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大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断
被引量:
3
1
作者
刘莉莹
张家良
+1 位作者
郭卿超
王德真
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期2653-2660,共8页
本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl...
本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl4解离率的作用.
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关键词
大气压等离子体射流
发射光谱
电子激发温度
多晶硅
薄膜
沉积
原文传递
题名
大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断
被引量:
3
1
作者
刘莉莹
张家良
郭卿超
王德真
机构
大连理工大学物理与光电工程学院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期2653-2660,共8页
基金
国家自然科学基金(批准号:10775026
10675028)资助的课题~~
文摘
本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl4解离率的作用.
关键词
大气压等离子体射流
发射光谱
电子激发温度
多晶硅
薄膜
沉积
Keywords
atmospheric pressure plasma jet
plasma emission spectra
electron excitation temperature
polycrystalline silicon thin film
分类号
O484.4 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断
刘莉莹
张家良
郭卿超
王德真
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
3
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