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基于DOA估计的前视多通道SAR成像方法
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作者 王宁 贺鹏超 +1 位作者 卢景月 刘曦 《系统工程与电子技术》 EI CSCD 北大核心 2023年第8期2471-2478,共8页
针对前视合成孔径雷达(synthetic aperture radar,SAR)方位分辨受限以及左右多普勒模糊问题,提出一种基于波达方向估计的前视多通道合成孔径雷达(forward-looking multi-channel SAR,FLMC-SAR)成像方法。算法综合利用系统空时资源,采用... 针对前视合成孔径雷达(synthetic aperture radar,SAR)方位分辨受限以及左右多普勒模糊问题,提出一种基于波达方向估计的前视多通道合成孔径雷达(forward-looking multi-channel SAR,FLMC-SAR)成像方法。算法综合利用系统空时资源,采用空时级联的处理流程。首先通过合成孔径对前视区域进行初步成像,在二维图像域实现逐个成像单元目标信号的分离。然后利用目标空域导向的差异,建立分离信号的空时模型,通过阵列多通道对每个成像单元内的信号进行波达方向估计,实现目标信号重定位,增强前视成像分辨率。同时,空时模型考虑了模糊目标具备不同的导向矢量,可在分辨增强的同时实现左右多普勒解模糊。最后通过仿真以及实测的FLMC-SAR数据验证了所提算法的有效性。 展开更多
关键词 合成孔径雷达 前视成像 左右多普勒模糊 分辨增强 波达方向估计
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改进残差网络下体操动作逆光图像超分辨增强
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作者 黄波 赵新辉 《计算机仿真》 2024年第5期231-235,309,共6页
超分辨图像有利于信息获取与传递,但当下缺少对逆光低分辨率图像的研究。为解决逆光图像中阴影噪声的问题,提出一种基于改进Retinex逆光图像分解增光算法,通过结合DRAN双重残差注意力网络,构建出逆光图像超分辨率增强模型,即NRE-DRAN模... 超分辨图像有利于信息获取与传递,但当下缺少对逆光低分辨率图像的研究。为解决逆光图像中阴影噪声的问题,提出一种基于改进Retinex逆光图像分解增光算法,通过结合DRAN双重残差注意力网络,构建出逆光图像超分辨率增强模型,即NRE-DRAN模型。模型首先将基于Retinex理论将逆光图像分解成光照量图与反射量图,并通过调节网络与恢复网络处理两分量图,然后将处理后的分量图融合,降低逆光噪声的影响;接着采用DRAN特征提取模块提取浅层纹理特征与深层语义特征,然后利用信息蒸馏模块增强特征信息,并串联拼接成融合特征图,最后基于残差图与上采样图重构出超分辨图像。多组基线算法叠加模型仿真对比结果表明,在GBI体操动作逆光图像数据集上,NRE-DRAN模型具有最优的SSIM指标(较其它叠加模型相比平均提升了3.93%)与较优的PSNR指标(指标排名第二)。综上所示,NRE-DRAN逆光图像超分辨率增强模型在解决逆光阴影噪声问题的同时有效的增强了图像的超分辨率,且该模型具有较高的时效性。 展开更多
关键词 分辨增强 逆光图像 残差网络
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基于轻量级金字塔密集残差网络的红外图像超分辨增强 被引量:4
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作者 左岑 杨秀杰 +1 位作者 张捷 王璇 《红外技术》 CSCD 北大核心 2021年第3期251-257,共7页
现有的红外制导武器严重依赖操作手对目标的捕获,其捕获的精度与目标的纹理细节正相关。为了提升弱小区域的显示质量,满足现有导引头小型化、模块化、低成本的设计要求,本文设计了一种基于轻量级金字塔密集残差网络的图像增强模型,该模... 现有的红外制导武器严重依赖操作手对目标的捕获,其捕获的精度与目标的纹理细节正相关。为了提升弱小区域的显示质量,满足现有导引头小型化、模块化、低成本的设计要求,本文设计了一种基于轻量级金字塔密集残差网络的图像增强模型,该模型在密集残差网络基础上通过密集连接层和残差网络来学习不同尺度图像之间的非线性映射,充分利用多尺度特征进行高频残差预测。同时,采用深度监督模块指导网络训练,有利于实现较大上采样因子的超分辨增强,提高其泛化能力。大量仿真实验结果表明本文所提出的超分辨模型能够获得高倍率的超分辨增强效果,其重建质量也优于对比算法。 展开更多
关键词 分辨增强 轻量级 红外图像 深度学习 特征级联 损失函数 恒等映射
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3.0T MR高分辨增强扫描在缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块中的诊断价值 被引量:4
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作者 邢文强 谢英同 蔡婷 《当代医学》 2021年第3期48-50,共3页
目的探讨3.0 T MR高分辨增强扫描在缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块中的诊断价值。方法选取2017年9月至2019年7月本院收治的60例缺血性脑卒中患者作为研究对象,按照头颅MR平扫(DWI高信号)至高分辨MR检查时间间隔进行分组,时间<4周... 目的探讨3.0 T MR高分辨增强扫描在缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块中的诊断价值。方法选取2017年9月至2019年7月本院收治的60例缺血性脑卒中患者作为研究对象,按照头颅MR平扫(DWI高信号)至高分辨MR检查时间间隔进行分组,时间<4周设为早期组(n=26),时间为4~12周设为中期组(n=20),时间>12周设为晚期组(n=14)。观察比较3组检查结果。结果早期组患者斑块明显强化占比高于中期组和晚期组(P<0.05),轻度强化占比与中期组、晚期组比较差异无统计学意义;中期组轻度强化占比高于晚期组(P<0.05);晚期组无强化占比高于早期组、中期组(P<0.05)。3组斑块强化率随时间间隔的增加程度有所减低,差异有统计学意义(P<0.05)。结论采用3.0 T MR高分辨增强扫描可有效辨别斑块的强化程度与位置。 展开更多
关键词 3.0T MR高分辨增强扫描 缺血性脑卒中 颅内动脉粥样硬化斑块
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用于MR图像非局域均值去噪的边缘增强策略(英文) 被引量:3
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作者 严序 周敏雄 +2 位作者 徐凌 刘薇 杨光 《波谱学杂志》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期183-193,共11页
非局域均值(NLM)滤波有很好的去噪效果并已成功地应用于磁共振图像的去噪中,但与所有去噪方法相同,总是会在一定程度上模糊图像细节.该文提出将从原始图像中提取出来的高频信息与NLM去噪图像相融合,来还原在去噪过程中丢失的细节.首先... 非局域均值(NLM)滤波有很好的去噪效果并已成功地应用于磁共振图像的去噪中,但与所有去噪方法相同,总是会在一定程度上模糊图像细节.该文提出将从原始图像中提取出来的高频信息与NLM去噪图像相融合,来还原在去噪过程中丢失的细节.首先利用一种基于拉普拉斯金字塔的多分辨率方法,从原始图像中提取出包含丰富的边缘信息的高频组分.然后利用作者提出的一种新的基于SUSAN算子的边缘检测算子产生一幅连续的边缘图,并利用该边缘图将高频组分与NLM方法去噪的图像相融合.该方法在图像的平滑区域取得了良好的去噪效果,同时可以保留甚至增强图像的细节.同时,该方法对图像的增强不会导致增强图像中常见的伪影. 展开更多
关键词 磁共振成像 图像增强 分辨增强 边缘算子 非局域均值 图像去噪
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1.5T MR高分辨增强扫描在缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块中的诊断应用
6
作者 阮聪 《影像研究与医学应用》 2021年第21期156-157,共2页
目的:探讨缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块的临床诊断中1.5T MR高分辨增强扫描的应用效果与价值。方法:选取我院在2019年3月—2021年3月收治的缺血性脑卒中患者共120例作为本次研究的对象,将患者头颅M R平扫与高分辨M R增强扫描间隔4... 目的:探讨缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块的临床诊断中1.5T MR高分辨增强扫描的应用效果与价值。方法:选取我院在2019年3月—2021年3月收治的缺血性脑卒中患者共120例作为本次研究的对象,将患者头颅M R平扫与高分辨M R增强扫描间隔4周内、4~12周和12周以上时间作为分组依据,分为早、中、晚期三组,每组30例患者。三组患者均使用西门子公司生产的Avanto 1.5T MR系统进行常规平扫和高分辨增强扫描,对两种扫描方法诊断缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块的有效率以及高分辨增强扫描结果中三组颅内动脉粥样硬化斑块的强化情况进行比较。结果:高分辨增强扫描对缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块的诊断有效率相较于常规平扫更高,差异有统计学意义(P<0.05)。早期组明显强化斑块检出率相比中、晚期组显著更高(P<0.05);中、晚期组明显强化斑块检出率相比差异显著(P<0.05);中期组轻度强化斑块检出率相比晚期组显著更高(P<0.05);早期组轻度强化斑块检出率与晚期组相比差异无统计学意义(P>0.05);晚期组无强化斑块检出率相比早、晚期组显著更高(P<0.05);早、中期组无强化斑块检出率对比差异不显著(P>0.05)。结论:1.5T MR高分辨增强扫描对缺血性脑卒中颅内动脉粥样硬化斑块诊断效果确切,对斑块位置和强化程度有准确的辨别作用,因此可用于临床推广。 展开更多
关键词 1.5T MR 分辨增强扫描 缺血性脑卒中 颅内动脉粥样硬化斑块 临床诊断
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193nm光刻曝光系统的现状及发展 被引量:21
7
作者 巩岩 张巍 《中国光学与应用光学》 2008年第1期25-35,共11页
投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构... 投影曝光工艺是集成电路制造过程中的关键环节,曝光系统的工艺水平已成为衡量微电子制造技术的重要标志。重点介绍了目前193 nm光刻设备曝光系统的发展现状和趋势,以及为提高曝光质量所采用的相关分辨率增强技术;通过分析曝光系统的构成和其中的关键技术,探讨了国内研制相关曝光设备所面临的挑战。 展开更多
关键词 投影光刻 曝光系统 分辨增强 照明 投影物镜 综述
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基于MAP的自适应图像配准及超分辨率重建 被引量:19
8
作者 杨欣 费树岷 周大可 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1771-1775,共5页
图像超分辨率重建是一种将多幅低分辨率图像合成为高分辨率图像的技术。当前的超分辨重建技术主要分为图像配准和超分辨率重建2个步骤,提出一种基于最大后验概率的图像超分辨率重建算法,将这2个步骤合二为一;与此同时,为了解决配准参数... 图像超分辨率重建是一种将多幅低分辨率图像合成为高分辨率图像的技术。当前的超分辨重建技术主要分为图像配准和超分辨率重建2个步骤,提出一种基于最大后验概率的图像超分辨率重建算法,将这2个步骤合二为一;与此同时,为了解决配准参数以及点扩展函数估计值的不精确性问题,在每一幅低分辨率图像代价函数的残差项引入了自适应加权系数并随之给出了迭代算法的总体框架。实验表明,该算法在收敛性和精确性上都达到了较好的效果。 展开更多
关键词 图像配准 分辨率重建 最大后验概率 分辨增强
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投影光刻离轴照明用衍射光学元件设计 被引量:19
9
作者 张巍 巩岩 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第11期2081-2086,共6页
离轴照明作为一种重要的分辨率增强技术被广泛地应用于投影光刻系统。使用衍射光学元件(DOE)作为光刻照明系统的光束整形器件,能够在保持较高照明效率的基础上精确控制离轴照明光束的形状及光强分布。本文利用基于傅里叶变换的分步迭代... 离轴照明作为一种重要的分辨率增强技术被广泛地应用于投影光刻系统。使用衍射光学元件(DOE)作为光刻照明系统的光束整形器件,能够在保持较高照明效率的基础上精确控制离轴照明光束的形状及光强分布。本文利用基于傅里叶变换的分步迭代方法,优化设计了该类衍射光学元件(DOE)。DOE采用了多台阶位相结构,设计所得8台阶DOE设计结果分别实现了偶极、四极、环形及Bulls-Eye等照明方式,其照明效率都达到了80%以上,与目标光强分布的均方根偏差均<7%。 展开更多
关键词 衍射光学元件 投影光刻 分辨增强 照明 光束整形
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光刻技术六十年 被引量:17
10
作者 陈宝钦 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第9期508-528,共21页
当今世界离不开信息产业,信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术,即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。光刻技术开始于1958年美国德克萨斯公司试制的世界上第一块平面集成电路,在短短的60年中,光刻分辨率极... 当今世界离不开信息产业,信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术,即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。光刻技术开始于1958年美国德克萨斯公司试制的世界上第一块平面集成电路,在短短的60年中,光刻分辨率极限一次又一次被突破,创造了人间奇迹。作为微电子技术工艺基础的光刻技术与微/纳米加工技术是人类迄今为止所能达到的精度最高的加工技术。光刻加工尺寸从百微米到10 nm,加工手段从钢板尺手术刀照相机到电子束光刻,光源波长从光学曝光到极紫外曝光。集成度提高了约百亿倍,特征尺寸线宽缩小到原来的约1/10000。随着纳米集成电路迅猛发展,光刻技术也从等效摩尔时代进入后摩尔时代。 展开更多
关键词 光刻技术 光学分辨增强技术 下一代光刻 微纳米加工技术
原文传递
基于小波变换的全向图像分辨率增强方法 被引量:9
11
作者 彭启民 贾云得 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1875-1879,共5页
本文提出了一种基于小波变换的全向图像分辨率增强算法 ,根据全向图像成像的退化模型 ,利用小波系数的自相似性及其模的极值点在各层间的传递性 ,对全向图像丢失的高频成分进行补偿 ,结合对图像序列中的各帧进行融合的方法 ,达到分辨率... 本文提出了一种基于小波变换的全向图像分辨率增强算法 ,根据全向图像成像的退化模型 ,利用小波系数的自相似性及其模的极值点在各层间的传递性 ,对全向图像丢失的高频成分进行补偿 ,结合对图像序列中的各帧进行融合的方法 ,达到分辨率增强的目的 . 展开更多
关键词 全向图像 分辨增强 小波变换 图像融合
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微光刻与微/纳米加工技术 被引量:13
12
作者 陈宝钦 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第1期1-5,共5页
介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻... 介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20~50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。 展开更多
关键词 微光刻技术 微纳米加工技术 分辨增强技术 下一代光刻技术 可制造性设计
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Fourier变换光谱学退卷积技术的理论研究 被引量:10
13
作者 董瑛 相里斌 赵葆常 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期841-846,共6页
介绍了 Fourier变换光谱退卷积技术的原理 ,通过数学推导从理论上对退卷积光谱的特性进行了分析 ,分别讨论了退卷积技术的两个重要参量 ,即退卷积系数和切趾长度 ,对复原光谱的线宽和信噪比的影响 ,从而得到三个结论 :1 )退卷积技术的... 介绍了 Fourier变换光谱退卷积技术的原理 ,通过数学推导从理论上对退卷积光谱的特性进行了分析 ,分别讨论了退卷积技术的两个重要参量 ,即退卷积系数和切趾长度 ,对复原光谱的线宽和信噪比的影响 ,从而得到三个结论 :1 )退卷积技术的分辨率增强能力在实际中由于受到噪音的限制而不能无限提高 .2 )对于光谱中宽度不同的谱线 ,退卷积将导致它们之间的峰高比失真 .3)在选定退卷积系数和切趾长度以满足谱线形状和宽度的要求后 ,只有通过选择合适的切趾函数来满足信噪比的要求 .研究还发现 ,退卷积过程相当于一个带通滤波器 ,其中高通滤波器是退卷积函数 ,低通滤波器是切趾函数 。 展开更多
关键词 光谱分辨增强 退卷积 Fourier变换光谱学 切趾长度 退卷积系数
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红外图像校正与增强技术研究现状 被引量:12
14
作者 张宝辉 姚立斌 +2 位作者 张巍伟 陈莹妍 王润宇 《红外技术》 CSCD 北大核心 2017年第6期481-488,共8页
非均匀校正和视觉增强是红外图像处理的关键性技术,其主要是为了解决红外系统在光学、焦平面、读出电路等设计和工艺中存在的问题。基于此,在非均匀校正方面,概述了近年来基于场景的非均匀校正技术和去除"鬼影"现象的发展现... 非均匀校正和视觉增强是红外图像处理的关键性技术,其主要是为了解决红外系统在光学、焦平面、读出电路等设计和工艺中存在的问题。基于此,在非均匀校正方面,概述了近年来基于场景的非均匀校正技术和去除"鬼影"现象的发展现状。在视觉增强方面,从灰度值的动态压缩角度阐述了传统方法和红外图像细节增强技术的最新研究成果,以及640×512中波数字化焦平面探测器在增强方面采用的最新技术和成像效果;并从分辨率增强角度介绍了"微扫"技术在红外系统分辨率增强方面的突破技术和相关产品。最后,对红外图像处理发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 红外图像处理 非均匀校正 分辨增强 视觉增强
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基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法 被引量:12
15
作者 王磊 李思坤 +1 位作者 王向朝 杨朝兴 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期256-267,共12页
全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图... 全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源掩模投影物镜联合优化(SMPO)方法。将由像素表征的光源、由离散余弦变换基表征的掩模及由泽尼克系数表征的投影物镜编码为粒子,以图形误差作为评价函数,通过不断迭代更新粒子,实现光源掩模投影物镜联合优化。在标称条件和工艺条件下,采用含有交叉门的复杂掩模图形对所提方法的仿真验证表明,图形误差分别降低了94.2%和93.8%,有效提高了光刻成像质量。与基于遗传算法的SMPO方法相比,该方法具有更快的收敛速度。此外,该方法具有优化自由度高和优化后掩模可制造性强的优点。 展开更多
关键词 光学制造 光刻 分辨增强技术 光源掩模投影物镜联合优化 粒子群优化
原文传递
光刻与微纳制造技术的研究现状及展望 被引量:12
16
作者 周辉 杨海峰 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第9期613-618,636,共7页
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后... 首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻、极紫外光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、纳米压印光刻等技术的概念、发展过程和特点,并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。最后结合国内外生产商、工程师和研究学者的研究成果,对光刻技术的未来发展做出展望。 展开更多
关键词 光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术 下一代光刻技术 分辨增强技术
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一种基于频域的序列图像超分辨率增强方法 被引量:12
17
作者 谭政 相里斌 +4 位作者 吕群波 孙建颖 赵娜 方煜 刘扬阳 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期83-88,共6页
针对探测器奈奎斯特频率不足和光学系统点扩展效应造成的成像系统像质下降问题,在频域框架下提出一种改进的多帧图像超分辨率增强方法。在图像序列配准方面,考虑了频谱混叠和插值变换等因素对图像频谱相位差的影响,建立了更准确的亚像... 针对探测器奈奎斯特频率不足和光学系统点扩展效应造成的成像系统像质下降问题,在频域框架下提出一种改进的多帧图像超分辨率增强方法。在图像序列配准方面,考虑了频谱混叠和插值变换等因素对图像频谱相位差的影响,建立了更准确的亚像元位移提取模型;在图像复原方面,基于同步纹理自回归先验,建立了图像的联合高斯分布模型,并结合贝叶斯方法对插值重建结果进行复原。实验表明,该方法较为全面地考虑了像质下降因素,具有较好的超分辨率增强效果,且计算复杂度较低。 展开更多
关键词 图像处理 像质下降 分辨增强 频域框架 图像配准 图像复原
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图像分辨率增强的偏微分方程方法 被引量:8
18
作者 谢美华 王正明 《遥感学报》 EI CSCD 北大核心 2005年第6期673-679,共7页
讨论一种新的图像分辨率增强的偏微分方程模型。新模型利用图像为分片连续的二维曲面的先验信息,采用非线性扩散方程对基于最近邻方法放大后的图像进行光滑以消除因放大引起的“块状”效应,同时在迭代过程中加入插值条件使处理后的图像... 讨论一种新的图像分辨率增强的偏微分方程模型。新模型利用图像为分片连续的二维曲面的先验信息,采用非线性扩散方程对基于最近邻方法放大后的图像进行光滑以消除因放大引起的“块状”效应,同时在迭代过程中加入插值条件使处理后的图像能较好的保留边缘,由此构造出基于偏微分方程的图像分辨率增强模型和相应的迭代算法,使图像的分辨率增强到亚像元级。遥感图像的仿真计算结果表明,该方法具有比现有方法更高的峰值信噪比和更高的边缘保护指数。 展开更多
关键词 分辨增强 插值 偏微分方程 分辨 遥感
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基于二次规划的光刻机光源优化方法 被引量:10
19
作者 闫观勇 李思坤 王向朝 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第10期249-256,共8页
提出一种基于二次规划的光刻机光源优化方法。采用空间像与目标像的图形误差为目标函数,根据空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系,将光源优化转换成二次规划问题。将掩模图形区域分成限制区域和比较区域,对限制区域应用约束条件... 提出一种基于二次规划的光刻机光源优化方法。采用空间像与目标像的图形误差为目标函数,根据空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系,将光源优化转换成二次规划问题。将掩模图形区域分成限制区域和比较区域,对限制区域应用约束条件,对比较区域采用目标函数优化。采用一维孤立空图形和二维接触孔阵列图形对该方法进行验证,分析光刻胶阈值和离焦量对优化结果的影响。仿真表明,提出的光源优化方法获得了光源的全局最优解,提高了光刻成像质量,增大了工艺窗口。 展开更多
关键词 光学设计 光刻 分辨增强 光源掩模优化 光源优化 二次规划 全局最优解
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基于随机并行梯度速降算法的光刻机光源与掩模联合优化方法 被引量:10
20
作者 李兆泽 李思坤 王向朝 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期122-131,共10页
随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估... 随着集成电路特征尺寸进入2Xnm及以下节点,光源与掩模联合优化(SMO)成为了拓展193nm ArF浸没式光刻工艺窗口、减小工艺因子的重要分辨率增强技术(RET)之一。提出了一种基于随机并行梯度速降(SPGD)算法的SMO方法,通过随机扰动进行梯度估计,利用估计梯度来迭代更新光源与掩模,避免了求解梯度解析表达式的过程,降低了优化复杂度。对周期接触孔阵列及十字线、密集线三种掩模图形的仿真验证表明,三种掩模图形误差(PE)值分别降低了75%、80%与70%,该方法较大程度地提高了光刻成像质量。 展开更多
关键词 光学制造 光刻 光源与掩模联合优化 分辨增强技术 工艺窗口
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