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题名简易匀胶机系统研制与应用
被引量：3
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作者
周志近
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机构
中北大学
南京信息职业技术学院
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出处
《现代显示》
2009年第6期41-44,共4页
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文摘
主要就简易匀胶机系统的结构设计、控制电路设计、技术特点、工作原理、性能、应用场合、影响质量的关键因素等进行了阐述。
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关键词
匀胶机
涂胶
光刻
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Keywords
spin coater
coating
photoresist
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分类号
TB472
[一般工业技术—工业设计]
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题名后道匀胶机胶嘴结晶问题分析
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作者
刘正伟
徐春旭
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机构
沈阳芯源微电子设备有限公司
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出处
《中国高新科技》
2017年第14期90-93,共4页
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文摘
文章对半导体后道工艺所用匀胶机胶嘴结晶的问题进行了分析,提出了Dummy及保湿两种具体解决结晶问题的方法,并通过两种方法共同作用,初步解决了胶嘴结晶问题,经过工艺现场测试验证了其有效性。
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关键词
匀胶机
胶嘴结晶
半导体后道工艺
匀胶设备
光刻胶供应系统
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名基于PLC的星形结构匀胶机操作系统
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作者
许向阳
吕磊
周占福
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机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
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出处
《电子工业专用设备》
2019年第5期33-37,共5页
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文摘
主要侧重于对系统控制方面的讨论。控制系统使用PLC作为核心、触摸屏作为系统操作的输出与输入窗口。主要讨论了操作程序的系统结构、控制时序以及设备的整机结构。
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关键词
系统结构
控制时序
匀胶机
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Keywords
System structure
Control sequence
Coater
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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题名数显匀胶机
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作者
徐正宝
陈廷美
钟雪珍
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机构
机械工业部北京机械工业自动化所
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出处
《制造业自动化》
1983年第3期45-47,共3页
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文摘
在半导体器件制造中,匀胶对制版或光刻工艺是一项很重要的工作。图形的清晰度、线条过渡区大小、胶的粘度及胶的均匀性能都与离心转速和时间有密切的关系。因此选择一个最佳转速和合适的时间是操作者最关心的问题。
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关键词
匀胶机
数显
数字显示
显示电路
控制电路
主轴
传动轴
数显电路
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分类号
G6
[文化科学—教育学]
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题名超薄聚酰亚胺滤光薄膜制备
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作者
黄杰豪
孙赫男
赵凯虹
王立英
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机构
珠海科技学院
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出处
《信息记录材料》
2023年第9期40-43,共4页
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基金
广东省教育厅2021年度国家级大学生创新创业训练计划项目(202113684008)。
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文摘
采用N,N′-二甲基乙酰胺(N-N-dimethylacetamide,DMAC)、4,4′-二氨基二苯醚(4,4′-diaminodiphenyl ether,ODA)和均苯四甲酸二酐(pyromellitic dianhydride,PMDA)这3种物质经共聚合反应得到聚酰胺酸(polyamic acid,PAA)溶液。DMAC为二胺单体、PMDA为二酐单体。通过探究涂膜时补加PAA溶液的最优量及亚胺化的最适温度梯度来的出结论。结果表明,采用KW-4A型匀胶机将参数设置低速为500 r/min、120 s,高速为2000 r/min、260 s进行旋涂,再经温度梯度分别为150℃,1 h、200℃,2 h、250℃,2 h、300℃,2 h下进行亚胺化,即可以制备出完整并具有机械性的聚酰亚胺(polyimide,PI)薄膜。
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关键词
聚酰亚胺薄膜
KW-4A型匀胶机
亚胺化
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分类号
TQ16
[化学工程—高温制品工业]
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题名KW型台式匀胶机
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出处
《科技开发动态》
2002年第12期23-23,共1页
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关键词
KW型
台式匀胶机
表面涂胶
半导体工业
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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