开发一个一个地向细胞预定位置投射离子的技术对评估环境低剂量暴露的危害性，研究基因不稳定性、细胞近旁效应以及辐照损伤微观机理等具有重要作用．技术的核心在于高品质徽束的获取以及粒子个数和定位照射的精确控制两个方面．CAS—L...开发一个一个地向细胞预定位置投射离子的技术对评估环境低剂量暴露的危害性，研究基因不稳定性、细胞近旁效应以及辐照损伤微观机理等具有重要作用．技术的核心在于高品质徽束的获取以及粒子个数和定位照射的精确控制两个方面．CAS—LIBB单离子徽束装置由一台5．5 MeV Van de Graft静电加速器产生离子，经两级磁偏转选择获得单能质子束流．束流通过1．0gm内径、980μm高的石英毛细管瞄准器准直，从3．5μm真空封膜引出．能量发散度(FWHM)<40keV，再穿过7μm反光铝箔、18μm闪烁体薄膜和3.5μm封装膜，FWHM<64．5keV．束流直径小于5μm，粒子数500-20000质子·s^-1可调．在细胞照射过程中，闪烁体探测器和250ns快速电子开关结合计算机控制模块，粒子计数精度>98％，定位精度≤±2μm．展开更多
文摘开发一个一个地向细胞预定位置投射离子的技术对评估环境低剂量暴露的危害性，研究基因不稳定性、细胞近旁效应以及辐照损伤微观机理等具有重要作用．技术的核心在于高品质徽束的获取以及粒子个数和定位照射的精确控制两个方面．CAS—LIBB单离子徽束装置由一台5．5 MeV Van de Graft静电加速器产生离子，经两级磁偏转选择获得单能质子束流．束流通过1．0gm内径、980μm高的石英毛细管瞄准器准直，从3．5μm真空封膜引出．能量发散度(FWHM)<40keV，再穿过7μm反光铝箔、18μm闪烁体薄膜和3.5μm封装膜，FWHM<64．5keV．束流直径小于5μm，粒子数500-20000质子·s^-1可调．在细胞照射过程中，闪烁体探测器和250ns快速电子开关结合计算机控制模块，粒子计数精度>98％，定位精度≤±2μm．
