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双工件台光刻机中的焦面控制技术
被引量：
5
1
作者
李金龙
胡松
赵立新
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第12期234-238,共5页
面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的光栅检焦技术及其测量原理,研究了双工件台光刻机中的调平调焦技术。基于平面拟合、最小二乘法及坐标变...
面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的光栅检焦技术及其测量原理,研究了双工件台光刻机中的调平调焦技术。基于平面拟合、最小二乘法及坐标变换公式推导了曝光狭缝内离焦量计算公式;研究了一种离焦量解耦算法,该算法将曝光狭缝内离焦量解耦为调平调焦机构三个压电陶瓷的独立控制量,并使狭缝曝光场中心在调平调焦运动过程中不发生平移。经仿真分析表明,该算法可用于调平调焦精度优于10nm的高精度调焦调平系统,能满足线宽小于100nm投影步进扫描光刻机的需要。
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关键词
光学器件
光刻
术
调平调焦
双
工件
台
光刻机
原文传递
题名
双工件台光刻机中的焦面控制技术
被引量：
5
1
作者
李金龙
胡松
赵立新
机构
中国科学院光电技术研究所
中国科学院大学
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第12期234-238,共5页
基金
国家自然科学基金(61274108)资助课题
文摘
面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术,介绍了基于偏振调制的光栅检焦技术及其测量原理,研究了双工件台光刻机中的调平调焦技术。基于平面拟合、最小二乘法及坐标变换公式推导了曝光狭缝内离焦量计算公式;研究了一种离焦量解耦算法,该算法将曝光狭缝内离焦量解耦为调平调焦机构三个压电陶瓷的独立控制量,并使狭缝曝光场中心在调平调焦运动过程中不发生平移。经仿真分析表明,该算法可用于调平调焦精度优于10nm的高精度调焦调平系统,能满足线宽小于100nm投影步进扫描光刻机的需要。
关键词
光学器件
光刻
术
调平调焦
双
工件
台
光刻机
Keywords
optical devices
photolithography
leveling and focusing
dual-stage lithograohic system
分类号
TP212.6 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
双工件台光刻机中的焦面控制技术
李金龙
胡松
赵立新
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
原文传递
已选择
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