期刊文献+
共找到127篇文章
< 1 2 7 >
每页显示 20 50 100
基于优化模型的纳米器件逻辑单元单粒子瞬态仿真研究
1
作者 王坦 丁李利 +3 位作者 罗尹虹 赵雯 张凤祁 徐静妍 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1119-1126,共8页
空间辐射诱发的单粒子瞬态(SET)是航天电子系统可靠性的主要威胁。本文分析了现有电荷注入仿真模型的不足,提出了一种改进的结合灵敏体和双极扩散机制的电荷收集模型,综合考虑了寄生双极放大效应和电荷共享效应,可针对不同角度、不同线... 空间辐射诱发的单粒子瞬态(SET)是航天电子系统可靠性的主要威胁。本文分析了现有电荷注入仿真模型的不足,提出了一种改进的结合灵敏体和双极扩散机制的电荷收集模型,综合考虑了寄生双极放大效应和电荷共享效应,可针对不同角度、不同线性能量传输值(LET)的重离子入射版图不同位置,计算获取SET平均脉宽及敏感截面分布。该方法已集成于项目组自研TREES软件,并针对商用65 nm工艺库中的多种逻辑单元开展了相关仿真计算。结果表明,该方法可在物理版图设计阶段评估单粒子瞬态截面及脉宽分布,为版图屏蔽SET设计加固提供基础参考数据。 展开更多
关键词 空间辐射 粒子瞬态 电路级仿真 电荷共享 寄生双极放大
下载PDF
偏置电压和温度对22 nm FDSOI器件单粒子瞬态的影响研究
2
作者 黄潇枫 李臣明 +4 位作者 王海滨 孙永姝 王亮 郭刚 汪学明 《集成电路与嵌入式系统》 2024年第7期30-36,共7页
针对22 nm FDSOI工艺在辐射环境下的单粒子瞬态问题,基于Sentaurus TCAD仿真工具对22 nm FDSOI NMOS进行建模,仿真研究了22 nm FDSOI NMOS的单粒子瞬态敏感区域,以及不同偏置电压和工作温度对单粒子瞬态的影响机理。仿真结果表明,22 nm ... 针对22 nm FDSOI工艺在辐射环境下的单粒子瞬态问题,基于Sentaurus TCAD仿真工具对22 nm FDSOI NMOS进行建模,仿真研究了22 nm FDSOI NMOS的单粒子瞬态敏感区域,以及不同偏置电压和工作温度对单粒子瞬态的影响机理。仿真结果表明,22 nm FDSOI NMOS的敏感区域为体区和靠近体区的LDD区域;随着偏置电压的升高,漏端总收集电荷逐渐增大,漏端瞬态脉冲电流的脉冲宽度逐渐减小;相较于偏置电压对单粒子瞬态的影响,工作温度对22 nm FDSOI NMOS单粒子瞬态的影响并不明显。 展开更多
关键词 22 nm FDSOI 粒子瞬态 亚阈值 TCAD
下载PDF
22nm全耗尽型绝缘体上硅器件单粒子瞬态效应的敏感区域
3
作者 张博翰 梁斌 +1 位作者 刘小年 方亚豪 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期146-152,共7页
基于3D-TCAD模拟,研究了22 nm全耗尽型绝缘体上硅(fully depleted silicon-on-insulator,FDSOI)器件单粒子瞬态(single-event transient,SET)效应的敏感性区域。对比了使用单管和使用反相器来研究器件SET敏感性区域的方法,从而分析实际... 基于3D-TCAD模拟,研究了22 nm全耗尽型绝缘体上硅(fully depleted silicon-on-insulator,FDSOI)器件单粒子瞬态(single-event transient,SET)效应的敏感性区域。对比了使用单管和使用反相器来研究器件SET敏感性区域的方法,从而分析实际电路中重离子轰击位置对22 nm FDSOI器件SET敏感性的影响,并从电荷收集机制的角度进行了解释。深入分析发现寄生双极放大效应对重粒子轰击位置敏感是造成器件不同区域SET敏感性不同的原因。而单管漏极接恒压源造成漏极敏感性增强是导致单管与反相器中器件SET敏感区域不同的原因。修正了FDSOI工艺下器件SET敏感性区域的研究方法,与单管相比,采用反相器进行仿真,结果更符合实际情况,这将为器件SET加固提供理论指导。 展开更多
关键词 粒子瞬态 电荷收集 双极放大效应 敏感区域 全耗尽型绝缘体上硅
下载PDF
40 nm CMOS工艺下的低功耗容软错误锁存器 被引量:5
4
作者 黄正峰 王世超 +2 位作者 欧阳一鸣 易茂祥 梁华国 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2017年第6期1464-1471,共8页
为了降低集成电路的软错误率,该文基于时间冗余的方法提出一种低功耗容忍软错误锁存器。该锁存器不但可以过滤上游组合逻辑传播过来的SET脉冲,而且对SEU完全免疫。其输出节点不会因为高能粒子轰击而进入高阻态,所以该锁存器能够适用于... 为了降低集成电路的软错误率,该文基于时间冗余的方法提出一种低功耗容忍软错误锁存器。该锁存器不但可以过滤上游组合逻辑传播过来的SET脉冲,而且对SEU完全免疫。其输出节点不会因为高能粒子轰击而进入高阻态,所以该锁存器能够适用于门控时钟电路。SPICE仿真结果表明,与同类的加固锁存器相比,该文结构仅仅增加13.4%的平均延时,使得可以过滤的SET脉冲宽度平均增加了44.3%,并且功耗平均降低了48.5%,功耗延时积(PDP)平均降低了46.0%,晶体管数目平均减少了9.1%。 展开更多
关键词 软错误 粒子翻转 粒子瞬态 加固锁存器
下载PDF
0.18μm部分耗尽绝缘体上硅互补金属氧化物半导体电路单粒子瞬态特性研究 被引量:5
5
作者 赵星 梅博 +6 位作者 毕津顺 郑中山 高林春 曾传滨 罗家俊 于芳 韩郑生 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第13期286-293,共8页
利用脉冲激光入射技术研究100级0.18μm部分耗尽绝缘体上硅互补金属氧化物半导体反相器链的单粒子瞬态效应,分析了激光入射器件类型及入射位置对单粒子瞬态脉冲传输特性的影响.实验结果表明,单粒子瞬态脉冲在反相器链中的传输与激光入... 利用脉冲激光入射技术研究100级0.18μm部分耗尽绝缘体上硅互补金属氧化物半导体反相器链的单粒子瞬态效应,分析了激光入射器件类型及入射位置对单粒子瞬态脉冲传输特性的影响.实验结果表明,单粒子瞬态脉冲在反相器链中的传输与激光入射位置有关,当激光入射第100级到第2级的n型金属-氧化物-半导体器件,得到的脉冲宽度从287.4 ps增加到427.5 ps;当激光入射第99级到第1级的p型金属-氧化物-半导体器件,得到的脉冲宽度从150.5 ps增加到295.9 ps.激光入射点靠近输出则得到的瞬态波形窄;靠近输入则得到的瞬态波形较宽,单粒子瞬态脉冲随着反相器链的传输而展宽.入射器件的类型对单粒子瞬态脉冲展宽无影响.通过理论分析得到,部分耗尽绝缘体上硅器件浮体效应导致的阈值电压迟滞是反相器链单粒子瞬态脉冲展宽的主要原因.而示波器观察到的与预期结果幅值相反的正输出脉冲,是输出节点电容充放电的结果. 展开更多
关键词 粒子瞬态 脉冲激光 部分耗尽绝缘体上硅 传输导致的脉冲展宽效应
下载PDF
一种基于双模冗余的扫描结构TSPC型D触发器设计
6
作者 曹雪兵 《微处理机》 2023年第5期1-5,共5页
针对纳米级工艺中存在的组合逻辑电路单粒子瞬态现象对电路可靠性的危害问题。通过采用基于延迟单元的双模冗余思想,在传统设计的基础上,提出一种改进的可以抗单粒子翻转和单粒子瞬态的带有扫描输入功能的TSPC型D触发器。该设计采用双... 针对纳米级工艺中存在的组合逻辑电路单粒子瞬态现象对电路可靠性的危害问题。通过采用基于延迟单元的双模冗余思想,在传统设计的基础上,提出一种改进的可以抗单粒子翻转和单粒子瞬态的带有扫描输入功能的TSPC型D触发器。该设计采用双模冗余结构实现抗单粒子翻转加固,通过引入延迟单元结构消除输入数据信号所产生的SET瞬态脉冲,并添加扫描输入功能增强触发器的灵活性与系统的可测性。通过UMC 55nm工艺软错误故障注入仿真,结果表明,所提出的电路结构能够有效抑制单粒子翻转和单粒子瞬态脉冲对D触发器可靠性的影响。 展开更多
关键词 粒子翻转 粒子瞬态 双模冗余 D触发器
下载PDF
P型阱接触布局对于单粒子瞬态脉冲宽度的影响
7
作者 陈南心 丁李利 +4 位作者 陈伟 王坦 张凤祁 徐静妍 罗尹虹 《现代应用物理》 2023年第3期210-216,共7页
针对40 nm体硅双阱工艺CMOS(complementary metal oxide semiconductor)反相器的单粒子瞬态敏感效应(single event transient,SET),通过3维TCAD(technology computer aided design)仿真软件模拟计算,研究了P阱接触面积对于单粒子敏感性... 针对40 nm体硅双阱工艺CMOS(complementary metal oxide semiconductor)反相器的单粒子瞬态敏感效应(single event transient,SET),通过3维TCAD(technology computer aided design)仿真软件模拟计算,研究了P阱接触面积对于单粒子敏感性的影响。仿真结果表明,重离子轰击N型有源区时,增大P阱接触面积可稳定器件的电势和减小双极放大效应,有效减小SET脉冲宽度;重离子轰击P型有源区时,器件受到多种效应影响,增大P阱接触面积虽能减小双极放大效应,但会产生强内建电场,加剧载流子漂移收集,导致SET脉冲宽度增加。此外,阱接触与晶体管的距离对SET脉冲宽度也有一定影响。研究结果表明,增大阱接触与晶体管之间的距离一定程度上可减小SET脉冲宽度,但在轰击P型有源区的情况下,增大阱接触与晶体管之间的距离反而会增大SET脉冲宽度。传统的加固手段对P型阱接触也有较好的作用,但在特定情况下会起到反作用。 展开更多
关键词 寄生效应 粒子效应 粒子瞬态 TCAD仿真
下载PDF
一种新颖高效抗SEU/SET锁存器设计 被引量:4
8
作者 梁华国 王旭明 黄正峰 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2014年第7期27-31,36,共6页
随着工艺技术的发展,集成电路对单粒子效应的敏感性不断增加,因而设计容忍单粒子效应的加固电路日益重要.提出了一种新颖的针对单粒子效应的加固锁存器设计,可以有效地缓解单粒子效应对于电路芯片的影响.该锁存器基于DICE和C单元的混合... 随着工艺技术的发展,集成电路对单粒子效应的敏感性不断增加,因而设计容忍单粒子效应的加固电路日益重要.提出了一种新颖的针对单粒子效应的加固锁存器设计,可以有效地缓解单粒子效应对于电路芯片的影响.该锁存器基于DICE和C单元的混合结构,并采用了双模冗余设计.SPICE仿真结果证实了它具有良好的抗SEU/SET性能,软错误率比M.Fazeli等人提出的反馈冗余锁存器结构减少了44.9%.与经典的三模冗余结构比较,面积开销减少了28.6%,功耗开销降低了超过47%. 展开更多
关键词 粒子翻转 粒子瞬态 锁存器 软错误 双模冗余
下载PDF
温度和偏压对4H-SiC FinFET器件单粒子瞬态效应的影响
9
作者 刘保军 钱亮 +1 位作者 杨晓阔 周平 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2023年第3期454-458,共5页
基于TCAD构建了14 nm SOI 4H-SiC FinFET器件的单粒子瞬态(SET)仿真模型。设置环境温度范围258~398 K,分析了不同偏压对器件的SET的影响,并探讨了其作用机理。结果表明,温度的升高,改变了器件的费米能级,减小了带隙,增大了驱动电流,增... 基于TCAD构建了14 nm SOI 4H-SiC FinFET器件的单粒子瞬态(SET)仿真模型。设置环境温度范围258~398 K,分析了不同偏压对器件的SET的影响,并探讨了其作用机理。结果表明,温度的升高,改变了器件的费米能级,减小了带隙,增大了驱动电流,增强了器件的抗SET免疫性;偏压的增大,增加了内部电场,提高了电荷收集率,增加了器件的SET敏感性。由于温度和偏压对SET影响的竞争关系,使得器件在温度398 K、偏压0.4 V时,所产生的SET最弱,与温度300 K、偏压0.8 V的SET相比,其峰值电流和收集电荷分别相对减小22.77%、50.83%。 展开更多
关键词 粒子瞬态 FINFET 温度 偏压 4H-SIC
原文传递
纳米FinFET的单粒子瞬态与Fin结构的相关性研究
10
作者 刘保军 陈名华 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第2期338-343,共6页
工艺差异引起的Fin结构变化会造成纳米FinFET器件呈现不同的电学特性,使器件的单粒子瞬态效应(SET)复杂化。基于电学特性校准的14 nm SOI标准型FinFET器件,构建了弹头型、三角型、阶梯型、半圆型及底部椭圆型等5种结构,分析了SET的表征... 工艺差异引起的Fin结构变化会造成纳米FinFET器件呈现不同的电学特性,使器件的单粒子瞬态效应(SET)复杂化。基于电学特性校准的14 nm SOI标准型FinFET器件,构建了弹头型、三角型、阶梯型、半圆型及底部椭圆型等5种结构,分析了SET的表征量与Fin结构参数间的相关性,并利用灰色理论,研究了它们之间的内在关联性。结果表明,器件的收集电荷量、沉积电荷量与Fin的截面积显著相关;SET电流峰值、电子-空穴对产生率峰值及双极放大系数同时依赖于Fin的截面积和等效沟道宽度,且对等效沟道宽度的依赖性更强。 展开更多
关键词 FINFET 粒子瞬态 Fin结构 相关性 工艺差异
下载PDF
一款抗单粒子瞬态加固的偏置电路 被引量:4
11
作者 韩本光 曹琛 +1 位作者 吴龙胜 刘佑宝 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期190-194,共5页
通过增加一个NMOP、PMOS和一个电阻组成的单粒子瞬态抑制电路,设计了一种新的抗单粒子瞬态加固的偏置电路,该偏置电路具有较高抗单粒子瞬态能力.为了证实其抗单粒子能力,基于SIMC 130nm CMOS工艺设计了传统的及提出的抗单粒子瞬态两种... 通过增加一个NMOP、PMOS和一个电阻组成的单粒子瞬态抑制电路,设计了一种新的抗单粒子瞬态加固的偏置电路,该偏置电路具有较高抗单粒子瞬态能力.为了证实其抗单粒子能力,基于SIMC 130nm CMOS工艺设计了传统的及提出的抗单粒子瞬态两种结构的偏置电路.仿真结果表明,对于提出的加固偏置电路,由单粒子引起的瞬态电压和电流的变化幅值分别减小了约80.6%和81.2%;同时增加的单粒子瞬态抑制电路在正常工作状态下不消耗额外功耗,且所占用的芯片面积小,也没有引入额外的单粒子敏感结点. 展开更多
关键词 抗辐射设计加固 粒子瞬态 辐射效应 偏置电路 线性能量传输(LET)
下载PDF
14nm SOI FinFET器件单粒子瞬态的复合双指数电流源模型 被引量:3
12
作者 刘保军 张爽 李闯 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第2期93-98,共6页
单粒子瞬态(SET)的电路仿真通常是注入双指数电流源来模拟,然而,纳米FinFET器件的SET采用单个双指数电流源模拟会带来较大误差。TCAD仿真结果较准确,但耗时较长,为了较为准确地电路仿真SET,提出了一种SET的复合双指数电流源模型。利用T... 单粒子瞬态(SET)的电路仿真通常是注入双指数电流源来模拟,然而,纳米FinFET器件的SET采用单个双指数电流源模拟会带来较大误差。TCAD仿真结果较准确,但耗时较长,为了较为准确地电路仿真SET,提出了一种SET的复合双指数电流源模型。利用TCAD对电学特性校准的14 nm SOI FinFET器件的SET进行仿真,通过分析瞬态电流波形,对比双指数模型特点,提取特征参数,并利用遗传算法对模型参数进行优化处理,得到了关于线性能量转移(LET)的复合双电流源参数的解析模型。利用此复合双指数电流源模型与TCAD得到的瞬态电流波形、峰值和收集电荷量进行对比检验。结果显示,本文模型得到的SET电流波形与TCAD的基本吻合,与TCAD相比,模型的峰值电流的平均误差和最大误差分别为3.00%、5.06%;收集电荷量的平均误差和最大误差分别为4.02%、7.17%。 展开更多
关键词 粒子瞬态 复合双指数电流源 鳍型场效应晶体管(FinFET) 电路仿真 绝缘体上硅(SOI) 收集电荷 高k栅 遗传算法
下载PDF
14 nm pFinFET 器件抗单粒子辐射的加固方法
13
作者 史柱 王斌 +3 位作者 杨博 赵雁鹏 惠思源 刘文平 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期3335-3342,共8页
为探究先进互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺在空间应用中的可靠性问题,研究14 nm工艺下P型沟道鳍式场效应晶体管(pFinFET)器件中的抗单粒子瞬态(SET)加固策略。通过在器件中插入平行于鳍方向的重掺杂N型沟槽(Ntie)和P型沟槽(Ptie)来减缓... 为探究先进互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺在空间应用中的可靠性问题,研究14 nm工艺下P型沟道鳍式场效应晶体管(pFinFET)器件中的抗单粒子瞬态(SET)加固策略。通过在器件中插入平行于鳍方向的重掺杂N型沟槽(Ntie)和P型沟槽(Ptie)来减缓SET的影响。三维TCAD仿真结果表明:加固之后器件的抗SET特性和沟槽本身的偏置条件相关。当重掺杂沟槽处于零偏状态时,抗辐射加固的性能最好,SET脉冲宽度降低程度可达40%左右;然而,当处于反偏状态时,由于特殊的电荷收集过程的存在,使得SET脉冲幅度反而会明显增大,脉冲宽度减小程度并不明显。此外,还研究沟槽面积、间距及掺杂浓度对pFinFET中的SET脉冲宽度的影响,得到提高抗SET效果的加固方法。 展开更多
关键词 鳍式场效应晶体管 粒子瞬态 器件 辐射加固 工艺
下载PDF
一种先进CMOS工艺下抗单粒子瞬态加固的与非门
14
作者 史柱 肖筱 +4 位作者 王斌 杨博 卢红利 岳红菊 刘文平 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第5期114-121,共8页
先进纳米集成电路工艺的发展使得微电子器件翻转的阈值电荷不断降低,导致数字电路中由单粒子效应引起的软错误率增加。为加强集成电路中标准单元的抗辐射特性,本文提出了一种抗单粒子瞬态(single-event transient,SET)加固的与非门结构... 先进纳米集成电路工艺的发展使得微电子器件翻转的阈值电荷不断降低,导致数字电路中由单粒子效应引起的软错误率增加。为加强集成电路中标准单元的抗辐射特性,本文提出了一种抗单粒子瞬态(single-event transient,SET)加固的与非门结构。在三阱工艺下,通过将下拉网络中每一个NMOS管的衬底和源极各自短接,便有效地提高了与非门抗辐射性能,而且随着输入端数目的增加,本文提出的与非门加固效果更加明显。利用Sentaurus TCAD软件的混合仿真模式进行粒子入射仿真实验,对于与输出节点相连的NMOS管采用经过工艺校准的三维物理模型,其他MOS管采用工艺厂商提供的Spice模型。结果显示:在40 nm工艺下,当入射粒子线性能量传输(linear energy transfer,LET)值为10 MeV·cm^(2)/mg时,本文提出的2输入与非门能够在3种输入的情况下降低输出电压扰动幅度。其中在N_(2)管关闭的输入模式下,达到了对单粒子入射免疫的效果;对于3输入与非门,即使在“最坏”输入的情况下,也能使输出电压翻转幅度降低85.4%。因此,本文提出的与非门加固方法起到了显著的抗单粒子瞬态效果。 展开更多
关键词 辐射加固 粒子瞬态 组合逻辑 与非门 工艺
下载PDF
一种低压差线性稳压器的单粒子瞬态失效分析和加固设计
15
作者 沈凡 陈建军 +4 位作者 池雅庆 梁斌 王珣 文溢 郭昊 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第11期3965-3972,共8页
随着集成电路特征尺寸的不断缩减,CMOS集成电路的单粒子效应问题越来越严重。为了提高低压差线性稳压器(LDO)的单粒子瞬态(SET)效应加固效果,该文通过SPICE电路仿真和重离子实验研究了一种28 nm CMOS工艺LDO的SET失效机制,并研究了关键... 随着集成电路特征尺寸的不断缩减,CMOS集成电路的单粒子效应问题越来越严重。为了提高低压差线性稳压器(LDO)的单粒子瞬态(SET)效应加固效果,该文通过SPICE电路仿真和重离子实验研究了一种28 nm CMOS工艺LDO的SET失效机制,并研究了关键器件尺寸大小对SET脉冲的影响,提出一种有效的LDO加固方法。SPICE电路仿真发现这种LDO的敏感节点主要位于误差放大器(EA)内部。功率管(MOSFET)栅极节点的环路滤波电容会明显地影响单粒子瞬态脉冲的幅度,也会轻微地影响单粒子瞬态脉冲的宽度。误差放大器内部关键节点的器件尺寸会影响稳压器输出的单粒子瞬态脉冲的幅度和宽度。通过增加功率管(MOSFET)栅极节点电容和调整误差放大器内部相关节点器件尺寸的方法对LDO进行了SET加固设计。电路仿真和重离子实验结果表明这种加固方法能够有效地降低LDO输出的单粒子瞬态脉冲的幅度和宽度。 展开更多
关键词 粒子瞬态 低压差线性稳压器 重离子实验 SPICE电路仿真 28 nm CMOS工艺
下载PDF
星载抗辐射加固接收DBF ASIC设计与实现 被引量:4
16
作者 袁雅婧 贾亮 +2 位作者 巨艇 赖晓玲 周国昌 《空间电子技术》 2015年第2期50-53,67,共5页
空间环境中存在的大量粒子,其辐射效应,特别是单粒子效应,严重威胁着空间CMOS器件的可靠性。文章首先分析了几种典型的数字单粒子瞬态加固技术,并提出了一种适合接收数字波束形成ASIC的抗辐射加固电路结构。通过对标准ASIC设计流程进行... 空间环境中存在的大量粒子,其辐射效应,特别是单粒子效应,严重威胁着空间CMOS器件的可靠性。文章首先分析了几种典型的数字单粒子瞬态加固技术,并提出了一种适合接收数字波束形成ASIC的抗辐射加固电路结构。通过对标准ASIC设计流程进行改进,给出了抗辐射加固ASIC设计流程。基于该改进的ASIC设计流程,实现了接收DBF ASIC的研制。 展开更多
关键词 数字波束形成 抗辐射加固ASIC 粒子瞬态 设计流程
下载PDF
一种抑制单粒子瞬态响应的SiGe HBT工艺加固技术仿真
17
作者 易孝辉 谭开洲 +4 位作者 张培健 魏佳男 洪敏 罗婷 徐开凯 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第6期965-970,共6页
基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,开展了无深槽NPN SiGe HBT工艺和器件仿真。模拟了带深P阱SiGe HBT的制备过程、常规电学特性和重离子单粒子效应。该器件与常规器件相比表现出更优的单粒子瞬态(SET)特性,在关态的SET响应峰值下降了80%,在... 基于0.13μm SiGe BiCMOS工艺,开展了无深槽NPN SiGe HBT工艺和器件仿真。模拟了带深P阱SiGe HBT的制备过程、常规电学特性和重离子单粒子效应。该器件与常规器件相比表现出更优的单粒子瞬态(SET)特性,在关态的SET响应峰值下降了80%,在最大特征频率工作点的SET响应峰值下降了27%,瞬态保持时间也大幅减小。使用深N阱和深P阱隔离同时抑制了集电区-衬底结的漂移载流子收集和衬底扩散载流子收集的过程,极大地提高了器件的SET性能。 展开更多
关键词 SiGe BiCMOS SiGe HBT 粒子瞬态 电荷收集 深P阱
下载PDF
基于130nm CMOS工艺抗单粒子翻转和单粒子瞬态加固技术研究 被引量:3
18
作者 巨艇 王轩 +2 位作者 张健 赖晓玲 周国昌 《空间电子技术》 2016年第3期63-67,共5页
在空间辐射环境下,CMOS集成电路易受到单粒子翻转和单粒子瞬态的影响,可导致器件功能异常。文章首先分析了几种典型的加固技术,并从触发器的电路结构和物理版图出发,提出了一种基于130nm CMOS工艺抗单粒子翻转和单粒子瞬态脉冲的触发器... 在空间辐射环境下,CMOS集成电路易受到单粒子翻转和单粒子瞬态的影响,可导致器件功能异常。文章首先分析了几种典型的加固技术,并从触发器的电路结构和物理版图出发,提出了一种基于130nm CMOS工艺抗单粒子翻转和单粒子瞬态脉冲的触发器单元加固设计方法。并结合设计方法,实现了抗辐射加固触发器的设计,通过仿真分析验证了设计的正确性。 展开更多
关键词 触发器 粒子翻转 粒子瞬态 抗辐射加固
下载PDF
65 nm体硅工艺NMOS中单粒子多瞬态效应的研究 被引量:3
19
作者 梁永生 吴郁 +1 位作者 郑宏超 李哲 《电子科技》 2018年第1期12-15,共4页
针对NMOS场效应晶体管由重离子辐射诱导发生的单粒子多瞬态现象,参考65 nm体硅CMOS的单粒子瞬态效应的试验数据,采用TCAD仿真手段,搭建了65 nm体硅NMOS晶体管的TCAD模型,并进一步对无加固结构、保护环结构、保护漏结构以及保护环加保护... 针对NMOS场效应晶体管由重离子辐射诱导发生的单粒子多瞬态现象,参考65 nm体硅CMOS的单粒子瞬态效应的试验数据,采用TCAD仿真手段,搭建了65 nm体硅NMOS晶体管的TCAD模型,并进一步对无加固结构、保护环结构、保护漏结构以及保护环加保护漏结构的抗单粒子瞬态效应的机理和能力进行仿真分析。结果表明,NMOS器件的源结和保护环结构的抗单粒子多瞬态效应的效果更加明显。 展开更多
关键词 粒子效应 粒子瞬态 电荷共享 抗辐射
下载PDF
65nm反相器单粒子瞬态脉宽分布的多峰值现象 被引量:3
20
作者 刘家齐 赵元富 +3 位作者 王亮 郑宏超 舒磊 李同德 《电子技术应用》 北大核心 2017年第1期20-23,共4页
基于65 nm工艺下单粒子瞬态脉宽检测电路,在重离子辐照下,对目标单元单粒子瞬态脉宽进行了测试。针对实验结果中单粒子瞬态脉宽分布出现多峰的现象进行了分析。详细对比了反相器多峰现象与LET值、温度、阈值电压间的关系。通过TCAD仿真... 基于65 nm工艺下单粒子瞬态脉宽检测电路,在重离子辐照下,对目标单元单粒子瞬态脉宽进行了测试。针对实验结果中单粒子瞬态脉宽分布出现多峰的现象进行了分析。详细对比了反相器多峰现象与LET值、温度、阈值电压间的关系。通过TCAD仿真分析了多峰现象的原因,即PMOS由于寄生双极效应,在高LET粒子攻击下产生的瞬态脉冲脉宽大于粒子攻击NMOS产生的瞬态脉冲脉宽。高温条件会使得寄生双极效应更加严重,因此在高温条件下脉宽分布的多峰现象更加明显。 展开更多
关键词 粒子瞬态 多峰现象 65 nm反相器
下载PDF
上一页 1 2 7 下一页 到第
使用帮助 返回顶部