮在钽中分布是不均匀的,对于每个粒子也是外表面氮浓度大于钽内部的氮浓度。 展开更多
关键词 钽粉 在钽中的分布
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高速钢表面类金刚石薄膜的掺氮改性研究
18
作者 冯利民 何哲秋 +1 位作者 胡剑南 李建中 《上海金属》 CAS 2024年第3期38-43,共6页
高速钢表面类金刚石(diamond-like carbon,DLC)薄膜的沉积效率和膜-基结合力影响其在切削刀具领域的应用。基于空心阴极原理,利用等离子体增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)的方法,在体积比为1∶3的CH... 高速钢表面类金刚石(diamond-like carbon,DLC)薄膜的沉积效率和膜-基结合力影响其在切削刀具领域的应用。基于空心阴极原理,利用等离子体增强化学气相沉积(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)的方法,在体积比为1∶3的CH_(4)和C_(2)H_(2)的混合气体中加入N_(2)在高速钢表面制备类金刚石薄膜,研究了N_(2)体积分数对DLC薄膜结合力和耐磨性的影响。结果表明:掺氮可提高DLC薄膜的沉积效率,改善膜结构。随着N_(2)体积分数的增加,DLC薄膜中sp^(3)键含量和摩擦因数均先增大后减小。掺10%体积分数N_(2)的DLC薄膜厚度达1543 nm,膜-基结合力等级从HF4提高到HF2,摩擦因数降至0.139,耐磨性提高。 展开更多
关键词 高速钢 类金刚石薄膜 结合力 摩擦
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铝氮共掺制备p型ZnO薄膜的电学性能研究 被引量:4
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作者 张正海 叶志镇 +3 位作者 朱丽萍 赵炳辉 诸葛飞 吕建国 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期408-410,共3页
本文通过直流反应磁控溅射 ,采用Al+N共掺的方法在N2 O—O2 气氛下制备p型ZnO薄膜。结果表明 ,衬底温度为 5 0 0℃时共掺所得p型ZnO的载流子浓度最高 ,并且比单独掺氮时高近 3个数量级。本文还讨论了生长气氛对薄膜电学性能的影响 ,当... 本文通过直流反应磁控溅射 ,采用Al+N共掺的方法在N2 O—O2 气氛下制备p型ZnO薄膜。结果表明 ,衬底温度为 5 0 0℃时共掺所得p型ZnO的载流子浓度最高 ,并且比单独掺氮时高近 3个数量级。本文还讨论了生长气氛对薄膜电学性能的影响 ,当衬底温度为 5 0 0℃时 ,在纯N2 O气氛下制备的p型ZnO的空穴浓度最高 ,为 7 5 6× 10 17cm-3 ,同时薄膜的电阻率和载流子的迁移率分别为 94 3Ω·cm和 0 0 9cm2 V-1s-1。 展开更多
关键词 电学性能 ZNO薄膜 迁移率 载流子浓度 衬底温度 直流反应磁控溅射 个数 空穴 数量级
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氮对直拉硅片中氧沉淀分布的影响 被引量:3
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作者 崔灿 杨德仁 +3 位作者 马向阳 余学功 李立本 阙端麟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第8期951-955,共5页
研究了氮在退火过程中对直拉硅片中的氧沉淀分布的影响 .实验结果表明 ,三步退火后在掺氮硅片截面形成特殊的 M形的氧沉淀密度分布 ,即表面形成没有氧沉淀的洁净区 (DZ) ,体内靠近 DZ区域形成高密度、小尺寸的氧沉淀 ,而在硅片的中心处... 研究了氮在退火过程中对直拉硅片中的氧沉淀分布的影响 .实验结果表明 ,三步退火后在掺氮硅片截面形成特殊的 M形的氧沉淀密度分布 ,即表面形成没有氧沉淀的洁净区 (DZ) ,体内靠近 DZ区域形成高密度、小尺寸的氧沉淀 ,而在硅片的中心处形成低密度、大尺寸的氧沉淀 .分析认为 ,由于在第一步高温退火过程中氮在硅片表面外扩散 ,同时在硅片体内促进氧沉淀 ,改变了间隙氧的分布 。 展开更多
关键词 直拉硅 氧沉淀 退火
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