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用局域寿命控制技术改善功率快恢复二极管性能的仿真研究 被引量:4
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作者 吴鹤 吴郁 +1 位作者 亢宝位 贾云鹏 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期520-527,共8页
针对局域低寿命区的参数对快恢复硅功率二极管性能的影响进行了系统的仿真研究 ,得到了全面系统的研究结果 ,其中包括局域低寿命区在二极管中的位置不同和局域低寿命区中复合中心能级在禁带中的位置不同对快恢复二极管的反向恢复时间 ( ... 针对局域低寿命区的参数对快恢复硅功率二极管性能的影响进行了系统的仿真研究 ,得到了全面系统的研究结果 ,其中包括局域低寿命区在二极管中的位置不同和局域低寿命区中复合中心能级在禁带中的位置不同对快恢复二极管的反向恢复时间 ( trr)、反向恢复软度因子 ( S)、正向压降 ( VF)、漏电流 ( IR)等各个单项性能的影响 ,以及对 trr- S、trr- VF 和 trr- IR 等各项性能综合折衷的影响 .这些结果对高速功率器件寿命工程研究和器件制造工程都有重要的参考价值 . 展开更多
关键词 局域寿命控制 快恢复硅功率二极管 参数折衷 轴向位置 复合中心能级位置
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高压功率快恢复二极管的寿命控制研究 被引量:3
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作者 谢书珊 胡冬青 亢宝位 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期20-23,32,共5页
利用质子辐照感生的空位缺陷对铂原子的汲取作用,获得了局域寿命控制,辅以能量为4MeV电子辐照整体寿命控制技术,在具有低阳极发射效率结构的高压功率快恢复二极管中实现了更好的综合性能的优化。测试结果表明,此类快恢复二极管具有反向... 利用质子辐照感生的空位缺陷对铂原子的汲取作用,获得了局域寿命控制,辅以能量为4MeV电子辐照整体寿命控制技术,在具有低阳极发射效率结构的高压功率快恢复二极管中实现了更好的综合性能的优化。测试结果表明,此类快恢复二极管具有反向恢复时间短、软度大、反向漏电低的优良特性,在国际上处于领先水平。 展开更多
关键词 局域寿命控制 反向恢复时间 软度 反向漏电流 电子辐照
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高压功率二极管中局域铂掺杂寿命控制的研究 被引量:3
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作者 贾云鹏 王俊 +1 位作者 亢宝位 张斌 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期422-426,共5页
利用质子辐照形成的集中于射程末端的高密度缺陷在退火时对铂的吸杂作用 ,实现了硅高压功率P i N二极管的局域铂掺杂。经过 70 0°C、半小时低温退火 ,在已进行质子辐照的样品中 ,铂会由铂硅合金阳极向器件内部扩散 ,并形成与质子... 利用质子辐照形成的集中于射程末端的高密度缺陷在退火时对铂的吸杂作用 ,实现了硅高压功率P i N二极管的局域铂掺杂。经过 70 0°C、半小时低温退火 ,在已进行质子辐照的样品中 ,铂会由铂硅合金阳极向器件内部扩散 ,并形成与质子辐照感生缺陷分布相似的铂的分布。最终 ,质子辐照缺陷峰附近处的铂浓度将会是缺陷拖尾区中铂浓度的 1.5~ 2倍。与传统扩铂技术相比 ,用此新技术制成的P i N功率二极管有可能实现更快的恢复速度、更大的软度恢复因子和更低的反向漏电。 展开更多
关键词 局域寿命控制 质子注入 铂汲取 功率二极管
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局域寿命控制NPT-IGBT瞬态模型 被引量:3
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作者 方健 吴超 +2 位作者 乔明 张波 李肇基 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1078-1083,共6页
提出了局域寿命控制下NPT IGBT的瞬态模型,并与数值分析结果进行了对比,验证了模型的正确性.该模型采用了准静态近似,将关断过程分为快速下降阶段和缓慢下降阶段分别加以求解而得到.基于该模型,详细讨论了局域低寿命区参数对关断时间的... 提出了局域寿命控制下NPT IGBT的瞬态模型,并与数值分析结果进行了对比,验证了模型的正确性.该模型采用了准静态近似,将关断过程分为快速下降阶段和缓慢下降阶段分别加以求解而得到.基于该模型,详细讨论了局域低寿命区参数对关断时间的影响.该模型将有助于理解局域寿命控制NPT IGBT的关断过程物理图像,同时也可以用于指导该类器件的设计和优化.文中所采用的分析方法具有一定的普适性,其他类似结构和器件亦可采用此方法进行分析. 展开更多
关键词 局域寿命控制 NPT-IGBT 关断时间 电导调制
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低能He注入局域寿命控制电导调制型功率器件输运模型 被引量:3
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作者 方健 李肇基 +1 位作者 李鸿雁 杨健 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1072-1075,共4页
提出一种低能He注入局域寿命控制电导调制型功率器件的双极输运模型 .借助三区双极输运方程导出稳态的非平衡载流子浓度分布和正向压降 .借助电荷控制法并引入有效寿命概念获得反向恢复时间 .理论分析和实验结果表明这种器件的反向恢复... 提出一种低能He注入局域寿命控制电导调制型功率器件的双极输运模型 .借助三区双极输运方程导出稳态的非平衡载流子浓度分布和正向压降 .借助电荷控制法并引入有效寿命概念获得反向恢复时间 .理论分析和实验结果表明这种器件的反向恢复时间减小到常规器件的 1/ 2以下 ,而正向压降仅增加 10 % . 展开更多
关键词 电导调制 功率器件 氦离子注入 局域寿命控制 输运模型
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Numerical and Experimental Study of Localized Lifetime Control LIGBT by High Dose He Ion Implantation 被引量:3
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作者 方健 唐新伟 +1 位作者 李肇基 张波 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1048-1054,共7页
A high speed LIGBT with localized lifetime control by using high dose and low en ergy helium implantation(LC-LIGBT) is proposed.Compared with conventional LIGB Ts,particle irradiation results show that trade-off relat... A high speed LIGBT with localized lifetime control by using high dose and low en ergy helium implantation(LC-LIGBT) is proposed.Compared with conventional LIGB Ts,particle irradiation results show that trade-off relationship between turn- off time and forward voltage drop is improved.At the same time,the forward volta ge drop and turn-off time of such device are researched,when localized lifetime control region place near the p+-n junction,even in p+ anode.The results s how for the first time,helium ions,which stop in the p+ anode,also contribute to the forward voltage drop increasing and turn-off time reducing. 展开更多
关键词 LIGBT localized lifetime control helium ion implantation
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局域寿命控制NPT-IGBTs稳态模型 被引量:1
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作者 方健 蒋华平 +2 位作者 乔明 张波 李肇基 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期857-863,共7页
提出了局域寿命控制下的NPT-IGBT稳态模型.通过与二维器件数值仿真比较,表明模型结果和仿真结果能较好地吻合.基于该模型,详细地分析了局域寿命区的参数对器件正向特性的影响.通过对基区空穴浓度的分析,澄清了长期以来对于最优局域低寿... 提出了局域寿命控制下的NPT-IGBT稳态模型.通过与二维器件数值仿真比较,表明模型结果和仿真结果能较好地吻合.基于该模型,详细地分析了局域寿命区的参数对器件正向特性的影响.通过对基区空穴浓度的分析,澄清了长期以来对于最优局域低寿命区位置的不同看法,将各种结论统一起来. 展开更多
关键词 局域寿命控制 NPT-IGBT正向压降 电导调制
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快速软恢复二极管局域寿命控制数值分析 被引量:1
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作者 陈曦 田敬民 李守智 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2002年第6期70-72,共3页
采用混合器件模型研究了局域寿命控制技术对快速软恢复功率二极管静态和动态特性的影响 ,模拟结果表明 :低寿命区的最佳位置处于基区靠近阳极 ,其最佳宽度取决于载流子寿命减少的数量。
关键词 二极管 局域寿命控制 数值分析 载流子
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IGBT集电结局域寿命控制的比较与分析 被引量:4
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作者 周新田 吴郁 +5 位作者 胡冬青 贾云鹏 张惠惠 穆辛 金锐 刘钺杨 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第2期114-118,141,共6页
新型的电场终止型绝缘栅双极晶体管(FS-IGBT)改善了传统穿通型(PT)IGBT性能上的不足,但对于1 200 V以下器件需要超薄片加工。为打破加工技术的限制,用简易的厚片工艺实现薄片性能,可以在集电结附近设置载流子局域寿命控制层(LCLC)来改... 新型的电场终止型绝缘栅双极晶体管(FS-IGBT)改善了传统穿通型(PT)IGBT性能上的不足,但对于1 200 V以下器件需要超薄片加工。为打破加工技术的限制,用简易的厚片工艺实现薄片性能,可以在集电结附近设置载流子局域寿命控制层(LCLC)来改善器件性能。目前有两种方案:将LCLC区置于集电区内形成内透明集电极IGBT(ITC-IGBT);或置于缓冲层内,形成缓冲层局域寿命控制IGBT。对这两种结构的600 V器件结合具体参数进行了仿真和比较。仿真结果表明,两种结构的器件可实现几近相同的折中特性,但当LCLC区位于缓冲层内时,需要更低的局域寿命,且更易发生通态特性的回跳现象,影响器件性能。因此将LCLC区置于集电区,即形成ITC-IGBT结构是一个更好的选择,为探索用厚片工艺制造高性能IGBT提供了必要的参考。 展开更多
关键词 载流子局域寿命控制层(LCLC) 内透明集电极绝缘栅双极晶体管(ITC—IGBT) 缓冲层局域寿命控制IGBT 折中特性 回跳现象
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