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EDA软件中的布局优化算法分析及其改进 被引量:1
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作者 李世平 战守义 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2003年第3期95-97,共3页
在深亚微米、超深亚微米工艺水平下的超大规模集成电路设计需要高性能的EDA(电子设计自动化,ElectricalDesignAutomation)软件的支持。与物理设计相关的布图设计中,布局设计是一个极为重要的环节。该文以FPGA(现场可编程门电路,FieldPro... 在深亚微米、超深亚微米工艺水平下的超大规模集成电路设计需要高性能的EDA(电子设计自动化,ElectricalDesignAutomation)软件的支持。与物理设计相关的布图设计中,布局设计是一个极为重要的环节。该文以FPGA(现场可编程门电路,FieldProgrammableGateArray)为例,分析和介绍了EDA中的布局算法,然后利用遗传模拟退火算法对原算法提出了改进,并在文章中介绍了改进后的算法。 展开更多
关键词 EDA软件 布局优化算法分析 超大规模集成电路 遗传算法 电子设计自动化 现场可编程门电路
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