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半导体激光器的发展及其应用 被引量:23
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作者 王路威 《成都大学学报(自然科学版)》 2003年第3期34-38,共5页
本文对半导体激光器的工作原理。
关键词 半导体激光器 工作原理 光场 异质 异质 量子阱 直接带隙半导体材料
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有机薄膜太阳电池的研究进展 被引量:3
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作者 王琦 王娜娜 +1 位作者 于军胜 蒋亚东 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2010年第5期670-676,共7页
有机薄膜太阳电池作为一种新型光伏电池,近年来得到了迅猛发展。其制备工艺简单、价格低廉、柔性、质轻,为人类解决能源问题提供了一种崭新的途径。文章综述了近年来有机薄膜太阳电池的发展状况,结合有机薄膜太阳电池的发展历史,分析了... 有机薄膜太阳电池作为一种新型光伏电池,近年来得到了迅猛发展。其制备工艺简单、价格低廉、柔性、质轻,为人类解决能源问题提供了一种崭新的途径。文章综述了近年来有机薄膜太阳电池的发展状况,结合有机薄膜太阳电池的发展历史,分析了单异质结、体异质结和叠层三种典型结构器件的工作原理和研究成果,探讨了各种器件结构的优缺点,并对有机薄膜太阳电池的发展趋势作了展望。 展开更多
关键词 有机薄膜太阳电池 异质 异质 叠层
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高亮度GaAlAs单异质结红光二极管
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作者 罗宗铁 何胜夫 +3 位作者 董萍 李向文 魏文超 赵宇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第4期320-324,共5页
本文从工业生产角度对GaAlAs单异质结红光二极管的芯片制作技术作了细致研究.设计出能同时生长多枚外延片的新结构生长舟,选择了合适的管芯参数与生长条件,制定出稳定重复的工艺流程.用本项技术制出的单异质结管芯,发光波长为660nm,平... 本文从工业生产角度对GaAlAs单异质结红光二极管的芯片制作技术作了细致研究.设计出能同时生长多枚外延片的新结构生长舟,选择了合适的管芯参数与生长条件,制定出稳定重复的工艺流程.用本项技术制出的单异质结管芯,发光波长为660nm,平均亮度达到4.5mcd/20mA,最高亮度达6.2mcd. 展开更多
关键词 红光二极管 异质 发光器件
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大功率无衬底N-GaAlAs/P-GaAs:Si单异质结红外发光二极管
4
作者 罗海荣 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期69-72,共4页
报道了一种大功率无衬底N-GaAlAs/P-GaAs:Si单异质结红外发光二极管的制造工艺和主要光电特性。该器件在50mA工作电流下,输出功率典型值7.5mW,最大功率11mW。
关键词 红外发光二极管 GAALAS GAAS 异质 二极管
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GaN/Si单异质结太阳电池的模拟 被引量:2
5
作者 王傲霜 肖清泉 +1 位作者 陈豪 谢泉 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第24期114-121,共8页
采用wxAMPS软件模拟了GaN/Si单异质结太阳电池,研究了电池各层掺杂浓度、厚度及温度对电池开路电压(VOC)、短路电流密度(JSC)、填充因子(F)和光电转换效率的影响。模拟结果表明,随着Si层受主浓度的增大,JSC减小,VOC、F和转换效率均增大... 采用wxAMPS软件模拟了GaN/Si单异质结太阳电池,研究了电池各层掺杂浓度、厚度及温度对电池开路电压(VOC)、短路电流密度(JSC)、填充因子(F)和光电转换效率的影响。模拟结果表明,随着Si层受主浓度的增大,JSC减小,VOC、F和转换效率均增大。当GaN掺杂浓度为5×10^(18) cm^(-3)、Si掺杂浓度为5×1019 cm^(-3)时,Si层厚度为16μm的超薄电池的转换效率可达到16.91%。随着Si层厚度的增加,VOC、JSC、F和转换效率均增大。GaN层厚度为0.005μm、Si层厚度为100μm时,转换效率可达到24.58%。研究结果表明,当GaN/Si单异质结太阳电池的厚度为目前最高效硅基太阳电池厚度的60%时,前者的效率达到后者的92%。研究结果有助于制备高效的GaN/Si单异质结太阳电池。 展开更多
关键词 材料 晶体硅太阳电池 wxAMPS软件 GaN/Si异质 转换效率
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InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管技术发展现状(Ⅰ)
6
作者 齐志华 李献杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期721-725,共5页
InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)以其独特的交错Ⅱ型能带结构,在频率特性、击穿特性和热特性等方面较传统的InP/InGaAsSHBT与InP/InGaAs/InPDHBT等显示出极大的优越性。对InP/GaAsSb/InPⅡ型DHBT技术的提出、外延层结构设计与... InP/GaAsSb/InP双异质结双极晶体管(DHBT)以其独特的交错Ⅱ型能带结构,在频率特性、击穿特性和热特性等方面较传统的InP/InGaAsSHBT与InP/InGaAs/InPDHBT等显示出极大的优越性。对InP/GaAsSb/InPⅡ型DHBT技术的提出、外延层结构设计与生长、器件结构设计、器件制造工艺与优化以及国内外发展情况研究水平、发展趋势和商业化情况进行了系统的回顾和展望。指出结合垂直方向材料结构优化缩小器件尺寸和采用微空气桥隔离基极电极结构是InP/GaAsSb/InPDHBT向THz截止频率发展的最重要的技术路线。 展开更多
关键词 GaAsSb/InP 异质双极晶体管 异质双极晶体管 Ⅱ型双异质双极晶体管 微空气桥
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基于InGaAs/InP SHBT技术的10Gb/s单片跨阻放大器研究 被引量:1
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作者 蔡道民 李献杰 +3 位作者 赵永林 曾庆明 刘跳 郝跃 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第7期701-703,共3页
介绍了采用传统的三台面工艺,利用湿法选择腐蚀形成发射极-基极自对准的InGaAs/InP单异质结双极性晶体管(SHBT)技术实现传输速率为10Gb/s跨阻放大器。其中SHBT获得了在Ic=10mA,Vce=2V时,fT和fmax分别为60、75GHz,电流密度为100kA/cm2,... 介绍了采用传统的三台面工艺,利用湿法选择腐蚀形成发射极-基极自对准的InGaAs/InP单异质结双极性晶体管(SHBT)技术实现传输速率为10Gb/s跨阻放大器。其中SHBT获得了在Ic=10mA,Vce=2V时,fT和fmax分别为60、75GHz,电流密度为100kA/cm2,击穿电压大于3V;跨阻放大器的跨阻增益为58dBΩ,灵敏度为-23dBm,3dB带宽为8.2GHz。该单片跨阻放大器可广泛应用于光纤通信。 展开更多
关键词 异质双极性晶体管 发射极-基极自对准 隔离基极压点 跨阻放大器
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Performance of a Self-Aligned InP/GaInAs SHBT with a Novel T-Shaped Emitter
8
作者 苏树兵 刘训春 +4 位作者 刘新宇 于进勇 王润梅 徐安怀 齐鸣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期434-437,共4页
A self-aligned InP/GalnAs single heterojunction bipolar transistor(HBT) is investigated using a novel T-shaped emitter. A U-shaped emitter layout,selective wet etching,laterally etched undercut, and an air-bridge ar... A self-aligned InP/GalnAs single heterojunction bipolar transistor(HBT) is investigated using a novel T-shaped emitter. A U-shaped emitter layout,selective wet etching,laterally etched undercut, and an air-bridge are applied in this process. The device, which has a 2μm×12μm U-shaped emitter area,demonstrates a common-emitter DC current gain of 170,an offset voltage of 0.2V,a knee voltage of 0.5V, and an open-base breakdown voltage of over 2V. The HBT exhibits good microwave performance with a current gain cutoff frequency of 85GHz and a maximum oscillation frequency of 72GHz, These results indicate that these InP/InGaAs SHBTs are suitable for low-voltage,low-power,and high-frequency applications. 展开更多
关键词 self-alignment emitters InP single heterojunction bipolar transistor T-shaped emitter U-shaped emitter layout
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钝化边沿的制作及其对GaInP/GaAs SHBT性能的影响
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作者 杜鹏搏 蔡克理 蔡树军 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期213-216,共4页
利用光刻胶形成保护侧墙,用湿法腐蚀来形成发射极钝化边沿。这种方法工艺简单,不需要额外的绝缘介质作为掩膜,也不需要双层腐蚀终止层。研发出了带发射极钝化边沿的GaInP/GaAs单异质结双极型晶体管(SHBT),并对不同尺寸有无钝化边沿的器... 利用光刻胶形成保护侧墙,用湿法腐蚀来形成发射极钝化边沿。这种方法工艺简单,不需要额外的绝缘介质作为掩膜,也不需要双层腐蚀终止层。研发出了带发射极钝化边沿的GaInP/GaAs单异质结双极型晶体管(SHBT),并对不同尺寸有无钝化边沿的器件特性进行对比,结果表明钝化边沿能有效改善小尺寸器件的直流特性,对器件的高频特性无明显影响。 展开更多
关键词 侧墙 发射极钝化边沿 异质双极型晶体管
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激光工作物质
10
《中国光学》 EI CAS 1995年第3期18-18,共1页
TN244 950315162~4μm波长的InAsPSb异质结激光管材料的液相外延=Liquid phase epitaxial growth of InAsPSb/InAs heterojunction for laser diode inthe 2~4μm waveIength region[刊,中]/王永珍,金长春,吕贵进(中科院长春物理所.吉... TN244 950315162~4μm波长的InAsPSb异质结激光管材料的液相外延=Liquid phase epitaxial growth of InAsPSb/InAs heterojunction for laser diode inthe 2~4μm waveIength region[刊,中]/王永珍,金长春,吕贵进(中科院长春物理所.吉林,长春(130021))∥发光学报.—1994,15(4).—327—331采用液相外延方法。 展开更多
关键词 光谱特性 液相外延 激光二极管泵浦 异质 外延层 晶体 外延方法 荧光寿命 激光输出 发光学
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