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ZrN及其多层膜的性质和耐腐蚀性能 被引量：19
1
作者 李成明 孙晓军 +2 位作者 张增毅 唐伟忠 吕反修 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期55-58,共4页
用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN TiN多层膜 ,磁控溅射制备了ZrN薄膜。结果表明 ,ZrN TiN多层膜 ,由于纳米多层化作用 ,硬度高于ZrN和TiN的 2 6GPa和 2 1GPa,平均值达到 34 5GPa。X射线衍射分析表明 ,ZrN TiN多层膜由ZrN和TiN组成。过滤电... 用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN TiN多层膜 ,磁控溅射制备了ZrN薄膜。结果表明 ,ZrN TiN多层膜 ,由于纳米多层化作用 ,硬度高于ZrN和TiN的 2 6GPa和 2 1GPa,平均值达到 34 5GPa。X射线衍射分析表明 ,ZrN TiN多层膜由ZrN和TiN组成。过滤电弧制备的ZrN和ZrN TiN多层膜的结合力为 81N和 77N ,磁控溅射制备的ZrN薄膜的结合力为 2 6N。极化曲线的结果显示 ,过滤电弧制备的ZrN和ZrN TiN多层膜的耐腐蚀性显著优于磁控溅射制备的ZrN薄膜 ,讨论了两种方法制备薄膜性能差异的原因。 展开更多
关键词 硬度 多层薄膜 耐腐蚀性
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负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用 被引量：12
2
作者 黄美东 林国强 +4 位作者 董闯 孙超 蒋长荣 黄荣芳 闻立时 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第7期17-20,共4页
用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作... 用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明 ,负偏压影响沉积温度 ,负偏压值越大 ,温度越高 ;负偏压值增大 ,表面形貌中的大颗粒数量减少 ,薄膜质量得到改善 ;负偏压在 - 30 0V左右时 ,膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。 展开更多
关键词 电弧离子镀 负偏压 多层薄膜 氮化钛 碳氮化钛
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摩擦力—划痕法评定PVD多层薄膜结合强度研究 被引量：4
3
作者 朱有利 黄元林 +1 位作者 石宗利 李重庵 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期984-986,共3页
采用摩擦力 -划痕法评定了 PVD Ag- Cu/Ti/stainless!steel双层薄膜的结合强度 ,测得其顶层与底层及底层与基体间的临界荷载值分别为 LC1、LC2 ,其中 LC1随膜厚的增加而减小 ,LC2 随膜厚的增加变化不大 ,且和Ti单层膜的 LC值相近。这与... 采用摩擦力 -划痕法评定了 PVD Ag- Cu/Ti/stainless!steel双层薄膜的结合强度 ,测得其顶层与底层及底层与基体间的临界荷载值分别为 LC1、LC2 ,其中 LC1随膜厚的增加而减小 ,LC2 随膜厚的增加变化不大 ,且和Ti单层膜的 LC值相近。这与膜厚及膜内应力变化有关。实验结果表明 ,采用摩擦力 -划痕法评定多层薄膜结合强度有其独特的优点。可以确定多层膜中不同膜层的 LCi值 ,并以此来表征各层或某些层的结合强度值。 展开更多
关键词 摩擦力-划痕法 PVD 多层薄膜 综合强度
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纳米复合薄膜吸波剂的研究 被引量：6
4
作者 李世涛 乔学亮 陈建国 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期25-27,共3页
作为三种重要的革新技术之一,隐身技术已经成为两栖和电磁相结合的现代集成战争的最重要和有效的手段。特别是雷达吸波材料在隐身技术中处于举足轻重的地位。指出,纳米复合和多层吸收材料是未来雷达吸收材料的研究热点和发展方向,而有... 作为三种重要的革新技术之一,隐身技术已经成为两栖和电磁相结合的现代集成战争的最重要和有效的手段。特别是雷达吸波材料在隐身技术中处于举足轻重的地位。指出,纳米复合和多层吸收材料是未来雷达吸收材料的研究热点和发展方向,而有效的雷达吸收涂层的涂覆方法可获得低密度、薄厚度、宽频带、强吸收的效果。 展开更多
关键词 纳米复合薄膜 吸波剂 多层薄膜 吸波材料 隐身技术
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不锈钢双极板表面电弧离子镀Cr/CrN/Cr薄膜研究 被引量：8
5
作者 吴博 王文涛 +2 位作者 张敏 付宇 林国强 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期861-863,共3页
用电弧离子镀方法,在质子交换膜燃料电池用不锈钢双极板试样表面沉积三明治结构的Cr/CrN/Cr多层薄膜,对双极板与碳纸的接触电阻和在模拟腐蚀液中的电化学腐蚀性能等进行了测试。结果表明,镀膜处理使不锈钢表面性能有明显改善,与原始不... 用电弧离子镀方法,在质子交换膜燃料电池用不锈钢双极板试样表面沉积三明治结构的Cr/CrN/Cr多层薄膜,对双极板与碳纸的接触电阻和在模拟腐蚀液中的电化学腐蚀性能等进行了测试。结果表明,镀膜处理使不锈钢表面性能有明显改善,与原始不锈钢相比,其接触电阻降低了一个数量级;同时,电化学耐腐蚀性能也得到显著提高。分析表明,这与薄膜表面平整、致密且膜基结合力强,以及薄膜的Cr/CrN/Cr多层结构的复合作用有关。 展开更多
关键词 不锈钢双极板 电弧离子镀 多层薄膜 接触电阻 电化学腐蚀
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硅基底多层薄膜结构材料残余应力的微拉曼测试与分析 被引量：9
6
作者 邓卫林 仇巍 +2 位作者 焦永哲 张青川 亢一澜 《实验力学》 CSCD 北大核心 2012年第1期1-9,共9页
针对MEMS器件制备中两种典型的硅基底多层薄膜结构的残余应力问题,本文提出了利用微拉曼光谱技术测量其残余应力的方法,分析并给出了硅基底多层薄膜结构中的残余应力分布规律。实验结果表明,在硅基底和薄膜内存在较大的工艺残余应力,残... 针对MEMS器件制备中两种典型的硅基底多层薄膜结构的残余应力问题,本文提出了利用微拉曼光谱技术测量其残余应力的方法,分析并给出了硅基底多层薄膜结构中的残余应力分布规律。实验结果表明,在硅基底和薄膜内存在较大的工艺残余应力,残余应力在基底内靠近薄膜两侧部分呈非线性变化,在基底内主要呈线性变化,并引起基底整体翘曲。基于实验结果分析,提出了硅基底多层薄膜结构的分层结构模型。本文工作表明微拉曼光谱技术是测量与研究硅基底多层薄膜结构残余应力的一种有力手段。 展开更多
关键词 多层薄膜 硅基底 残余应力 分层结构模型 微拉曼光谱
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多层薄膜气敏材料研究概况 被引量：5
7
作者 焦正 张耀华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期458-461,共4页
总结了国内外近年来多层薄膜气敏材料的研究状况，对研究结果进行了综合分析和比较，总结了一些多层薄膜的制备方法及气敏性能的优缺点，并对多层薄膜材料性能比单层薄膜有明显改善的原因做了初步探讨。在此基础上提出了多层薄膜气敏材... 总结了国内外近年来多层薄膜气敏材料的研究状况，对研究结果进行了综合分析和比较，总结了一些多层薄膜的制备方法及气敏性能的优缺点，并对多层薄膜材料性能比单层薄膜有明显改善的原因做了初步探讨。在此基础上提出了多层薄膜气敏材料研究方向的看法。 展开更多
关键词 多层薄膜 气敏材料 薄膜制备
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弱吸收多层薄膜消光系数的反演 被引量：7
8
作者 顾培夫 陈海星 +1 位作者 郑臻荣 刘旭 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期3722-3725,共4页
从窄带干涉滤光片的峰值透射率测量可以直接反演出弱吸收薄膜的消光系数,从而得到一种能简易而又精确地评价多层薄膜微弱吸收的新方法.推导了弱吸收窄带干涉滤光片的吸收表达式,阐述了确定弱吸收薄膜消光系数的基本原理.以离子束溅射的T... 从窄带干涉滤光片的峰值透射率测量可以直接反演出弱吸收薄膜的消光系数,从而得到一种能简易而又精确地评价多层薄膜微弱吸收的新方法.推导了弱吸收窄带干涉滤光片的吸收表达式,阐述了确定弱吸收薄膜消光系数的基本原理.以离子束溅射的Ta2O5/SiO2波分复用滤光片为例,分析了这种评价方法的基本精度. 展开更多
关键词 消光系数 多层薄膜 弱吸收 窄带干涉滤光片 吸收薄膜 TA2O5 离子束溅射 直接反演 波分复用 SI02 基本原理 评价方法 透射率 表达式
原文传递
直流磁控溅射镀膜实验条件的选择 被引量：4
9
作者 吴桂芳 赵青生 《大学物理实验》 2004年第2期25-27,共3页
介绍一台改制的直流以磁控溅射镀膜机用于溅射镀膜实验 ,选择实验条件 ,观察实验现象 。
关键词 高等教育 物理实验教学 直流磁控溅射镀膜 实验条件 多层薄膜 辉光放电
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投影光刻中相位光栅对准信号计算的新模型 被引量：4
10
作者 陈敏麒 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第7期82-85,共4页
对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作了详细的分析，提出了更加合理精确的计算模型，并与其他论文中的实验数据作了初步比较，模型与实验更加接近．本文所提供的方法也适用于对有减反膜的光刻工艺对准信号的分析．
关键词 半导体光刻 相位光栅 多层薄膜 Fourier光学
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MoS2/Pb-Ti多层薄膜的结构和摩擦学性能 被引量：7
11
作者 赵晓宇 张广安 +1 位作者 王立平 薛群基 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期97-106,共10页
目的设计Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,改善真空和大气环境下的摩擦学性能。方法采用磁控溅射技术沉积Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、纳米压痕仪、真空和大气摩擦磨损实验,分别评价MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面形貌... 目的设计Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,改善真空和大气环境下的摩擦学性能。方法采用磁控溅射技术沉积Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、纳米压痕仪、真空和大气摩擦磨损实验,分别评价MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面形貌、微观结构、力学性能、真空和大气环境下的摩擦学性能,并通过光学显微镜、能谱仪(EDS)、Raman光谱仪对磨痕及磨斑进行分析。结果随着MoS_2层厚度的增加,MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面颗粒逐渐细化,变得更加光滑。同时,微观结构由金属相主导转变为由MoS_2相主导,弹性模量逐渐降低,硬度则先升高后降低。在真空环境下,Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜的摩擦系数低至0.01,磨损率低至2.2×10^(-7) mm^3/(N·m),大气环境下摩擦系数低至0.07左右,磨损率低至2.7×10^(-7) mm^3/(N·m)。结论在真空摩擦磨损实验中,MoS_2层厚度过薄时,MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的磨损机制为粘着磨损,MoS_2层厚度增加有助于形成稳定的转移膜,使得摩擦磨损大幅降低。在大气摩擦磨损实验中,Ti保护MoS_2的结构免于H_2O和O_2的破坏,使体系具有低而稳定的摩擦磨损。 展开更多
关键词 MOS2 多层薄膜 真空 潮湿 摩擦 磨损
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椭偏仪在镀膜玻璃中的应用
12
作者 史国华 刘起英 王振 《建筑玻璃与工业玻璃》 2024年第1期13-16,共4页
0引言。椭圆偏振测量是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换现象,根据偏振状态的变化情况来研究材料光学性质的方法。其主要优势主要包括:应用范围广泛;对透明薄膜、吸收薄膜、多层薄膜和非晶态薄膜等均可测量;样... 0引言。椭圆偏振测量是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换现象,根据偏振状态的变化情况来研究材料光学性质的方法。其主要优势主要包括:应用范围广泛;对透明薄膜、吸收薄膜、多层薄膜和非晶态薄膜等均可测量;样品要求简单;无损检测,测试过程方便快捷,可以同时测出折射率的实部和虚部,既可以用作分析表征,又可以用于实时监测;椭偏参数对薄膜的各种信息灵敏度极高,甚至可以检测到薄膜单原子层的变化,精确度可高至埃级。 展开更多
关键词 偏振状态 椭偏仪 光学性质 镀膜玻璃 偏振光束 折射率 多层薄膜 无损检测
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温度对TiN/Ti多层膜微观结构和氧化行为的影响 被引量：6
13
作者 龚海飞 邵天敏 王喜眉 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期20-25,共6页
研究了TiN/Ti多层膜不同温度下的微观结构和氧化行为。采用阴极弧离子镀沉积的方法制备了19层调制周期为200 nm的TiN/Ti多层膜及相应的TiN单层膜。采用高分辨场发射电子显微镜(HR–FESEM)、光学显微镜和X射线衍射仪(XRD)分别对膜层断面... 研究了TiN/Ti多层膜不同温度下的微观结构和氧化行为。采用阴极弧离子镀沉积的方法制备了19层调制周期为200 nm的TiN/Ti多层膜及相应的TiN单层膜。采用高分辨场发射电子显微镜(HR–FESEM)、光学显微镜和X射线衍射仪(XRD)分别对膜层断面结构、表面形貌和物相进行分析。结果表明,随着加热温度的升高,TiN单层膜在350℃时开始出现局部剥落,550℃出现大范围的剥落,而多层膜未发生剥落;相对TiN单层膜,TiN/Ti多层膜具有层状结构,其抗氧化能力有一定的提高。结合试验结果,讨论了TiN/Ti多层膜和TiN单层膜的工作温度。 展开更多
关键词 TIN/TI 多层薄膜 微观结构 氧化行为
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多层高反膜的应力研究 被引量：2
14
作者 李波 王超 +1 位作者 闫涛 钱锋 《真空与低温》 2023年第2期146-152,共7页
采用激光干涉仪对激光雷达用多层高反膜的应力变化进行了研究,讨论了离子源加速电压、离子源辐照角度、界面层与基底匹配以及后处理等工艺条件对多层薄膜面型变化的影响。试验结果表明,低的离子源功率下,氧化钛薄膜表现为张应力,随着离... 采用激光干涉仪对激光雷达用多层高反膜的应力变化进行了研究,讨论了离子源加速电压、离子源辐照角度、界面层与基底匹配以及后处理等工艺条件对多层薄膜面型变化的影响。试验结果表明,低的离子源功率下,氧化钛薄膜表现为张应力,随着离子源功率增加,逐渐转变为压应力。合理调整离子源辐照角度与界面层结构,可以降低应力,减小应力引起的面型变化量,改善位于工件盘中心与边缘的样品面型变化的不均匀性。在深入研究的基础上,综合耐候性的要求优化了薄膜生产沉积工艺,批量生产出了满足产品要求的应用于激光雷达的多层高反射薄膜器件。 展开更多
关键词 应力 PV 面型变化 激光雷达 多层薄膜
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穿孔板-膜腔复合型隔声罩隔声特性研究
15
作者 叶天贵 胡世尧 +1 位作者 靳国永 闫燕 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期1093-1101,共9页
针对低频隔声问题,本文提出一种穿孔板-膜腔复合型隔声结构。基于有限元法建立了隔声结构单胞模型,开展了单胞模型声学特性分析及构型优化;在此基础上,建立大尺寸穿孔板-膜腔复合型隔声板数值仿真模型,探究其隔声性能及框架对隔声性能... 针对低频隔声问题,本文提出一种穿孔板-膜腔复合型隔声结构。基于有限元法建立了隔声结构单胞模型,开展了单胞模型声学特性分析及构型优化;在此基础上,建立大尺寸穿孔板-膜腔复合型隔声板数值仿真模型,探究其隔声性能及框架对隔声性能的影响规律,结合仿真结果开展多层薄膜型隔声板隔声性能研究;建立穿孔板-膜腔复合型隔声罩仿真分析模型,分析多层薄膜型隔声罩的隔声性能,设计附加吸声材料的多层薄膜型隔声罩;研制隔声罩样件,实验证明该样件具备较好的低频隔声性能。 展开更多
关键词 低频隔声 有限元法 多层薄膜 低频宽带 隔声罩 穿孔板 插入损失 实验验证
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Co/Si/Ti/Si(100)多层薄膜固相反应异质外延生长CoSi_2薄膜 被引量：5
16
作者 屈新萍 李炳宗 +5 位作者 茹国平 顾志光 徐鸿涛 莫鸿翔 刘京 朱剑豪 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期641-645,共5页
本文研究Ｓｉ中间淀积层对ＣｏＳｉ２／Ｓｉ（１００）固相异质外延的影响．用离子束溅射方法在Ｓｉ（１００）衬底上制备了Ｃｏ／Ｓｉ／Ｔｉ／Ｓｉ多层薄膜结构，通过快速热退火使多层薄膜发生固相反应．实验表明，利用Ｃｏ／Ｓｉ／Ｔ... 本文研究Ｓｉ中间淀积层对ＣｏＳｉ２／Ｓｉ（１００）固相异质外延的影响．用离子束溅射方法在Ｓｉ（１００）衬底上制备了Ｃｏ／Ｓｉ／Ｔｉ／Ｓｉ多层薄膜结构，通过快速热退火使多层薄膜发生固相反应．实验表明，利用Ｃｏ／Ｓｉ／Ｔｉ／Ｓｉ固相反应得到的ＣｏＳｉ２薄膜具有良好的外延特性，薄膜也具有良好的电学特性和热稳定性．实验发现在较低温度退火时，生成Ｃｏ２Ｔｉ４Ｏ之类化合物，作为扩散阻挡层有利于ＣｏＳｉ２薄膜的外延．在多层薄膜结构中加入Ｓｉ非晶层，既能减少衬底Ｓｉ消耗量。 展开更多
关键词 硅 外延生长 多层薄膜 固相反应 二硅化钴
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微纳层叠聚丙烯介电薄膜的制备与性能研究
17
作者 焦志伟 汪力 +2 位作者 何伟 于源 杨卫民 《电力电容器与无功补偿》 2024年第1期63-67,共5页
为解决聚丙烯薄膜介电常数低、介电场强低等问题,创新提出采用微纳层叠挤出技术制备不同层数(1层、16层、256层)的聚丙烯薄膜,并对不同层数聚丙烯薄膜的介电常数、介电损耗、击穿场强、结晶度、力学性能等进行表征。结果表明,相比于层数... 为解决聚丙烯薄膜介电常数低、介电场强低等问题,创新提出采用微纳层叠挤出技术制备不同层数(1层、16层、256层)的聚丙烯薄膜,并对不同层数聚丙烯薄膜的介电常数、介电损耗、击穿场强、结晶度、力学性能等进行表征。结果表明,相比于层数为1层的聚丙烯薄膜,16层、256层的聚丙烯薄膜的介电常数分别提升23.2%和37.0%,介电损耗分别降低36.94%和58.56%、击穿场强分别提升11%和23.3%,拉伸强度分别提升5.3%和18.98%。结晶度也随层数的增多而增大,该技术对聚丙烯薄膜的介电性能有明显的提升效果。这项工作对单一材料介电性能的提升提供了全新的思路。 展开更多
关键词 微纳层叠 多层薄膜 介电性能 聚丙烯 结晶
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激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜 被引量：4
18
作者 陈志杰 潘天宇 +1 位作者 徐源来 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2022年第1期42-47,共6页
为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形... 为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形貌和晶粒尺寸的影响。实验结果表明,制备出了单相(100)氧化铈薄膜。随着薄膜层数的增加,其面内取向变好。薄膜结晶度在2层时最低,在5层时最高。随着氧化铈薄膜层数从2层增加到6层,氧化铈薄膜的平均晶粒尺寸从28.98 nm增加到86.10 nm。氧化铈晶粒形状从大部分正方金字塔形变为相互正交的矩形棱台形并且晶粒间出现10~50 nm的孔洞。通过引入激光加速前驱体分解,2层氧化铈薄膜的厚度达到136 nm,薄膜沉积速率高达2.45μm·h^(-1)。 展开更多
关键词 氧化铈缓冲层薄膜 激光化学气相沉积 晶粒尺寸 多层薄膜
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偏振激光照明对多层薄膜结构成像对比度影响 被引量：1
19
作者 张子建 王天义 +5 位作者 徐欣 王吉祥 张欣 张若冰 史国华 叶虹 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第7期60-68,共9页
光学多层干涉断层扫描技术(Optical multilayer interference tomography,OMLIT)应用于光电关联显微镜中以实现清晰的光学大视场成像,为高分辨率电镜图像提供目标区域标定。为了进一步提升成像对比度和定位精度,将偏振照明和OMLIT成像... 光学多层干涉断层扫描技术(Optical multilayer interference tomography,OMLIT)应用于光电关联显微镜中以实现清晰的光学大视场成像,为高分辨率电镜图像提供目标区域标定。为了进一步提升成像对比度和定位精度,将偏振照明和OMLIT成像技术相结合,提出一种多层薄膜偏振照明的理论模型,使用矩阵传输方法对不同入射角的偏振光在不同材质、厚度的多层薄膜介质间的传播及干涉成像进行了仿真。结果表明,当照明光的电场振荡方向平行于入射面时,能够获得比非偏振光更高的图像对比度。当照明光以62°入射角照射金属银镀层样品表面,成像对比度提升高达138倍。这项工作为偏振照明OMLIT提供了理论基础,为光电融合显微成像技术的发展提供了全新的技术方案。 展开更多
关键词 偏振成像 矩阵算法 多层薄膜 光学多层干涉断层扫描技术
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多层红外光学薄膜的热应力分析 被引量：5
20
作者 蒋丽媛 刘定权 +1 位作者 马冲 高凌山 《红外》 CAS 2018年第5期20-24,48,共6页
通常红外光学薄膜是在较高温度下制备得到的。在低温下应用时,其产生的热应力会显著影响其光谱性能和可靠性。利用传统桥梁弯曲理论和膜层间位移协调条件分析了多层膜中的水平应变、弯曲应变和热应力分布情况。在详细推导的基础上,根据... 通常红外光学薄膜是在较高温度下制备得到的。在低温下应用时,其产生的热应力会显著影响其光谱性能和可靠性。利用传统桥梁弯曲理论和膜层间位移协调条件分析了多层膜中的水平应变、弯曲应变和热应力分布情况。在详细推导的基础上,根据膜层厚度远小于基片厚度的实际情况,得出了多层膜中热应力的简化计算公式。结合长波红外窄带滤光片实例,分析了其多层膜中热应力的数值大小和分布情况。 展开更多
关键词 多层薄膜 热应力 红外 近似算法
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