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高速并行双光子激光直写光刻系统
被引量:
11
1
作者
王洪庆
温积森
+10 位作者
杨臻垚
汤孟博
孙秋媛
马程鹏
王子昂
詹兰馨
张晓依
曹春
沈小明
丁晨良
匡翠方
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第22期115-122,共8页
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制...
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制器的联合调控,实现了六通道并行刻写功能,且每个通道可独立调控,调控频率可达MHz以上。实验结果表明,每通道直写速度最高可达7.770 m/s,刻写特征尺度最小为150 nm,并行刻写时的最高直写速度可达46.62 m/s。此外,本团队基于反射式像旋转器设计了一种高精度调节通道间距的方法,调节精度优于1 nm。
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关键词
光学制造
微纳加工
双
光子
激光
直
写
多光束并行制造
原文传递
基于导星纳米对准的片上光子引线直写技术
2
作者
孙伯文
周国尊
+3 位作者
杨振宇
卞殷旭
匡翠方
刘旭
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第5期203-210,共8页
针对双光子激光直写片上光子引线波导的纳米级对准需求,提出了基于导星数字匹配与纳米智能对准的方法,实现了高精度、高密度片上光子引线互联纳米结构3D直写加工。面向片上光子引线波导的背景与需求,设计了双光子直写光刻系统的光学系...
针对双光子激光直写片上光子引线波导的纳米级对准需求,提出了基于导星数字匹配与纳米智能对准的方法,实现了高精度、高密度片上光子引线互联纳米结构3D直写加工。面向片上光子引线波导的背景与需求,设计了双光子直写光刻系统的光学系统结构,在硬件上设计了独特的导星,在算法上利用机器视觉的智能识别方法,精确定位了片上光子引线波导连接结构。所刻写的光子引线与硅片波导的平均偏差角度为0.19°,绝对位置平均对准精度为29 nm,标准差为17 nm。所提方案为实现高精度、高密度的光学片上互联提供了一种可行的方法,在芯片封装、多材料功能结构制备、复杂结构修饰等高精度加工领域有着重要的科学和应用意义。
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关键词
光学设计
光刻
机器视觉
片上
光子
引线
波导加工
双
光子
激光
直
写
原文传递
题名
高速并行双光子激光直写光刻系统
被引量:
11
1
作者
王洪庆
温积森
杨臻垚
汤孟博
孙秋媛
马程鹏
王子昂
詹兰馨
张晓依
曹春
沈小明
丁晨良
匡翠方
机构
之江实验室智能芯片与器件研究中心
浙江大学光电科学与工程学院现代光学仪器国家重点实验室
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第22期115-122,共8页
基金
之江实验室重大科研项目(2020MC0AE01)
国家自然科学基金青年科学基金(52105565)
+2 种基金
浙江省自然科学基金重大项目(LD21F050002)
杭州市人力资源和社会保障局2020年度博士后科研资助项目(2021MC3UB04)
杭州市余杭区人力资源和社会保障局2020年度博士后科研配套补助项目(2021MC3UB16)。
文摘
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制器的联合调控,实现了六通道并行刻写功能,且每个通道可独立调控,调控频率可达MHz以上。实验结果表明,每通道直写速度最高可达7.770 m/s,刻写特征尺度最小为150 nm,并行刻写时的最高直写速度可达46.62 m/s。此外,本团队基于反射式像旋转器设计了一种高精度调节通道间距的方法,调节精度优于1 nm。
关键词
光学制造
微纳加工
双
光子
激光
直
写
多光束并行制造
Keywords
optical fabrication
micro-and nanofabrication
two-photon laser direct writing
parallel fabrication of multiple beams
分类号
O439 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
基于导星纳米对准的片上光子引线直写技术
2
作者
孙伯文
周国尊
杨振宇
卞殷旭
匡翠方
刘旭
机构
浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学光电科学与工程学院
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第5期203-210,共8页
基金
国家重点研发计划:高集成三维光子器件的超分辨并行激光加工(2021YFF0502703)
国家重点研发计划(2023YFF0722700)
国家自然科学基金(62005120,62125504)。
文摘
针对双光子激光直写片上光子引线波导的纳米级对准需求,提出了基于导星数字匹配与纳米智能对准的方法,实现了高精度、高密度片上光子引线互联纳米结构3D直写加工。面向片上光子引线波导的背景与需求,设计了双光子直写光刻系统的光学系统结构,在硬件上设计了独特的导星,在算法上利用机器视觉的智能识别方法,精确定位了片上光子引线波导连接结构。所刻写的光子引线与硅片波导的平均偏差角度为0.19°,绝对位置平均对准精度为29 nm,标准差为17 nm。所提方案为实现高精度、高密度的光学片上互联提供了一种可行的方法,在芯片封装、多材料功能结构制备、复杂结构修饰等高精度加工领域有着重要的科学和应用意义。
关键词
光学设计
光刻
机器视觉
片上
光子
引线
波导加工
双
光子
激光
直
写
Keywords
optical design
lithography
machine vision
onchip photonic lead
waveguide processing
twophoton laser direct writing
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高速并行双光子激光直写光刻系统
王洪庆
温积森
杨臻垚
汤孟博
孙秋媛
马程鹏
王子昂
詹兰馨
张晓依
曹春
沈小明
丁晨良
匡翠方
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
11
原文传递
2
基于导星纳米对准的片上光子引线直写技术
孙伯文
周国尊
杨振宇
卞殷旭
匡翠方
刘旭
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
原文传递
已选择
0
条
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参考文献
引证文献
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