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BN诱导BiOI富氧{110}面的暴露并增强其可见光催化氧化性能 被引量:3
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作者 郑倩 曹玥晗 +2 位作者 黄南建 张瑞阳 周莹 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2021年第8期74-82,共9页
光催化剂的暴露晶面极大地影响其光催化性能。因此,本文以BiOI为模型材料,提出了一种提高材料光催化氧化性能的新策略。本文中,BN纳米片的成功复合诱导BiOI纳米片更倾向于暴露富含表面晶格氧原子的{110}晶面。表面晶格氧原子可以直接参... 光催化剂的暴露晶面极大地影响其光催化性能。因此,本文以BiOI为模型材料,提出了一种提高材料光催化氧化性能的新策略。本文中,BN纳米片的成功复合诱导BiOI纳米片更倾向于暴露富含表面晶格氧原子的{110}晶面。表面晶格氧原子可以直接参与NO的氧化反应,生成NO_(2)。可见光催化氧化NO性能测试表明,BiOI复合BN后,NO的去除率可达44.2%,相比于纯相BiOI(1.4%)提升接近30倍。本文通过构建2D/2D光催化剂来调控材料富氧晶面的暴露,为增强催化剂的光催化氧化性能提供了新的策略。 展开更多
关键词 氮化硼 光催化化反应 晶面 晶格
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