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原子层沉积技术发展概况
被引量：
5
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作者
苗虎
李刘合
旷小聪
《真空》
CAS
2018年第4期51-58,共8页
主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备技术的特征和优势。重点叙述了近年来原子层沉积技术在设备和工艺方面的发展状况和最新研究成果。最后,...
主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备技术的特征和优势。重点叙述了近年来原子层沉积技术在设备和工艺方面的发展状况和最新研究成果。最后,对原子层沉积技术的发展与前景分别进行了总结和展望。
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关键词
原子
层
沉积
技术
前驱体
技术特征
等离子体增强
原子
层
沉积
电化学
原子
层
沉积
空间
原子
层
沉积
流化床
大气压
原子
层
沉积
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职称材料
题名
原子层沉积技术发展概况
被引量：
5
1
作者
苗虎
李刘合
旷小聪
机构
北京航空航天大学机械工程及自动化学院
出处
《真空》
CAS
2018年第4期51-58,共8页
基金
武器装备预研领域基金(61409230602)
文摘
主要介绍了原子层沉积技术的历史背景、原理(包括两种自限制的反应机制、前驱体的要求与分类)以及原子层沉积本身作为一种涂层制备技术的特征和优势。重点叙述了近年来原子层沉积技术在设备和工艺方面的发展状况和最新研究成果。最后,对原子层沉积技术的发展与前景分别进行了总结和展望。
关键词
原子
层
沉积
技术
前驱体
技术特征
等离子体增强
原子
层
沉积
电化学
原子
层
沉积
空间
原子
层
沉积
流化床
大气压
原子
层
沉积
Keywords
atomic layer deposition technology （ALD）
precursor
technical characteristics
PE-ALD
EC-ALD
SALD
fluidized bed reactor
AP-ALD
分类号
O487 [理学—固体物理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
原子层沉积技术发展概况
苗虎
李刘合
旷小聪
《真空》
CAS
2018
5
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