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聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合
被引量:
7
1
作者
孙霞容
浦鸿汀
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2004年第3期54-56,53,共4页
采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了...
采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。
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关键词
聚对苯撑二甲基膜
化学气相沉积
CVD
光
氧
降解
性能
化学结构
高分子材料
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职称材料
题名
聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合
被引量:
7
1
作者
孙霞容
浦鸿汀
机构
同济大学材料科学与工程学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2004年第3期54-56,53,共4页
文摘
采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域。综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能。
关键词
聚对苯撑二甲基膜
化学气相沉积
CVD
光
氧
降解
性能
化学结构
高分子材料
Keywords
chemical vapor deposition
parylene
poly (p-xylylene)
gorham process
photo oxidation
分类号
TQ317 [化学工程—高聚物工业]
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职称材料
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作者
出处
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1
聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合
孙霞容
浦鸿汀
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2004
7
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