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阵列式多管集成静电雾化试验分析 被引量:6
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作者 王军锋 黄俏梅 +2 位作者 王贞涛 王泽 张娟娟 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期2523-2529,共7页
为了减小甚至消除多管集成静电雾化(multiplexed electrostatic atomization,MES)中相邻毛细管荷电射流间电场的相互作用,探索和优化MES雾化特性,通过设计错位毛细管阵列来扩大喷雾源间距,并在静电场中加介质来减小射流排斥作用,改善了... 为了减小甚至消除多管集成静电雾化(multiplexed electrostatic atomization,MES)中相邻毛细管荷电射流间电场的相互作用,探索和优化MES雾化特性,通过设计错位毛细管阵列来扩大喷雾源间距,并在静电场中加介质来减小射流排斥作用,改善了电场均匀性。对不同介质作用下MES的雾化特性进行了试验研究,结果表明:介质作用下MES较无介质作用下全锥射流的雾化锥角增大,产生锥射流所需的电压及形成的电流增大,液滴粒径均匀性变差,液滴空间分布变均匀;且介质绝缘性越好,雾滴粒径越小,粒径分布越均匀;介质导电性越强,粒径均匀性越差,MES稳定性越好。所以通过扩大喷雾源间距和在静电场中插入介质能有效地改善喷雾源射流周围电场的均匀性,优化MES雾化特性。 展开更多
关键词 集成静电雾化 雾化特性 全锥射流 错位阵列 介质 稳定性
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