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射频溅射制备碳氮薄膜及其结构分析
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作者 彭军 崔敬忠 《兰州大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期46-48,共3页
报道了用射频等离子体溅射的方法在高阻单昌硅衬底上制备碳氮非晶薄膜，并利用拉曼光谱和红外吸收谱对其进行的结构分析研究。分析结果表明该膜中氮主要以Ｃ≡Ｎ，Ｃ＝Ｎ键形式与碳结合。
关键词 结构 退火 碳氮薄膜 射频浅射法
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