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题名低温纳米压印技术制备微纳图案的研究
被引量：3
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作者
孙洪文
刘景全
陈迪
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机构
河海大学
上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室
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出处
《电子工艺技术》
2008年第6期314-316,337,共4页
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基金
国家863高新技术项目863MEMS重大专项(项目编号:2002AA404150)
上海市科委上海市科委项目(项目编号:0352nm010和02dz11020)
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文摘
纳米压印需要将聚合物加热到它的玻璃化温度以上,然后用印章压印使其复制印章图案。采用低玻璃化温度的SU-8 2000.1和Hybrane胶体转移图案,能够在低温、甚至室温下实现微纳图案的转移。采用的印章制备方法是聚焦离子束(FIB)直接在衬底上制备图案,从而避免了传统工艺中效率较慢的电子束加工和取消了反应离子刻蚀步骤;并且采用FIB方法可同时在衬底上制备微米、纳米尺度的图案。实验结果表明用FIB方法可以得到比较均匀致密的微纳米图案印章,经过低温纳米压印后可成功地实现微纳图案的复制。
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关键词
纳米压印
低温
聚焦离子束
纳米印章
微纳图案
图案复制
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Keywords
Nanoimprint
Low temperature
Focused ion beam
Nano stamps
Micro/nano patterns
Pattern replication
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分类号
TP271
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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题名新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究
被引量：1
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作者
李中杰
林宏
姜学松
王庆康
印杰
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机构
上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室
化学化工学院高分子材料研究所
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出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2010年第3期179-182,192,共5页
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基金
国家863项目(2006AA4Z334)
上海市纳米科技专项(0852nm06600)
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文摘
为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。
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关键词
紫外纳米压印
微/纳米尺寸图形
硅片衬底修饰
抗粘连层
图案复制
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Keywords
UV nanoimprinting lithography （UV-NIL）
micro- and nano-scale pattern
silicon substrate modification
anti-sticking layer
pattern replication
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名花泥画制作方法
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作者
卢文居
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机构
广西平南县东华书画院
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出处
《专业户》
2004年第1期36-36,共1页
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文摘
花泥画,又叫彩泥画,用花泥颜料做成,画面呈立体形状,颜色凸起,层次分明,手按上去较硬,就像少数民族的彩绘画一样。其制作工艺:(一)工具镊子、竹签、铁夹、圆珠笔、黑笔。(二)材料。三合板、复写纸、原稿、画框、花泥颜料。(三)制作。(1)准备三合板。将表面平整光滑的三合板,裁成若干不同规格的小块。(2)复制图案。将原稿铺于相应规格的三合板上,用铁夹夹住,两者之间再放入一张复写纸(最好单面复写纸),用无墨水的圆珠笔从上至下。
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关键词
花泥画
制作方法
三合板
图案复制
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分类号
J528
[艺术—艺术设计]
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