采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能...采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能力增强,并分析了其抗光损伤能力增强的机理.结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果.展开更多
文摘采用提拉法生长了不同Li/Nb(Li/Nb=0.94,1.05,1.20 and 1.38)的Mg:Ho:LiNbO3单晶.测试了Mg:Ho:LiNbO3晶体的双折射梯度和抗光损伤能力.实验结果表明:Li/Nb=1.38的Mg:Ho:LiNbO3晶体有较好的光学均匀性,随着Li/Nb比的增加,晶体抗光损伤能力增强,并分析了其抗光损伤能力增强的机理.结合LiNbO3晶体的锂空位缺陷模型和占位机制解释了相关实验结果.