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一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置
被引量：
1
1
作者
朱进鹏
韦寿祺
刘胜
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期60-66,共7页
电子束快速成型设备偏扫系统工作频率高,磁偏扫装置的铁损、涡流等损耗导致偏扫轨迹产生偏差。通过获取偏扫区域内特征点基准偏扫参数并由插补算法计算区域内任意一点偏扫参数,能够较好地抑制动态偏差;但由光学观察系统判断电子束斑点...
电子束快速成型设备偏扫系统工作频率高,磁偏扫装置的铁损、涡流等损耗导致偏扫轨迹产生偏差。通过获取偏扫区域内特征点基准偏扫参数并由插补算法计算区域内任意一点偏扫参数,能够较好地抑制动态偏差;但由光学观察系统判断电子束斑点位置所获得的基准偏扫参数精确性较低。为提高偏扫轨迹精度,在现有电子束快速成型机上加装一种特征点参数采集装置,收集产生的二次反射电子,通过二次反射电子信号判断特征点通孔中心与电子束斑点中心的对中性。实验表明:当电子束斑点位于特征点中心且聚焦于上表面时,二次反射电子信号最小,此时获得的基准偏扫参数精确性高,能够提高电子束偏扫加工的精度。
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关键词
偏
扫
电流
校正
特征点
参数采集
二次反射电子
下载PDF
职称材料
电子束快速成型机聚焦及偏扫系统的工程实现
被引量：
4
2
作者
韦寿祺
李雪娇
莫金海
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期634-638,共5页
阐述了电子束快速成型机聚焦及偏扫系统在工程上所遇到的几个问题及解决方法。主要有:制造工艺引起s、t轴偏扫不垂直,通过斜角坐标和直角坐标数据互换算来解决此问题;电子束偏转后束斑散焦,采用以电子束偏转位置为因变量校正聚焦励磁电...
阐述了电子束快速成型机聚焦及偏扫系统在工程上所遇到的几个问题及解决方法。主要有:制造工艺引起s、t轴偏扫不垂直,通过斜角坐标和直角坐标数据互换算来解决此问题;电子束偏转后束斑散焦,采用以电子束偏转位置为因变量校正聚焦励磁电流来解决此问题;电子束聚焦校正励磁电流与反映位置的s、t轴偏扫励磁电流之间存在非线性,采用偏扫场按扇形分区,试验获取特征点参数数据,区域内每点参数按线性近似处理;磁路动态损耗影响聚焦补偿精度和偏扫精度,励磁电源指令电压采用比例-微分输入方式加以解决。试验结果表明电子束斑的均匀性和偏扫精度均明显优于无补偿系统。
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关键词
电子束快速成型
束斑散焦
聚焦
电流
补偿
偏
扫
场分区
偏
扫
电流
补偿
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职称材料
题名
一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置
被引量：
1
1
作者
朱进鹏
韦寿祺
刘胜
机构
桂林电子科技大学
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第7期60-66,共7页
基金
广西自然科学基金项目(2015jjAA70031)
文摘
电子束快速成型设备偏扫系统工作频率高,磁偏扫装置的铁损、涡流等损耗导致偏扫轨迹产生偏差。通过获取偏扫区域内特征点基准偏扫参数并由插补算法计算区域内任意一点偏扫参数,能够较好地抑制动态偏差;但由光学观察系统判断电子束斑点位置所获得的基准偏扫参数精确性较低。为提高偏扫轨迹精度,在现有电子束快速成型机上加装一种特征点参数采集装置,收集产生的二次反射电子,通过二次反射电子信号判断特征点通孔中心与电子束斑点中心的对中性。实验表明:当电子束斑点位于特征点中心且聚焦于上表面时,二次反射电子信号最小,此时获得的基准偏扫参数精确性高,能够提高电子束偏扫加工的精度。
关键词
偏
扫
电流
校正
特征点
参数采集
二次反射电子
Keywords
deflection scanning current
correction
feature point
parameter acquisition
secondary reflection electron
分类号
TG439.3 [金属学及工艺—焊接]
下载PDF
职称材料
题名
电子束快速成型机聚焦及偏扫系统的工程实现
被引量：
4
2
作者
韦寿祺
李雪娇
莫金海
机构
桂林电子科技大学机电工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期634-638,共5页
基金
广西自然科学基金项目(2013GXNSFAA019301)
文摘
阐述了电子束快速成型机聚焦及偏扫系统在工程上所遇到的几个问题及解决方法。主要有:制造工艺引起s、t轴偏扫不垂直,通过斜角坐标和直角坐标数据互换算来解决此问题;电子束偏转后束斑散焦,采用以电子束偏转位置为因变量校正聚焦励磁电流来解决此问题;电子束聚焦校正励磁电流与反映位置的s、t轴偏扫励磁电流之间存在非线性,采用偏扫场按扇形分区,试验获取特征点参数数据,区域内每点参数按线性近似处理;磁路动态损耗影响聚焦补偿精度和偏扫精度,励磁电源指令电压采用比例-微分输入方式加以解决。试验结果表明电子束斑的均匀性和偏扫精度均明显优于无补偿系统。
关键词
电子束快速成型
束斑散焦
聚焦
电流
补偿
偏
扫
场分区
偏
扫
电流
补偿
Keywords
EB rapid prototyping
EB spot focusing
Focusing magnetizing current compensation
Scanning area partitioning
Scanning magnetizing current compensation
分类号
TG439.3 [金属学及工艺—焊接]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种用于偏扫电流校正的特征点参数采集装置
朱进鹏
韦寿祺
刘胜
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
1
下载PDF
职称材料
2
电子束快速成型机聚焦及偏扫系统的工程实现
韦寿祺
李雪娇
莫金海
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
4
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职称材料
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