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钯/多孔钽/钽复合膜的制备及表征
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作者 李广忠 王昊 +1 位作者 李亚宁 黄愿平 《粉末冶金技术》 CAS CSCD 北大核心 2024年第6期632-637,共6页
通过喷涂-烧结工艺在钽箔表面获得了一层多孔钽膜,以多孔钽/钽为基体,采用化学镀钯工艺获得了钯/多孔钽/钽复合膜,研究了烧结温度对多孔钽膜形貌的影响,并分析了钯膜的生长行为。结果表明,烧结温度对多孔钽膜的结构具有显著影响,1700℃... 通过喷涂-烧结工艺在钽箔表面获得了一层多孔钽膜,以多孔钽/钽为基体,采用化学镀钯工艺获得了钯/多孔钽/钽复合膜,研究了烧结温度对多孔钽膜形貌的影响,并分析了钯膜的生长行为。结果表明,烧结温度对多孔钽膜的结构具有显著影响,1700℃烧结2 h可获得烧结颈发育良好的多孔钽膜。化学镀时间对多孔钽膜表面的钯膜具有显著的影响,且由于多孔钽膜表面结构复杂,不易在多孔钽表面获得均匀、致密的钯膜。 展开更多
关键词 钽 多孔钽膜 化学镀 钯膜
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