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多孔硅研究的发展 被引量:5
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作者 王晓静 李清山 《液晶与显示》 CAS CSCD 2003年第6期421-427,共7页
多年来,人们对多孔硅的制备方法、微结构特征及其化学成分、发光特性以及发光机制等方面做了深入的研究和探讨,文章对这几个方面的研究工作做了介绍,并对目前的研究状况和应用研究中存在的问题进行了分析。制备出均匀性好、发光效率高... 多年来,人们对多孔硅的制备方法、微结构特征及其化学成分、发光特性以及发光机制等方面做了深入的研究和探讨,文章对这几个方面的研究工作做了介绍,并对目前的研究状况和应用研究中存在的问题进行了分析。制备出均匀性好、发光效率高、性质稳定、机械强度较高的多孔硅是促进其实用化进程的基本途径。人们对多孔硅进行大量研究的目的主要在于获得硅发光集成装置,另外多孔硅的应用研究也体现在光电子器件、光学器件和传感器件3个方面。多孔硅在微电子学、晶片机械加工、生物工艺学等领域也具有潜在的应用价值。 展开更多
关键词 多孔硅 发光特性 发光机制 发光效率 光电子器件 化学腐蚀 光化学腐蚀 晶体机构
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一种重氮萘醌系光致抗蚀剂的制备与性质研究 被引量:1
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作者 李源纯 汪宇浩 《山东工业技术》 2015年第18期226-227,共2页
本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成感光化合物,得到产物1.46g,测得熔点为143℃,并测定其红外光谱,之后再制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂,然后进行成像实验,发现最佳曝光时间为... 本实验采用2,3,4-三羟基二苯甲酮作为接枝化母体,与2,1,4-重氮萘醌磺酰氯进行酯化,合成感光化合物,得到产物1.46g,测得熔点为143℃,并测定其红外光谱,之后再制得酚醛树脂-重氮萘醌磺酸酯正性抗蚀剂,然后进行成像实验,发现最佳曝光时间为90s,最小分辨率为10μm. 展开更多
关键词 重氮萘醌磺酸酯-酚醛树脂正性光致抗蚀剂 光化学腐蚀 合成 成像实验
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