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一种新型微透镜阵列成象式投影光刻系统的研究 被引量：7
1
作者 崔崧 高应俊 +1 位作者 阮驰 郝爱花 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期769-773,共5页
从理论和实验两方面入手 ,系统地研究了微透镜阵列的形成原理和制作工艺 ,分析了微透镜阵列的面形结构 ,得到了联系微透镜阵列矢高与制作工艺参量的经验公式 .并且将四片微透镜阵列耦合 ,形成一个深紫外光刻的 1 :1成象的多孔径微小光... 从理论和实验两方面入手 ,系统地研究了微透镜阵列的形成原理和制作工艺 ,分析了微透镜阵列的面形结构 ,得到了联系微透镜阵列矢高与制作工艺参量的经验公式 .并且将四片微透镜阵列耦合 ,形成一个深紫外光刻的 1 :1成象的多孔径微小光刻系统 .从几何光学理论出发 ,分析了这个光刻系统综合成象的特点 ,讨论了这种光刻系统的光学性能 。 展开更多
关键词 成象式投影光刻系统 微透镜阵列 光刻胶熔融法 离子束刻蚀法 形成原理 制作工艺 超大规模集成电路
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