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扩展电阻技术在硅、硅基材料测试中的应用 被引量:1
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作者 吴晓虹 闵靖 《半导体杂志》 2000年第1期10-13,共4页
本文利用扩展电阻技术对半导体硅、硅基材料进行测试分析 ,从而用以开发新材料和评估材料的质量。
关键词 硅基材料 扩展电阻技术 测试
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半导体材料
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《电子科技文摘》 2000年第7期5-6,共2页
Y2000-62096-227 0010753静态 RAM 的制作从体硅到空间耗尽型绝缘体上硅=Converting a SRAM from bulk Si to partially depletedSOI[会,英]/Wood,M.& Smith,G.//Proceedings ofthe IEEE 1999 Custom Integrated Circuits Confer-en... Y2000-62096-227 0010753静态 RAM 的制作从体硅到空间耗尽型绝缘体上硅=Converting a SRAM from bulk Si to partially depletedSOI[会,英]/Wood,M.& Smith,G.//Proceedings ofthe IEEE 1999 Custom Integrated Circuits Confer-ence.—227~230(UC) 展开更多
关键词 半导体材料 绝缘体上硅技术 生长技术 扩展电阻技术 耗尽型 电子技术应用 半导体超晶格 外延 体硅 会议录
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研磨倾斜角度对扩展电阻测试量值的影响
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作者 吴晓虹 闵靖 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第1期98-100,共3页
讨论了在检测半导体器件和集成电路芯片时 ,不同研磨倾斜角度对扩展电阻量值的影响。
关键词 扩展电阻技术 倾斜角 扩散 离子注入 半导体器件 集成电路 研磨
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用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量硅中注入硼的深度分布及扩展电阻探针技术分辨率的估算 被引量:1
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作者 杨恒青 颜佳骅 +1 位作者 陈俭 曹永明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期290-297,共8页
利用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量了硅中注入硼的深度分布 .在适当的测量深度 ,用扩展电阻探针技术测得的结果对二次离子质谱技术测量的结果进行了标定 ,从而得到硅片中硼原子的深度分布 .用近似模型估算了扩展电阻探针针尖半径... 利用二次离子质谱和扩展电阻探针技术测量了硅中注入硼的深度分布 .在适当的测量深度 ,用扩展电阻探针技术测得的结果对二次离子质谱技术测量的结果进行了标定 ,从而得到硅片中硼原子的深度分布 .用近似模型估算了扩展电阻探针针尖半径对测试分辨率的影响 .若探针针尖半径为r0 ,测量斜面的角度为 ξ ,在用扩展电阻探针技术测量载流子浓度的深度分布时 ,可以近似认为深度分辨率为 7 86r0 sinξ.还定性讨论了样品表面耗尽层对扩展电阻探针技术的影响 . 展开更多
关键词 扩展电阻探针技术 深度分布 分辨率 二次离子质谱 硼离子注入
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