期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能的影响 被引量：1
1
作者 程媛媛 黄瑜佳 +4 位作者 朱归胜 徐华蕊 万乐 焦培文 汪坤喆 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1028-1033,共6页
本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm... 本文采用直流磁控溅射分层溅射制备了氧化铟锡(ITO)/银(Ag)/ITO多层复合薄膜。系统研究了溅射温度对ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的结构和光电性能影响。采用ITO(m(In_(2)O_(3))∶m(SnO_(2))=9∶1;直径60 mm)靶材和Ag(纯度99.999%;直径60 mm)靶材分层溅射,使ITO薄膜和Ag薄膜依次沉积在钠-钙玻璃基片上。结果表明,溅射温度对该薄膜的形貌和结构具有显著的影响。在中间Ag薄膜和顶层ITO薄膜的溅射温度均为120℃时,薄膜表面晶粒形貌由类球形转变为菱形,此时薄膜方阻为3.68Ω/Sq,在488 nm处透射率为88.98%,且品质因数为0.03Ω^(-1),实现了低方阻高可见光透射率ITO/Ag/ITO多层复合薄膜的制备。 展开更多
关键词 磁控溅射 分层溅射 复合薄膜 ITO薄膜 Ag薄膜 溅射温度
下载PDF
分层溅射法制备晶向可控的Mg_(2)Si薄膜
2
作者 廖杨芳 谢泉 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第1期38-43,共6页
采用分层溅射法在石英衬底上制备了结晶良好的Mg_(2)Si多晶薄膜。当Si膜的溅射时间均为25 min、Mg膜的溅射时间为18~22 min、退火温度为375℃时,随着膜厚增加,Mg_(2)Si薄膜的织构由(311)向(220)转变;退火温度为400℃时,薄膜的最强衍射... 采用分层溅射法在石英衬底上制备了结晶良好的Mg_(2)Si多晶薄膜。当Si膜的溅射时间均为25 min、Mg膜的溅射时间为18~22 min、退火温度为375℃时,随着膜厚增加,Mg_(2)Si薄膜的织构由(311)向(220)转变;退火温度为400℃时,薄膜的最强衍射峰均为Mg_(2)Si(220)。所有样品均在256 cm^(-1)附近出现了较强的拉曼散射特征峰,在347 cm^(-1)附近出现了较弱的拉曼散射特征峰,这两个峰分别属于Mg_(2)Si的F_(2g)和F_(1u)(LO)声子模。在石英衬底上,改变溅射条件和退火温度,可实现Mg_(2)Si薄膜的晶向可控制备。 展开更多
关键词 Mg_(2)Si 薄膜 分层溅射 晶向可控 石英衬底
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部