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超短激光脉冲对硅表面微构造的研究 被引量：38
1
作者 李平 王煜 +3 位作者 冯国进 郑春弟 赵利 朱京涛 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期1688-1691,共4页
在特定的气体氛围下，用一定能量密度的超短脉冲激光连续照射单晶硅片表面，制备出表面具有准规则排列的微米量级锥形尖峰结构的“黑硅”新材料。不同背景气体下的实验表明，激光脉宽和背景气体对表面微构造的形成起着决定性的作用。具... 在特定的气体氛围下，用一定能量密度的超短脉冲激光连续照射单晶硅片表面，制备出表面具有准规则排列的微米量级锥形尖峰结构的“黑硅”新材料。不同背景气体下的实验表明，激光脉宽和背景气体对表面微构造的形成起着决定性的作用。具体分析了SF6气体氛围中，皮秒和飞秒激光脉冲作用下硅表面微结构的演化过程。虽然两者均可造成硅表面的准规则排列微米量级尖峰结构，但不同脉冲宽度的激光与硅表面相互作用的物理机制并不相同。在皮秒激光脉冲作用下，尖峰结构形成之前硅片表面先熔化；而飞秒激光脉冲作用下尖峰的演化过程中始终没有出现液相。对材料的光辐射吸收的初步研究表明，该材料对1．5～16μm的红外光辐射吸收率不低于80％。 展开更多
关键词 激光技术 表面微构造 硅 超短激光脉冲 光辐射吸收
原文传递
黑腔光辐射吸收比的测量
2
作者 马振生 《计量技术》 北大核心 1998年第11期23-25,共3页
一、概述在光辐射测量中，常要用黑腔将测量过程中的某些应扣除掉的光辐射通量吸收掉。一般情况下，由于黑腔对光辐射的吸收是无选择性的，而且黑腔的吸收比σ又近似等于１，因此在准确度要求不太高的光辐射测量中，将黑腔的吸收比σ近... 一、概述在光辐射测量中，常要用黑腔将测量过程中的某些应扣除掉的光辐射通量吸收掉。一般情况下，由于黑腔对光辐射的吸收是无选择性的，而且黑腔的吸收比σ又近似等于１，因此在准确度要求不太高的光辐射测量中，将黑腔的吸收比σ近似取为１，不会对测量结果有明显的影... 展开更多
关键词 黑腔 光辐射吸收比 测量装置
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