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大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断 被引量:3
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作者 刘莉莹 张家良 +1 位作者 郭卿超 王德真 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期2653-2660,共8页
本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl... 本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl4解离率的作用. 展开更多
关键词 大气压等离子体射流 发射光谱 电子激发温度 多晶硅薄膜沉积
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