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全反射式宽光谱成像椭偏仪 被引量：1
1
作者 姜春光 谌雅琴 +3 位作者 刘涛 熊伟 李国光 纪峰 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期55-59,共5页
本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的研制。在系统校准过程中采用多样品校准方法,利用校准得到的系统参数对待测样品进行成像椭偏分析,确定样品椭偏角ψ和s及薄膜厚度的空间分布。... 本论文采用全反射式光学聚焦结构,通过独特的偏振控制技术,实现宽光谱、无色差成像椭偏仪的研制。在系统校准过程中采用多样品校准方法,利用校准得到的系统参数对待测样品进行成像椭偏分析,确定样品椭偏角ψ和s及薄膜厚度的空间分布。为测试自制成像椭偏仪的准确性,本文对3 nm^300 nm的Si O2/Si样品在200 nm^1 000 nm内多波长下进行成像椭偏测量。实验结果表明,Si O2薄膜厚度最大相对测量误差小于6%。 展开更多
关键词 成像椭偏仪 薄膜 椭偏测量
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穆勒矩阵成像椭偏仪误差源的简化分析方法 被引量：7
2
作者 孟泽江 李思坤 +3 位作者 王向朝 步扬 戴凤钊 杨朝兴 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第9期148-159,共12页
针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒矩阵测量误差与误差源参数之间的线性模型。针对解析式复杂的随机方位角误差,从统计学角度提出了一种等... 针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒矩阵测量误差与误差源参数之间的线性模型。针对解析式复杂的随机方位角误差,从统计学角度提出了一种等效噪声模型以分析其对测量结果的影响。采用上述简化方法系统分析了椭偏仪的6种系统误差源和2种随机误差源对穆勒矩阵测量结果的影响,并以一个典型光刻投影物镜的穆勒光瞳为检测对象,进行了检测仿真。仿真结果验证了所提方法分析的准确性。 展开更多
关键词 成像系统 光刻 偏振像差检测 穆勒矩阵成像椭偏仪 误差分析
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基于Mueller矩阵成像椭偏仪的纳米结构几何参数大面积测量 被引量：5
3
作者 陈修国 袁奎 +4 位作者 杜卫超 陈军 江浩 张传维 刘世元 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第7期69-79,共11页
为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学... 为了实现有效的工艺监控,在批量化纳米制造中对纳米结构的关键尺寸等几何参数进行快速、低成本、非破坏性的精确测量具有十分重要的意义.光学散射仪目前已经发展成为批量化纳米制造中纳米结构几何参数在线测量的一种重要手段.传统光学散射测量技术只能获得光斑照射区内待测参数的平均值,而对小于光斑照射区内样品的微小变化难以准确分析.此外,由于其只能进行单点测试,必须要移动样品台进行扫描才能获得大面积区域内待测参数的分布信息,从而严重影响测试效率.为此,本文将传统光学散射测量技术与显微成像技术相结合,提出利用Mueller矩阵成像椭偏仪实现纳米结构几何参数的大面积快速准确测量.Mueller矩阵成像椭偏仪具有传统Mueller矩阵椭偏仪测量信息全、光谱灵敏度高的优势,同时又有显微成像技术高空间分辨率的优点,有望为批量化纳米制造中纳米结构几何参数提供一种大面积、快速、低成本、非破坏性的精确测量新途径. 展开更多
关键词 纳米结构 纳米测量 光学散射测量 Mueller矩阵成像椭偏仪
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