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光纤布喇格光栅的制作技术
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作者 孙晓娜 冯锡钰 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期165-167,181,共4页
简单介绍了光纤布喇格光栅( F B G) 的原理及光学特性,详细阐述了 F B G 的制作技术。此外,详细地描述了采用 Kr F 激光器,利用位相掩模法光刻光纤形成 F B G 的实验。此种方法与其他方法相比,有很多的优点。
关键词 光纤 布喇格光栅 光折变效应 位相掩模
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光纤光栅研究的最新进展 被引量:3
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作者 舒学文 黄德修 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期77-80,共4页
近年来光纤光栅的发展非常迅猛。文中综述了近一两年来光纤光栅制作技术及其应用的最新进展。
关键词 光纤光栅 位相掩模 啁啾
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利用随机位相编码技术对光学图像进行保密
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作者 王薇 张思炯 林铁生 《光电子技术与信息》 1999年第3期9-13,共5页
本文介绍了一种利用随机位相编码技术对光学图像进行保密的方法.该方法是利用两个随机位相掩模将振幅识别的初始图像编码为复振幅稳定的白光噪声,使仅对光强敏感的探测器无法接收.保密图像再现所采用光学方法具有最大的光学效应.
关键词 光学图像保密 随机位相编码 位相掩模 图像编码
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批量生产三维光子晶体
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作者 罗山(编译) 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2005年第8期61-61,共1页
加拿大与美国研究人员研究出一种用位相掩模基光刻制造术堆型三维光子晶体的方法。他们将光致抗蚀剂对以两个位相掩模产生的干涉样曝光,制造具有四角形或立方对称的微结构材料。利用此种电子工业的标准工具,可望导致三维光子晶体的批... 加拿大与美国研究人员研究出一种用位相掩模基光刻制造术堆型三维光子晶体的方法。他们将光致抗蚀剂对以两个位相掩模产生的干涉样曝光,制造具有四角形或立方对称的微结构材料。利用此种电子工业的标准工具,可望导致三维光子晶体的批量生产,供集成光路之类元件应用。 展开更多
关键词 三维光子晶体 批量生产 位相掩模 光致抗蚀剂 微结构材料 研究人员 电子工业 集成光路 加拿大
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