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题名RZJ-304光刻胶压电雾化喷涂工艺及其应用
被引量：1
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作者
翟荣安
缪灿锋
魏顶
储成智
汝长海
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机构
苏州大学江苏省机器人与微系统研究中心
苏州大学苏州纳米科技协同创新中心
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出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第20期1070-1073,共4页
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基金
国家自然科学基金仪器重大专项(61327811)
苏州市科学发展计划纳米技术专项(ZXG201433)
欧盟第七框架国际合作基金(PIRSES-GA-2013-612641)
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文摘
在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RZJ-304正性光刻胶为研究对象,圆形抛光硅片为基材,研究了稀释体积比、预热温度以及喷涂层数对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响,并得到最佳工艺参数。以具有方形结构的抛光硅片为基材,分别进行压电雾化喷涂法和离心旋转法涂胶,并进行图案光刻,结果表明压电雾化喷涂法可以在非圆形形貌上得到清晰完整的图案,克服了传统离心旋转法无法在非圆形面上涂胶的缺陷,验证了压电雾化喷涂法在非圆形形貌应用中的可行性。
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关键词
正性光刻胶
压电雾化喷涂
平均厚度
均匀性
抛光硅片
方形结构
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Keywords
positive photoresist
piezoelectric spraying
average thickness
uniformity
polished silicon wafer
squarestructure
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
TH122
[机械工程—机械设计及理论]
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题名基于压电雾化喷涂的光刻胶涂覆工艺及其应用研究
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作者
翟荣安
汝长海
陈瑞华
朱军辉
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机构
苏州微赛智能科技有限公司
苏州大学机器人与微系统研究中心
上海大学机电工程与自动化学院
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出处
《黑龙江科学》
2017年第6期98-100,共3页
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基金
江苏省科技项目科技型企业技术创新资金项目(BC2015130)
苏州市科技计划项目姑苏创新创业领军人才专项(ZXL2016035)
吴江区科技领军人才计划项目
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文摘
本文在自主搭建的压电雾化喷涂系统上,以RFJ-210负性光刻胶为研究对象,抛光硅片为基材,分别研究了稀释体积比、速度以及距离等喷涂工艺对光刻胶薄膜平均厚度及均匀性的影响。并以表面具有非平面凸台结构的ITO玻璃为基材,分别进行压电雾化喷涂法和旋转法涂胶,实验结果表明:压电雾化喷涂法可以在三维形貌结构表面上涂覆,克服了传统旋转法无法在三维形貌结构表面上涂胶的缺陷,验证了压电雾化喷涂法在三维形貌结构表面应用中的可行性。
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关键词
负性光刻胶
压电雾化喷涂
平均厚度
均匀性
抛光硅片
凸台结构
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Keywords
Negative photoresist
Piezoelectric spraying
Average thickness
Uniformity
Silicon wafer
Convex strueture
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
TH122
[机械工程—机械设计及理论]
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