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题名PLD法制备BiFeO_3薄膜及其性能研究
被引量：6
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作者
黄艳芹
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机构
新乡学院化学与化工学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第10期1469-1471,共3页
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基金
国家自然科学基金资助项目(11074066)
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文摘
采用快速等离子烧结法(SPS)制得纯相BiFeO3靶材,利用脉冲激光沉积(PLD)法将其沉积在Si(100)衬底上,制得BiFeO3薄膜。通过调节各种工艺参数,在沉积温度650℃,氧压2Pa,靶基距5cm,脉冲激光频率7Hz、激光能量350mJ条件下获得了高择优取向、高结晶度的BiFeO3薄膜。在此工艺条件下,又制备了不同厚度的BiFeO3薄膜。用XRD、SEM等手段对薄膜相和形貌进行了表征。结果表明,制备的薄膜有较高的形貌质量,薄膜的铁电、铁磁性能呈现出与厚度的强相关性;其中300nm厚的薄膜质量最好。
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关键词
多铁性
BIFEO3
快速等离子烧结
铁电铁磁性
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Keywords
multiferroic
BiFeO3
spark plasma sintering （SPS）
ferromagnetic and ferroelectric properties
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分类号
TM28
[一般工业技术—材料科学与工程]
TB33
[电气工程—电工理论与新技术]
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