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步进投影数字光刻技术研究
1
作者 徐文祥 王建 +1 位作者 赵立新 严伟 《中国仪器仪表》 2008年第12期48-50,共3页
随着微纳加工技术的不断发展,其对光刻技术提出了新的要求,步进投影数字光刻技术作为光刻技术的重要分支,在光刻发展的过程中,扮演着不可替代的角色。主要介绍步进投影数字光刻技术的原理及组成,详细阐述关键技术单元,如数字掩模投影成... 随着微纳加工技术的不断发展,其对光刻技术提出了新的要求,步进投影数字光刻技术作为光刻技术的重要分支,在光刻发展的过程中,扮演着不可替代的角色。主要介绍步进投影数字光刻技术的原理及组成,详细阐述关键技术单元,如数字掩模投影成像技术、照明均匀化处理技术、CCD同轴调焦及对准技术等,并利用该技术进行了分辨率测试和灰度图形曝光实验。实验结果表明该技术在微细加工领域达到国内先进水平。 展开更多
关键词 数字掩模 数字光刻 DMD 同轴调焦
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一种新颖的显微镜同轴调焦机构：南京市少年宫专利解析
2
作者 张文勋 《江西光学仪器》 1991年第1期35-37,34,共4页
关键词 显微镜 同轴调焦机构 调焦
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