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利用ICP设备制备图形化蓝宝石基底的工艺控制 被引量:1
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作者 李燕 曹亮 +5 位作者 李晖 唐代华 Wonsik YOO 梁栋 杨正兵 李昕 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2013年第6期879-882,共4页
该文对利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀设备来制作图形化蓝宝石基底(PSS)的工艺控制进行了研究。在工艺制作过程中,选用了C轴(0001)取向的100mm蓝宝石平片作为实验样品,通过光刻工艺和ICP刻蚀工艺控制,制作出了具有圆锥状图形结构的图... 该文对利用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀设备来制作图形化蓝宝石基底(PSS)的工艺控制进行了研究。在工艺制作过程中,选用了C轴(0001)取向的100mm蓝宝石平片作为实验样品,通过光刻工艺和ICP刻蚀工艺控制,制作出了具有圆锥状图形结构的图形化蓝宝石基底。借助扫描电子显微镜,对该图形化蓝宝石基底进行了测量和分析。测量结果显示,基底表面上的单粒圆锥状图形结构的底部直径为(3.45±0.25)μm,刻蚀高度/深度为(1.75±0.25)μm,整个图形化蓝宝石基底成品片的均匀性控制在3%以内。 展开更多
关键词 蓝宝石 基底 刻蚀 感应耦合等离子体(ICP) 图形化蓝宝石基底 发光二极管 刻蚀设备
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