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题名掺铜TiO2薄膜的制备及结构与光学性能的研究
被引量：4
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作者
高飞
吴再华
刘晓艳
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机构
湖南信息职业技术学院
中南大学材料科学与工程学院
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出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期87-89,98,共4页
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文摘
采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。结果表明:掺Cu能够改善薄膜的表面形貌与结晶质量,提高薄膜的光吸收性能。随着掺铜量的增加,TiO2薄膜的锐钛矿(101)衍射峰越来越强,且吸收边逐渐红移。Cu靶的溅射功率大于3 W,薄膜中就会出现CuO晶相。掺Cu后,TiO2薄膜的光催化性能明显增强。随着Cu的溅射功率的增大,TiO2薄膜的光催化性能先增强,后减弱。Cu的溅射功率为5 W的样品光催化性能最好。
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关键词
TIO2薄膜
双靶直流磁控共溅射
铜掺杂
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Keywords
TiO2, thin films
DC reactive magnetron co-sputtering with two targets
Cudoped
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分类号
O484.4
[理学—固体物理]
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