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硅片排列方式对扩散均匀性的影响
被引量：
3
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作者
刘秀喜
孙瑛
+1 位作者
陈刚
赵玉仁
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第5期30-34,共5页
在气相镓杂质扩散中,通过实验和生产实践表明,硅片在石英舟上不同的排列方式,对杂质扩散均匀性产生不同的影响,本文从机理上进行了分析和讨论。
关键词
硅片
扩散
均
性
排列方式
下载PDF
职称材料
题名
硅片排列方式对扩散均匀性的影响
被引量：
3
1
作者
刘秀喜
孙瑛
陈刚
赵玉仁
机构
山东师范大学半导体所
山东济宁硅元件厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992年第5期30-34,共5页
文摘
在气相镓杂质扩散中,通过实验和生产实践表明,硅片在石英舟上不同的排列方式,对杂质扩散均匀性产生不同的影响,本文从机理上进行了分析和讨论。
关键词
硅片
扩散
均
性
排列方式
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
硅片排列方式对扩散均匀性的影响
刘秀喜
孙瑛
陈刚
赵玉仁
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1992
3
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职称材料
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