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反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
被引量:
3
1
作者
陆建祖
魏红振
+4 位作者
李玉鉴
张永刚
林世鸣
余金中
刘忠立
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000年第4期420-424,共5页
以SF6 N2 混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 :在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型 ,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比 ,并且以仿真实验数据训...
以SF6 N2 混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 :在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型 ,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比 ,并且以仿真实验数据训练模型学习 ,模型具有通用性 ,与设备无关。
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关键词
人工神经网络
反应离子刻蚀
工艺
仿真
模型
原文传递
题名
反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
被引量:
3
1
作者
陆建祖
魏红振
李玉鉴
张永刚
林世鸣
余金中
刘忠立
机构
集成光电子学国家实验室中国科学院半导体所
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000年第4期420-424,共5页
基金
"8 63"资助项目!30 7- 15- 3( 0 8)
文摘
以SF6 N2 混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法 :在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型 ,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比 ,并且以仿真实验数据训练模型学习 ,模型具有通用性 ,与设备无关。
关键词
人工神经网络
反应离子刻蚀
工艺
仿真
模型
Keywords
Dry etching
Technology simulation
Artificial neural networl
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究
陆建祖
魏红振
李玉鉴
张永刚
林世鸣
余金中
刘忠立
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
2000
3
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参考文献
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