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题名聚酰亚胺正性光刻胶材料的制备及性能研究综述
被引量：2
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作者
郑凤
路庆华
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机构
上海交通大学化学化工学院
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出处
《上海航天》
CSCD
2017年第3期136-147,共12页
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基金
航天先进技术联合研究中心技术创新项目资助(USVAST2015-27)
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文摘
对聚酰亚胺(PI)+二叠氮萘醌(DNQ)型及聚酰亚胺前驱体(聚酰胺酸,PAA)+DNQ型正性光刻胶材料的研究成果进行了综述。讨论了这两种正性光刻胶材料中成膜剂的设计和制备方法。其中:前者在PAA主链中引入疏水基团,抑制PAA的溶解性;后者在PI主链中引入亲水基团,促进PI的溶解性,从而使其能被用于正性光敏聚酰亚胺。讨论了DNQ光敏剂的结构设计和种类、光刻胶的配比和光刻性能,以及正性光敏聚酰亚胺在航天领域中的应用现状与展望。
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关键词
聚酰亚胺
聚酰胺酸
光刻胶
二叠氮萘醌
光敏剂
制备
光刻性能
航天应用
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Keywords
polyimide
poly(amic acid)
photosensitive polyimide
diazonaphthoquinone
photoactive compound
preparation
lithographic performance
aerospace application
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分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
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题名浅析塑料模具钢的合理选择
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作者
王中任
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机构
襄樊学院机械工程系
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出处
《广东塑料》
2005年第6期54-56,共3页
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文摘
模具材料对于模具的加工质量和使用性能，以及模具寿命有很大的影响。归纳了影响塑料 模具钢选择的主要因素，在此基础上，提出了塑料模具钢选择的原则和方法。
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关键词
塑料模具钢
模具材料
加工质量
使用性能
寿命
切削加工性
耐蚀性能
非磁性
镜面加工性能
图案光刻性能
耐磨损性
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分类号
TG76
[金属学及工艺—刀具与模具]
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题名ArF光刻胶成膜树脂研究进展
- 3
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作者
郑祥飞
徐亮
陈侃
刘敬成
张家龙
陈韦帆
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机构
瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司
江南大学化学与材料工程学院
中石化(上海)石油化工研究院有限公司
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出处
《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第S02期126-130,共5页
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基金
东吴科技领军人才计划项目(WC202252)
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文摘
ArF曝光分为干式光刻和浸没式光刻,结合多重曝光技术,分辨率覆盖90~97nm,是芯片制造的主流工艺。ArF光刻胶要求透光率高(193nm波长处)、分辨率高、感度快、抗刻蚀性强、边缘粗糙度小及缺陷少,因此对成膜树脂提出了更高要求。目前报道的ArF光刻胶成膜树脂大致分为三类:(甲基)丙烯酸酯体系;环烯烃体系;马来酸酐体系。主要对三类成膜树脂进行了分类总结,并介绍成膜树脂结构的特点。
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关键词
ArF光刻
光刻胶性能
成膜树脂
聚合物结构
研究进展
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Keywords
ArF lithography
photoresist performance
film-forming resins
polymer structure
progress
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分类号
O63
[理学—高分子化学]
TQ32
[理学—化学]
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