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振动辅助抛光装置设计与性能研究
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作者 刘亚梅 张森 +1 位作者 谷岩 周佰通 《机床与液压》 北大核心 2024年第16期99-107,共9页
为了解决传统抛光技术及机床在过程中存在的加工效率低、表面质量差、周期性抛光纹理等问题,基于柔性机构理论,采用中心对称的方式,设计一个二维振动辅助装置;基于柔度矩阵法,建立二维振动辅助装置的理论模型。对二维振动辅助装置进行... 为了解决传统抛光技术及机床在过程中存在的加工效率低、表面质量差、周期性抛光纹理等问题,基于柔性机构理论,采用中心对称的方式,设计一个二维振动辅助装置;基于柔度矩阵法,建立二维振动辅助装置的理论模型。对二维振动辅助装置进行性能测试及有限元仿真。结果表明:此装置的最大行程约为46μm,放大比约为1.21,固有频率约为933 Hz,耦合误差率约为2.5%,最大应力不超过83 MPa,输入刚度为23.52 N/μm,输出刚度为12.29 N/μm。并通过振动辅助加工实验及有限元仿真,证明了振动辅助抛光装置具有改善实际抛光效果的能力。 展开更多
关键词 振动辅助抛光装置 柔性铰链 有限元分析 性能测试 抛光实验
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机器人气囊抛光去除函数稳定性分析 被引量：6
2
作者 林泽文 王振忠 +1 位作者 黄雪鹏 孔刘伟 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期20-28,共9页
基于气囊抛光技术和工业机器人平台开发光学元件精密抛光系统,既能满足光学元件快速抛光环节的高效率和高精度的要求,又可以降低开发成本,是极具潜力的抛光设备开发方案。气囊抛光具有稳定的且确定的材料去除特性,通常要求抛光斑稳定性... 基于气囊抛光技术和工业机器人平台开发光学元件精密抛光系统,既能满足光学元件快速抛光环节的高效率和高精度的要求,又可以降低开发成本,是极具潜力的抛光设备开发方案。气囊抛光具有稳定的且确定的材料去除特性,通常要求抛光斑稳定性在90%左右。针对机器人气囊抛光系统在多步离散进动抛光过程中机器人末端刚度对气囊抛光稳定性的影响展开研究,通过建立机器人末端刚度矩阵,获得机器人末端变形;基于Preston理论,建立含变形误差的气囊抛光去除函数。最后设计4步离散定点抛光实验验证机器人气囊抛光系统稳定性。根据结果可知抛光斑在XY截面轮廓线上皆呈类高斯形状,且XY截面轮廓线基本一致,具有比较好的重合度;对比不同抛光位置的截面轮廓线,其相对误差小于5%,由此可验证机器人气囊抛光系统在离散进动抛光时具有较好的稳定性。 展开更多
关键词 气囊抛光 工业机器人 刚度矩阵 去除函数 抛光实验
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化学机械抛光(CMP)过程中抛光盘温度控制的分析研究 被引量：5
3
作者 孙振杰 刘涛 费玖海 《电子工业专用设备》 2011年第8期5-8,共4页
在化学机械抛光(CMP)过程中,温度是影响晶片最终抛光效果的主要因素之一,采用合理的温度控制方法,把温度控制在一定的范围内才能满足化学机械抛光的工艺要求。通过化学机械抛光机理分析阐述了抛光过程中热量产生的根源,介绍了一种温度... 在化学机械抛光(CMP)过程中,温度是影响晶片最终抛光效果的主要因素之一,采用合理的温度控制方法,把温度控制在一定的范围内才能满足化学机械抛光的工艺要求。通过化学机械抛光机理分析阐述了抛光过程中热量产生的根源,介绍了一种温度控制系统的设计原理,并通过抛光实验验证并说明了温度控制的必要性。 展开更多
关键词 抛光盘 温度控制 抛光实验
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复合超声振动游离磨料抛光技术及其实验研究 被引量：1
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作者 万宏强 张志斌 +1 位作者 江剑 张超 《消费导刊》 2012年第6期122-123,共2页
本文针对超光滑表面的需求，提出了一种游离磨料振动强化抛光加工方法，该抛光方法以游离磨料作为介质，在抛光过程中加以超声空化作用的辅助，加上工件的高速振动，使流体分子或微细磨拳斗粒子能不断冲击工件表面，从而获得超光滑表面... 本文针对超光滑表面的需求，提出了一种游离磨料振动强化抛光加工方法，该抛光方法以游离磨料作为介质，在抛光过程中加以超声空化作用的辅助，加上工件的高速振动，使流体分子或微细磨拳斗粒子能不断冲击工件表面，从而获得超光滑表面。进行了相关实验，并得出了一系列结论。 展开更多
关键词 振动抛光 游离磨料 抛光实验
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