企业畅谈车模布局经验

1

作者 郁凡 《中外玩具制造》 2024年第7期16-17,共2页

模型车模企业与玩具车模企业针对车模的定位、要求、销售、宣传等都有各自的差异。本文选择了两类代表企业,邀请其分享打造车模的做法与经验。TINY微影:打造收藏玩乐模型作为近年发展迅速的车模品牌,TINY微影(下称“微影”)在车模圈有... 模型车模企业与玩具车模企业针对车模的定位、要求、销售、宣传等都有各自的差异。本文选择了两类代表企业,邀请其分享打造车模的做法与经验。TINY微影:打造收藏玩乐模型作为近年发展迅速的车模品牌,TINY微影(下称“微影”)在车模圈有着较高的关注度和讨论度。企业传讯及公共关系经理郑浩聪介绍说:“微影诞生于中国香港,是东方玩具有限公司旗下品牌,于2013年成立。以‘传承香港情怀、说好香港故事’为宗旨,品牌致力开发及生产极具香港特色的玩具,近年亦往内地公交车辆方向发展。” 展开更多

关键词 玩具车 车模 公共关系 中国香港 公交车辆 微影 做法与经验 品牌

下载PDF 职称材料

EUV光刻工艺全球专利发展态势研究 被引量：2

2

作者 王丹 车晓璐 《中国发明与专利》 2016年第9期54-59,共6页

EUV光刻正在成为引领集成电路光刻技术发展的最具潜力的技术。本文围绕EUV光刻工艺技术领域的专利申请发展趋势、区域分布、主要申请人以及重点技术等几个方面对其全球专利申请的发展态势和布局情况进行研究,以期对政府决策和企业发展... EUV光刻正在成为引领集成电路光刻技术发展的最具潜力的技术。本文围绕EUV光刻工艺技术领域的专利申请发展趋势、区域分布、主要申请人以及重点技术等几个方面对其全球专利申请的发展态势和布局情况进行研究,以期对政府决策和企业发展战略的制定提供参考和帮助。 展开更多

关键词 EUV EUVL 极紫外 极紫光 光刻 微影

下载PDF 职称材料

半导体工业用高纯度气体与化学品的应用 被引量：1

3

作者 段定夫 《集成电路应用》 2003年第4期56-60,72,共6页

1前言本文将就高纯度材料中具关键代表性之高纯度气体与化学品在半导体制程中的相关应用作一概略性的介绍。气体和化学品与超纯水类似,同为半导体制程中不可或缺之高纯度流体原料。气体和化学药品合计约占半导体材料成本之1/3(其余为硅... 1前言本文将就高纯度材料中具关键代表性之高纯度气体与化学品在半导体制程中的相关应用作一概略性的介绍。气体和化学品与超纯水类似,同为半导体制程中不可或缺之高纯度流体原料。气体和化学药品合计约占半导体材料成本之1/3(其余为硅芯片,光阻,溅镀靶等)。 展开更多

关键词 半导体工业 高纯度气体 高纯度化学品 应用 硅芯片制造 清洗 氧化 掺杂 微影 蚀刻

下载PDF 职称材料

基于微影创作构建中小学校园文化建设的策略

4

作者 林锦芬 《中国科技期刊数据库 科研》 2023年第9期68-71,共4页

随着社会、经济和科技不断发展,人们生活节奏不断加快,周围环境日益碎片化,催生出一大批以“微”为核心的事物,而“微影”就是其中很受欢迎的内容。在当前素质教育逐步深化的形势下,小学校园文化日益为社会所关注。在微时代背景下,许多... 随着社会、经济和科技不断发展,人们生活节奏不断加快,周围环境日益碎片化,催生出一大批以“微”为核心的事物,而“微影”就是其中很受欢迎的内容。在当前素质教育逐步深化的形势下,小学校园文化日益为社会所关注。在微时代背景下,许多学校也开始把“微影”这一新兴产品运用到校园文化建设中,运用其所具有的时代性、开放性、创新性等特点,为校园文化带来了更多实用价值。校园文化是一所学校健康发展的重要保证,微电影艺术走进学校,为学习提供崭新的发展途径,对学习发展起到了积极作用。文章从微影应用价值出发,将微影与校园文化融为一体,致力于使之成为一种新的“助手”,从而推动学生与学校文化的可持续发展。 展开更多

关键词 微影 校园文化 策略 价值 方法

下载PDF 职称材料

微影技术架构实践之路

5

作者 杨森淼 《现代电影技术》 2017年第5期40-43,共4页

本文解析了北京微影时代文化传媒有限公司的研发团队在微影业务大量增长的情况下,首先利用动静分离、读写分离、事件驱动、服务可扩展、建立合理索引、降低请求延迟,然后对流量进行"多层次过滤",最后建立微服务架构的过程。

关键词 微影 微服务架构 技术架构 实践

下载PDF 职称材料

微影用户中心性能调优探索与实践

6

作者 靳松 《现代电影技术》 2016年第12期38-42,共5页

本文解析了微影时代微票儿基础业务组件部在用户中心性能调优方面的探索和实践,通过Redis被动缓存、分库分表、使用Jersey Servlet、JSON解析性能优化、业务容器性能优化和日志性能优化的方法实现了对用户中心性能的优化。

关键词 微影 用户中心 优化

下载PDF 职称材料

微电铸技术及其工艺优化进展研究 被引量：18

7

作者 李冠男 黄成军 +3 位作者 罗磊 郭旻 于中尧 于军 《微细加工技术》 EI 2006年第6期1-5,27,共6页

随着微机电系统(MEMS)和微影微电铸微模铸(LIGA)两种技术的发展,微电铸工艺正逐渐展现着其独特的魅力和发展潜力。然而,现有工艺中存在的缺陷也严重阻碍了其进一步发展。因此,对微电铸工艺进行深入研究,突破其工艺瓶颈,将对微加工工艺... 随着微机电系统(MEMS)和微影微电铸微模铸(LIGA)两种技术的发展,微电铸工艺正逐渐展现着其独特的魅力和发展潜力。然而,现有工艺中存在的缺陷也严重阻碍了其进一步发展。因此,对微电铸工艺进行深入研究,突破其工艺瓶颈,将对微加工工艺的应用和推广起着重要作用。着眼于目前微电铸工艺中存在的不足,从工艺缺陷的理论形成机理出发,总结了近期微电铸领域在工艺缺陷的改进方面所做出的努力及成果,并对微电铸工艺未来的发展趋势提出了一些看法。 展开更多

关键词 微电铸工艺 微影微电铸微模铸 微机电系统 选择性射流电铸

下载PDF 职称材料

EUV微影技术与7nm工艺 被引量：8

8

作者 麦利 《集成电路应用》 2016年第4期24-25,共2页

集成电路的制造技术下一步将进入7nm节点,业界期待极紫外光(EUV)微影技术的成熟并广泛推广应用,期望EUV能用来制造更小、更便宜的晶片。数据表明,EUV仍然缺少具有高功率,足够可靠的光源来保证目前晶圆厂每天所要求的晶圆产能。

关键词 集成电路制造 微影技术 EUV 7nm工艺

下载PDF 职称材料

砷化镓与硅半导体制造工艺的差异分析 被引量：2

9

作者 黄国洲 张翼 哈建宇 《电子测试》 2003年第9期45-53,共9页

半导体材料可分为由单一元素构成的元素半导体与两种以上元素化合物所构成的化合物半导体两类,前者如硅(Silicon)、锗(Germanium)等所形成的半导体,后者如砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)、磷化铟(Indium Phospide,Inp)等化合物形成的半... 半导体材料可分为由单一元素构成的元素半导体与两种以上元素化合物所构成的化合物半导体两类,前者如硅(Silicon)、锗(Germanium)等所形成的半导体,后者如砷化镓(Gallium Arsenide,GaAs)、磷化铟(Indium Phospide,Inp)等化合物形成的半导体。在过去以个人计算机为应用主轴的时期,全球半导体产业皆以硅材料为发展重心。由于硅元素先天上的物理限制,传统的硅——互补金氧半导体(Complementary Metal OxideSemiconductor,CMOS)制造工艺较无法胜任处理1GHz以上的高频信号,近两三年来,在通讯应用半导体的需求急增后,特别是对于高工作频率、高放大率与低噪声等条件极为要求的无线通讯IC而言,三五族化合物半导体砷化镓的材料与制造工艺的需求便格外受到重视。 展开更多

关键词 砷化镓 硅 半导体制造工艺 主动层 微影制造 金属化制造 离子布植 蚀刻

下载PDF 职称材料

数字缩微技术——数字成像技术进展(三) 被引量：3

10

作者 晏磊 钟斌 王建民 《影像技术》 CAS 2002年第1期1-6,36,共7页

数字缩微属于数字成像中静态获取(输入)技术范畴。本文比较了模拟缩微与数字缩微技术的各自特点,综述了国内外缩微技术的发展情况。论述了数字缩微技术研究的必要性,提出了研究的难点和关键技术。最后介绍了作者较新的研究成果,并针对... 数字缩微属于数字成像中静态获取(输入)技术范畴。本文比较了模拟缩微与数字缩微技术的各自特点,综述了国内外缩微技术的发展情况。论述了数字缩微技术研究的必要性,提出了研究的难点和关键技术。最后介绍了作者较新的研究成果,并针对不同应用领域进行了方案设计。 展开更多

关键词 数字缩微 图像获取 数字成像技术 模拟缩微 缩微微影 缩微胶片 信息存储技术

下载PDF 职称材料

193纳米微影湿浸式技术暂居较佳发展位置

11

作者 陈俊儒 《电子测试》 2004年第2期1-5,共5页

微影工艺技术在IC制造中一直扮演着举足轻重的角色,随着IC产品技术需求的提升,微影技术也需不断地提高分辨率以制作更微小的特征尺寸(feature size)。为符合未来65纳米以下阶段的需求,微影设备供货商也极力开发新的光学及非光学微影技... 微影工艺技术在IC制造中一直扮演着举足轻重的角色,随着IC产品技术需求的提升,微影技术也需不断地提高分辨率以制作更微小的特征尺寸(feature size)。为符合未来65纳米以下阶段的需求,微影设备供货商也极力开发新的光学及非光学微影技术。但因2003年5月Intel宣布不导入157纳米微影设备于65纳米工艺,将继续使用193纳米微影技术进行65纳米及45纳米工艺,并计划导入极短紫外光(EUV)微影设备,用于32纳米工艺。此举导致先进厂商对微影技术的发展方向看法分歧,ITRS亦于2003年12月研讨会中大幅度修正2001年所发表的微影技术预测(如表1所示)。经学术界与产业界的研究与评估,65纳米以下阶段最具潜力的微影技术,分别是193纳米微影湿浸式技术(Liquid Immersion)、157纳米微影、极短紫外光(Extreme Ultraviolet;EUV)微影以及投影式电子束微影技术 (Electronbeam Projection lithography;EPL)。 展开更多

关键词 IC制造 193纳米 微影湿浸式技术 特征尺寸 极短紫外光微影 投射式电子束微影技术

下载PDF 职称材料

以美拍为代表的微影技术传播特点的分析 被引量：1

12

作者 余圆亚 《新闻研究导刊》 2017年第12期281-281,295,共2页

随着互联网的发展,单纯的图文传递信息的方式已不能满足人们日常生活的传播需求,而以短视频为代表的微影技术的传播则在一定程度上解决了这一问题。美拍作为最大的移动短视频社交平台,其以自己独特的内容形式吸引着用户的眼光,并逐渐成... 随着互联网的发展,单纯的图文传递信息的方式已不能满足人们日常生活的传播需求,而以短视频为代表的微影技术的传播则在一定程度上解决了这一问题。美拍作为最大的移动短视频社交平台,其以自己独特的内容形式吸引着用户的眼光,并逐渐成为了一个现象级的传播平台。美拍秉持高颜值手机直播加超火爆原创视频的理念,乘借微影技术的东风,成功在市场上占得了一席之地。而美拍作为微影技术的最佳代表,也从传播方式、媒介关系、视频内容、用户特征等多个方面来诠释微影技术传播的特点。 展开更多

关键词 美拍 短视频 微影技术 传播特点

下载PDF 职称材料

芯片制造过程中的微影技术

13

作者 周建民 《集成电路应用》 2015年第2期36-37,共2页

半导体工业在光学微影技术的帮助下,长期形成持续且快速的成长态势,但光学微影在面对更精密的工艺流程已开始出现应用瓶颈,尤其在小于0.1微米或更精密的工艺流程,必须使用先进光学微影或非光学微影术予以克服。

关键词 集成电路 制造工艺 微影技术

下载PDF 职称材料

重回摩尔定律两大武器:EUV和三五族 成大势所趋

14

《半导体信息》 2016年第2期2-3,共2页

英特尔在14纳米及10纳米制程推进出现延迟，已影响到处理器推出时程，也让业界及市场质疑：摩尔定律是否已达极限。不过，英特尔仍积极寻求在7纳米时代重回摩尔定律的方法，其中两大武器，分别是被视为重大微影技术世代交替的极紫外光（... 英特尔在14纳米及10纳米制程推进出现延迟，已影响到处理器推出时程，也让业界及市场质疑：摩尔定律是否已达极限。不过，英特尔仍积极寻求在7纳米时代重回摩尔定律的方法，其中两大武器，分别是被视为重大微影技术世代交替的极紫外光（EUV），以及开始采用包括砷化铟镓（InGaAs）及磷化铟（InP）等三五族半导体材料。 展开更多

关键词 摩尔定律 武器 EUV 纳米制程 半导体材料 纳米时代 世代交替 微影技术

原文传递

半导体产业微影技术之关键材料——光刻胶

15

作者 潘家立 陶玉柱 《集成电路应用》 2003年第3期55-56,共2页

随着半导体器件细微化及集成度的不断提高,微影制程之关键材料——光刻胶已逐步从负型转向正型,再由G-line走向I-line甚至于DUV,永光化学公司已经可以向客户提供适用大于0.8微米制程的G-line光刻胶,以及目前最小可用于0.35微米制程的I-l... 随着半导体器件细微化及集成度的不断提高,微影制程之关键材料——光刻胶已逐步从负型转向正型,再由G-line走向I-line甚至于DUV,永光化学公司已经可以向客户提供适用大于0.8微米制程的G-line光刻胶,以及目前最小可用于0.35微米制程的I-line光刻胶,并已在DUV的研发中取得进展。由于光刻胶性能对于半导体微影效果具直接影响,为协助半导体制造厂对先进制程的要求,永光化学公司将持续开发以提供最新的解决方案。 展开更多

关键词 半导体产业 微影技术 光刻胶

下载PDF 职称材料

DNA微阵列与传染病研究

16

作者 James Netterwaldbosh 贾芸（译） 《生物技术世界》 2006年第5期16-18,共3页

15年前，加州Affymax公司研究人员史蒂文·福多尔等人在《科学》上发表一篇里程碑式的论文，勾勒了微影技术和微阵列分析的基本原理。5年以后，福多尔及其同事首次报道了线粒体的DNA芯片，如今，微阵列已经成为基因组研究中广泛应... 15年前，加州Affymax公司研究人员史蒂文·福多尔等人在《科学》上发表一篇里程碑式的论文，勾勒了微影技术和微阵列分析的基本原理。5年以后，福多尔及其同事首次报道了线粒体的DNA芯片，如今，微阵列已经成为基因组研究中广泛应用的支柱性技术，在疾病的基因表达，高通量基因型操作，绘制基因调控通路和许多其他研究中帮助解决基本的生物学问题，本期的微阵列专题，将重点介绍微阵列技术在疾病研究中的应用进展情况。 展开更多

关键词 DNA微阵列 传染病 微影技术 微阵列分析 DNA芯片 微阵列技术 《科学》 研究人员

原文传递

跨越微阵列数据山峰

17

作者 戴伯·詹森 蔡伦（译） 《生物技术世界》 2006年第5期27-29,18,共4页

15年前，加州Affymax公司研究入员史蒂文·福多尔等人在《科学》上发表一篇里程碑式的论文，勾勒了微影技术和微阵列分析的基本原理。5年以后,福多尔及其同事首次报道了线粒体的DNA芯片，一场新的革命开始了！

关键词 微阵列分析 DNA芯片 《科学》 微影技术 线粒体

原文传递

理论微影的价值和意义——沈阳工程学院媒体化实践教学方法案例

18

作者 王永峰 《人力资源管理》 2016年第2期121-122,共2页

理论微影是新媒体发展受大众喜欢的学习科学文化的视频,制作简单,易于传播,其科普价值和教育意义深远有效,尤其是人文社会科学和哲学性质的思想理论,其抽象难懂普及不广的局限性,在理论微影方式下,有明显克服作用。效果优越于现今流行的... 理论微影是新媒体发展受大众喜欢的学习科学文化的视频,制作简单,易于传播,其科普价值和教育意义深远有效,尤其是人文社会科学和哲学性质的思想理论,其抽象难懂普及不广的局限性,在理论微影方式下,有明显克服作用。效果优越于现今流行的mooc或微课。 展开更多

关键词 理论微影 理论微视 理性具体

下载PDF 职称材料

基于六标准差的PCB微影制程的改善

19

作者 蒋清泉 林玉成 +1 位作者 陈青兰 刘皓 《厦门理工学院学报》 2017年第6期22-27,共6页

为改善微影制程断路缺口不良率的问题,基于六标准差品质改善方案的5大流程,以某典型印制电路板公司持续改进的微影制程为研究对象,筛选出造成微影制程不良的5个主要因子,并通过全因子实验设计进行参数最佳组合,最后设定5个主要因子对应... 为改善微影制程断路缺口不良率的问题,基于六标准差品质改善方案的5大流程,以某典型印制电路板公司持续改进的微影制程为研究对象,筛选出造成微影制程不良的5个主要因子,并通过全因子实验设计进行参数最佳组合,最后设定5个主要因子对应的最佳压膜机标准化参数:压膜速度为2.0 m/min,压膜压力为0.4 MPa,压膜温度为120℃,预热温度为100℃,后热温度为110℃。实施之后,断路缺口不良率由原来的3.80%降低到2.53%,微影制程不良率得以有效改善。 展开更多

关键词 六标准差 印制电路板 微影制程 工艺改善 全因子实验

下载PDF 职称材料

这本书和这个时代——《微影筑梦》读后

20

作者 廖全京 《四川戏剧》 北大核心 2014年第1期102-102,108,共2页

四川传媒学院的陈祖继、刘彤、王宁等最近推出了《微影筑梦——微故事片创作初探》，这本书是一本与我们这个时代紧密相关的书。

关键词 故事片 《微影筑梦》 读后感 影视评论

原文传递