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类富勒烯纳米晶CN_x薄膜及其场致电子发射特性 被引量：6
1
作者 张兰 马会中 +4 位作者 李会军 杨仕娥 姚宁 胡欢陵 张兵临 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第3期883-887,共5页
利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx 薄膜 ,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx 薄膜的微结构和成分进行了分析 .研究了其场致电子发射特性 .发现薄膜的结构和场发射... 利用微波等离子体增强化学气相沉积技术制备出了CNx 薄膜 ,并利用x射线光电子能谱、x射线衍射、扫描电子显微镜和Raman光谱等测试手段对所制备的CNx 薄膜的微结构和成分进行了分析 .研究了其场致电子发射特性 .发现薄膜的结构和场发射特性与反应系中的甲烷、氮气及氢气的流量比有关 ,当甲烷、氢气及氮气流量比为 8 5 0 5 0sccm时 ,制备的薄膜具有弯曲层状的纳米石墨晶体结构 (类富勒烯结构 )和很好的场发射特性 .场发射阈值电场降低至 1 1V μm .当电场为 5 9V μm时 ,平均电流密度达 70 μA cm2 ,发射点密度大于 1× 10 4 cm- 2 . 展开更多
关键词 类富勒烯 微波等离子体增强化学气相沉积技术 碳氮薄膜 薄膜生长 场致电子发射 扫描电子显微镜 RAMAN光谱
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