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“推拉”型希夫碱染料的光化学和光电化学性质
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作者 李富友 郑杰 +3 位作者 柳汀汀 金林培 赵新生 郭建权 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2000年第9期787-791,共5页
合成了一种光降解的两亲性希夫碱染料,(E)-N-十八烷基-2-[2-(4-N,N-二甲基氨基苯基)胺烯基]吡啶碘化物（PN2）,考察了它的成膜性能,并成功地应用LB膜技术将其转移到石英基片或ITO电极上形成单层膜.对其光化学和光电化学性质的研究表明... 合成了一种光降解的两亲性希夫碱染料,(E)-N-十八烷基-2-[2-(4-N,N-二甲基氨基苯基)胺烯基]吡啶碘化物（PN2）,考察了它的成膜性能,并成功地应用LB膜技术将其转移到石英基片或ITO电极上形成单层膜.对其光化学和光电化学性质的研究表明：它是一个具有二阶非线性光学性质(SHG)和光电响应性质(PEC)的可降解有机染料.化合物PN2单层LB膜的宏观二阶非线性系数为145.6pm·V－1.在含有0.1mmol·L－1氢醌的0.5mmol·L－1KCl电解质溶液中,无偏压时、500nm波长下,PN2-ITO电极的光电转化外量子产率为1.37％. 展开更多
关键词 希夫碱染料 LB膜 光电响应性质 光化学 PN2
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