期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
IGCT器件的光刻技术
1
作者 戴小平 熊红云 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期470-473,共4页
主要介绍了集成门极换流晶闸管(IGCT)的光刻技术。IGCT器件的光刻次数多,精度要求高,如何保证光刻质量是关键。根据IGCT光刻的特点,从光刻机的性能、光刻胶的选用以及刻蚀工艺改进着手,进行了大量的研究工作,较好地保证了IGCT的光刻质量... 主要介绍了集成门极换流晶闸管(IGCT)的光刻技术。IGCT器件的光刻次数多,精度要求高,如何保证光刻质量是关键。根据IGCT光刻的特点,从光刻机的性能、光刻胶的选用以及刻蚀工艺改进着手,进行了大量的研究工作,较好地保证了IGCT的光刻质量,使芯片梳条废条率低于万分之二,促成了IGCT器件的研制成功。 展开更多
关键词 集成门极换流晶闸管器件 光刻 废条率
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部