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高1,4-结构含量的端羟基聚异戊二烯遥爪聚合物的合成 被引量:17
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作者 孙强强 鲁在君 +2 位作者 张林 杜凯 罗炫 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第1期117-120,共4页
采用保护基团引发剂在环己烷溶剂中通过阴离子聚合合成双端羟基聚异戊二烯,并通过GPC,IR,1HNMR,羟值分析方法对其进行了表征.结果表明,聚合物有高的1,4-结构含量,同时聚合物的分子量大小可以控制、分子量分布窄、官能度接近2.
关键词 保护基团 阴离子 双端羟基异戊二烯
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