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二元光学器件激光直写技术的研究进展
被引量：
7
1
作者
颜树华
戴一帆
+1 位作者
吕海宝
李圣怡
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第3期159-162,共4页
二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺 (掩模套刻法或多次沉积薄膜法 )所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题 ,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率。分析了二元光学器件激光直写的基本...
二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺 (掩模套刻法或多次沉积薄膜法 )所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题 ,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率。分析了二元光学器件激光直写的基本原理 ,对已有的各种激光直写方法和最新研究成果进行了综述 。
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关键词
二元光学
激光直写
变
灰度
掩模
法
下载PDF
职称材料
题名
二元光学器件激光直写技术的研究进展
被引量：
7
1
作者
颜树华
戴一帆
吕海宝
李圣怡
机构
国防科技大学机电工程与自动化学院
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第3期159-162,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目 (5 0 0 0 5 0 2 2 )
文摘
二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺 (掩模套刻法或多次沉积薄膜法 )所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题 ,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率。分析了二元光学器件激光直写的基本原理 ,对已有的各种激光直写方法和最新研究成果进行了综述 。
关键词
二元光学
激光直写
变
灰度
掩模
法
Keywords
binary optics
laser direct writing
gray scale mask method
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
二元光学器件激光直写技术的研究进展
颜树华
戴一帆
吕海宝
李圣怡
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2002
7
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