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大幅面超薄基板表面微结构光学器件的微纳米压印关键技术分析
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作者 李明 丁进新 《电子技术（上海）》 2023年第8期14-15,共2页
阐述大幅面超薄基板表面微结构光学器件的微纳米压印关键技术特点,分析光学纳米微结构器件布序软件和光刻直写设备技术的应用,提出了一套新型的布序策略和高效的直写技术。
关键词 大幅面超薄基板 微结构光学器件 微纳米压印
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