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己内酰胺联产工艺中影响成品290nm处吸光度杂质的定性定量分析 被引量:4
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作者 尹学军 李竞 +2 位作者 袁霞 吴剑 罗和安 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2012年第6期715-718,共4页
利用气相色谱-质谱联用技术对环己烷羧酸-环己酮肟联产己内酰胺工艺中影响成品在290 nm处的吸光度的杂质进行了定性分析。分析结果表明,联产工艺生产的己内酰胺中含有八氢吩嗪。利用紫外分光光度法证实了八氢吩嗪的含量与290 nm处的吸... 利用气相色谱-质谱联用技术对环己烷羧酸-环己酮肟联产己内酰胺工艺中影响成品在290 nm处的吸光度的杂质进行了定性分析。分析结果表明,联产工艺生产的己内酰胺中含有八氢吩嗪。利用紫外分光光度法证实了八氢吩嗪的含量与290 nm处的吸光度存在近似线性的相关性,因而推断八氢吩嗪为影响产品在290 nm处吸光度的主要杂质。反应机理的研究结果表明,八氢吩嗪是由环己酮肟Beckmann重排过程局部硫酸量不足,环己酮肟硫酸酯发生Neber重排形成的连氮化合物衍生而成。建立了八氢吩嗪的高效液相色谱分析方法,较优的分析条件为:C18色谱柱(4.6 mm×250 mm×5μm),流动相为体积比为30:70的乙腈-水溶液,流量1.0 mL/min,紫外检测器检测波长290 nm。该方法具有准确、快速和简单的优点。 展开更多
关键词 己内酰胺 吸光度 吩嗪 气相色谱-质谱联用
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气相色谱-质谱法测定组合工艺己内酰胺产品中的微量关键杂质 被引量:2
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作者 韩江华 《色谱》 CAS CSCD 北大核心 2019年第4期444-448,共5页
己内酰胺(CPL)是重要的化工原料,CPL中即使存在微量的杂质都会对聚合产物的性能产生一定的影响,因此对聚合级CPL的纯度有很高的要求。该文对光密度值严重超标的组合工艺工业试验产品采用气相色谱-火焰离子化检测技术(GC/FID)、气相色谱... 己内酰胺(CPL)是重要的化工原料,CPL中即使存在微量的杂质都会对聚合产物的性能产生一定的影响,因此对聚合级CPL的纯度有很高的要求。该文对光密度值严重超标的组合工艺工业试验产品采用气相色谱-火焰离子化检测技术(GC/FID)、气相色谱-质谱(GC-MS)等手段进行了定性分析,确定该杂质的相对分子质量为188,分子式为C_(12)H_(16)N_2,环加双键数为6,为八氢吩嗪。结合组合工艺生产CPL所涉及化学反应的特点对八氢吩嗪的来源进行了理论推测,认为该杂质来源于Beckmann重排反应的副反应Neber重排,结构中含有较强的生色基团,对产品的光密度指标影响严重。因此,CPL生产过程中必须对八氢吩嗪的产生过程和生成浓度严格控制。 展开更多
关键词 气相色谱-质谱 己内酰胺 吩嗪 组合工艺 杂质
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