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晶格畸变分析及其在半导体量子点结构中的应用(英文)
1
作者
金能韫
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006年第3期190-199,共10页
在适当的成像条件下可以直接从高分辨透射电子像(HRTEM)以接近原子级的分辨率进行晶格畸变分析。本综述介绍晶格畸变分析(LADIA)程序包及其在半导体自组装量子点(QD)系统中的应用。对多层InP小QD系统中畸变分布的分析表明:光致发光(PL)...
在适当的成像条件下可以直接从高分辨透射电子像(HRTEM)以接近原子级的分辨率进行晶格畸变分析。本综述介绍晶格畸变分析(LADIA)程序包及其在半导体自组装量子点(QD)系统中的应用。对多层InP小QD系统中畸变分布的分析表明:光致发光(PL)能量峰位的红移和QD中的应变弛豫直接相关。在慢速生长的InAs大QD系统中应变引起的元素互溶是PL峰位蓝移的主要因素。多层系统中QD的垂直叠合可解释为间隔层厚度低于临界值时生长前沿的横向张应变的作用。研究了生长以后不同条件快速退火对QD稳定性的影响,观测到垂直叠合的InP QD中出现各向异性的退火不稳定性。
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关键词
高分辨透射电子术(HRTEM)
定量高分辨透射电子术
应变
像
半导体量子点
光致发光
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职称材料
题名
晶格畸变分析及其在半导体量子点结构中的应用(英文)
1
作者
金能韫
机构
Max-Planck-Institut fuer Metallforschung
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006年第3期190-199,共10页
文摘
在适当的成像条件下可以直接从高分辨透射电子像(HRTEM)以接近原子级的分辨率进行晶格畸变分析。本综述介绍晶格畸变分析(LADIA)程序包及其在半导体自组装量子点(QD)系统中的应用。对多层InP小QD系统中畸变分布的分析表明:光致发光(PL)能量峰位的红移和QD中的应变弛豫直接相关。在慢速生长的InAs大QD系统中应变引起的元素互溶是PL峰位蓝移的主要因素。多层系统中QD的垂直叠合可解释为间隔层厚度低于临界值时生长前沿的横向张应变的作用。研究了生长以后不同条件快速退火对QD稳定性的影响,观测到垂直叠合的InP QD中出现各向异性的退火不稳定性。
关键词
高分辨透射电子术(HRTEM)
定量高分辨透射电子术
应变
像
半导体量子点
光致发光
Keywords
high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM)
quantitative HRTEM
strain mapping
semiconductor quantum dot
photoluminescence
分类号
O471.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
晶格畸变分析及其在半导体量子点结构中的应用(英文)
金能韫
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2006
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