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InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究
1
作者
丁国庆
魏铭鉴
+1 位作者
孙文华
崔光杰
《光通信研究》
1995年第2期30-34,共5页
双晶衍射摇摆曲线的全面分析需用计算机模拟高木方程才能得到,其信息广但不直观。本文讨论了MOCVD外延片X射线衍射中的干涉指纹,指出了用干涉指纹测试薄膜厚度的精确性,讨论了干涉指纹出现的一些特征,使能直观地得到一些外延...
双晶衍射摇摆曲线的全面分析需用计算机模拟高木方程才能得到,其信息广但不直观。本文讨论了MOCVD外延片X射线衍射中的干涉指纹,指出了用干涉指纹测试薄膜厚度的精确性,讨论了干涉指纹出现的一些特征,使能直观地得到一些外延片的结构信息,为识别和正确使用干涉指纹估算薄层厚度提供依据。
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关键词
摇摆曲线
干涉
指纹
化合物半导体
X射线衍射
下载PDF
职称材料
InGaAsP/InP异质外延材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹
2
作者
丁国庆
孙文华
+1 位作者
魏铭鉴
崔光杰
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期61-63,66,共4页
讨论了MOCVD外延膜X射线衍射摇摆曲线中干涉指纹的各种特征。指出了由干涉指纹测定薄膜厚度的精确性。研究了影响干涉指纹的因素,为正确识辨材料结构和改进生长工艺提供方便。
关键词
异质外延材料
摇摆曲线
干涉
指纹
化合物半导体
下载PDF
职称材料
光学薄膜参数、测试及设备
3
《中国光学》
EI
CAS
1996年第2期79-80,共2页
O484.5 96021260 InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究=The interference fringes of X-ray diffraction rocking curves from In-GaAsP/InPheteroepitaxy materials[刊,中]/丁国庆(武汉电信器件公司.湖北,武汉(4...
O484.5 96021260 InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究=The interference fringes of X-ray diffraction rocking curves from In-GaAsP/InPheteroepitaxy materials[刊,中]/丁国庆(武汉电信器件公司.湖北,武汉(430074)),魏铭鉴,孙文华(武汉工业大学。湖北,武汉(430070)),崔光杰(武汉纺织工学院。湖北,武汉(430074))∥光通信研究。—1995。(2)。
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关键词
干涉
指纹
异质结构材料
武汉
摇摆曲线
光通信
三次非线性极化率
类金刚石薄膜
测试
射线衍射
光学薄膜
下载PDF
职称材料
题名
InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究
1
作者
丁国庆
魏铭鉴
孙文华
崔光杰
机构
武汉电信器件公司
出处
《光通信研究》
1995年第2期30-34,共5页
基金
湖北省自然科学基金
文摘
双晶衍射摇摆曲线的全面分析需用计算机模拟高木方程才能得到,其信息广但不直观。本文讨论了MOCVD外延片X射线衍射中的干涉指纹,指出了用干涉指纹测试薄膜厚度的精确性,讨论了干涉指纹出现的一些特征,使能直观地得到一些外延片的结构信息,为识别和正确使用干涉指纹估算薄层厚度提供依据。
关键词
摇摆曲线
干涉
指纹
化合物半导体
X射线衍射
Keywords
Rocking curves, Interference fringes
分类号
TN304.205 [电子电信—物理电子学]
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
InGaAsP/InP异质外延材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹
2
作者
丁国庆
孙文华
魏铭鉴
崔光杰
机构
武汉电信器件公司
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第5期61-63,66,共4页
基金
湖北省自然科学基金
文摘
讨论了MOCVD外延膜X射线衍射摇摆曲线中干涉指纹的各种特征。指出了由干涉指纹测定薄膜厚度的精确性。研究了影响干涉指纹的因素,为正确识辨材料结构和改进生长工艺提供方便。
关键词
异质外延材料
摇摆曲线
干涉
指纹
化合物半导体
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
光学薄膜参数、测试及设备
3
出处
《中国光学》
EI
CAS
1996年第2期79-80,共2页
文摘
O484.5 96021260 InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究=The interference fringes of X-ray diffraction rocking curves from In-GaAsP/InPheteroepitaxy materials[刊,中]/丁国庆(武汉电信器件公司.湖北,武汉(430074)),魏铭鉴,孙文华(武汉工业大学。湖北,武汉(430070)),崔光杰(武汉纺织工学院。湖北,武汉(430074))∥光通信研究。—1995。(2)。
关键词
干涉
指纹
异质结构材料
武汉
摇摆曲线
光通信
三次非线性极化率
类金刚石薄膜
测试
射线衍射
光学薄膜
分类号
O434.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
InGaAsP/InP异质结构材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹研究
丁国庆
魏铭鉴
孙文华
崔光杰
《光通信研究》
1995
0
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职称材料
2
InGaAsP/InP异质外延材料X射线衍射摇摆曲线中的干涉指纹
丁国庆
孙文华
魏铭鉴
崔光杰
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
下载PDF
职称材料
3
光学薄膜参数、测试及设备
《中国光学》
EI
CAS
1996
0
下载PDF
职称材料
已选择
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引用分析
参考文献
引证文献
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