重点描述了三氯硅烷(HS iC l3)的制备和精制工艺。HS iC l3的工业化合成方法主要有硅氢氯化法和四氯化硅-氢还原法2种,HS iC l3的精制方法主要有精馏法、吸附法和多步精制法,其中多步精制法又可分为冷凝-精馏法、反应-精馏法、吸附-精...重点描述了三氯硅烷(HS iC l3)的制备和精制工艺。HS iC l3的工业化合成方法主要有硅氢氯化法和四氯化硅-氢还原法2种,HS iC l3的精制方法主要有精馏法、吸附法和多步精制法,其中多步精制法又可分为冷凝-精馏法、反应-精馏法、吸附-精馏法等。结合使用先进的精制工艺,产品可满足高端电子产品的需求。同时介绍了高纯HS iC l3的国际生产情况,指出中国目前HS iC l3产品的纯度只能满足中低端应用,今后应加紧开发高纯度级别的产品,缩短与国外先进水平的差距。展开更多
文摘重点描述了三氯硅烷(HS iC l3)的制备和精制工艺。HS iC l3的工业化合成方法主要有硅氢氯化法和四氯化硅-氢还原法2种,HS iC l3的精制方法主要有精馏法、吸附法和多步精制法,其中多步精制法又可分为冷凝-精馏法、反应-精馏法、吸附-精馏法等。结合使用先进的精制工艺,产品可满足高端电子产品的需求。同时介绍了高纯HS iC l3的国际生产情况,指出中国目前HS iC l3产品的纯度只能满足中低端应用,今后应加紧开发高纯度级别的产品,缩短与国外先进水平的差距。
