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头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极上的电化学行为及其痕量测定
1
作者 顾海鹰 孙登明 +1 位作者 俞爱民 陈洪渊 《南通医学院学报》 1996年第4期464-467,共4页
应用循环伏安法（ＣＶ）和示差脉冲吸附阴极溶出伏安法（ＤＰＡｄＣＳＶ），研究头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极（ＨＣＡＤＭＥ）上的电化学行为及电极反应机理，发现头孢唑啉钠与Ｃｕ（Ⅱ）形成配比为１∶１的配合物，并吸附在ＨＣＡＤＭ... 应用循环伏安法（ＣＶ）和示差脉冲吸附阴极溶出伏安法（ＤＰＡｄＣＳＶ），研究头孢唑啉钠在悬铜汞齐微电极（ＨＣＡＤＭＥ）上的电化学行为及电极反应机理，发现头孢唑啉钠与Ｃｕ（Ⅱ）形成配比为１∶１的配合物，并吸附在ＨＣＡＤＭＥ上，反应电子数为２。并建立了示差脉冲吸附阴极溶出伏安法（ＤＰＡｄＣＳＶ）测定痕量头孢唑啉钠的灵敏方法。其测定的线性范围为６×１０￣（－１）～１×１０￣（－９）ｍｏｌ／Ｌ；检测限约为４×１０￣（－１０）ｍｏｌ／Ｌ（ｔ＿（ａｃ）＝１２０ｓ）。本法用于注射剂中该物质的测定，结果满意。用本法直接测定尿中头孢唑啉钠是可能的。 展开更多
关键词 悬铜汞齐微电极 头孢唑啉钠 伏安法 药物分析
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