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PEG对SiO_2溶胶-凝胶中颗粒度分布和孔结构的影响 被引量：26
1
作者 汤加苗 朱从善 +3 位作者 夏海平 范文浩 吴东 孙予罕 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期79-82,共4页
添加少量聚乙二醇（PEG，polyethyleneglycol）于TEOS-Water-Ethanol-Catalyst溶胶体系中，以改善SiO2溶胶的颗粒度和孔结构（比表面积，孔容积，孔径），通过比较sol中随时间变化的颗粒长大情况，探讨了PEG在sol-gel中的作用过程。
关键词 孔结构 粒度分布 PEG 二氧化硅膜 溶胶凝胶法
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憎水二氧化硅膜的制备、表征及水热稳定性研究 被引量：27
2
作者 韦奇 李健林 +2 位作者 宋春林 刘卫 陈初升 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期417-423,共7页
用甲基三乙氧基硅烷(MTES)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,通过共水解缩聚反应可制得甲基修饰的二氧化硅膜.通过TGA、FTIR以及气体渗透等测试手段对甲基修饰的SiO2膜进行研究,发现随着MTES/TEOS摩尔比例的增大,二氧化硅膜的憎水性... 用甲基三乙氧基硅烷(MTES)代替部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,通过共水解缩聚反应可制得甲基修饰的二氧化硅膜.通过TGA、FTIR以及气体渗透等测试手段对甲基修饰的SiO2膜进行研究,发现随着MTES/TEOS摩尔比例的增大,二氧化硅膜的憎水性能逐渐增强,当MTES/TEOS达到0.8时,二氧化硅膜的孔表面几乎不再吸附水气.氢气在MTES/TEOS为1的支撑体二氧化硅膜的输运受温度的控制,200℃时H2的渗透率达到6.0×10-7mol·m-2.Pa-1·s-1,H2/CO2分离系数达到6.0,于200℃以及水蒸气压力为3564Pa的环境中陈化近110h后H2渗透率基本保持不变,H2/CO2分离系数有所增大,说明经过甲基修饰的二氧化硅膜比纯二氧化硅膜具有更好的水热稳定性. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 憎水性 制备 结构表征 水热稳定性 氢气分离材料 溶胶-凝胶法
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微孔二氧化硅膜的制备、氢气分离以及水热稳定性研究 被引量：23
3
作者 韦奇 李健林 +2 位作者 宋春林 刘卫 陈初升 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期133-139,共7页
利用溶胶-凝胶法在Υ-Al2O3/α-Al2O3多孔支撑体上合成了微孔二氧化硅膜,并用IR、TG、FESEM、N2吸附以及气体渗透等手段对二氧化硅膜进行了研究.结果表明,200℃时H2的渗透率达到2.3×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的... 利用溶胶-凝胶法在Υ-Al2O3/α-Al2O3多孔支撑体上合成了微孔二氧化硅膜,并用IR、TG、FESEM、N2吸附以及气体渗透等手段对二氧化硅膜进行了研究.结果表明,200℃时H2的渗透率达到2.3×10-7mol·m-2·Pa-1·s-1,H2/CO2的分离系数为8.0,然而当二氧化硅膜长期暴露于潮湿环境时,由于水气与孔表面羟基相互作用引起二氧化硅膜孔结构的崩溃,最终导致H2渗透率和H2/CO2分离系数剧烈下降. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 氢气分离 水热稳定性
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溶胶－凝胶法制备的SiO_2膜的结构与性质 被引量：15
4
作者 周耀 陈永英 +1 位作者 迟玉兰 张华民 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第4期429-436,共8页
本文用ＴＥＯＳ和硅溶胶作原料，用溶胶一凝胶法制备了无支撑体和有支撑体的ＳｉＯ２膜．用ＴＥＯＳ制得的无支撑体ＳｉＯ２膜，无１．７ｎｍ以上的微孔，由硅溶胶制得的无支撑体ＳｉＯ２膜平均孔径为７．５ｎｍ，且孔径分布集中，这种... 本文用ＴＥＯＳ和硅溶胶作原料，用溶胶一凝胶法制备了无支撑体和有支撑体的ＳｉＯ２膜．用ＴＥＯＳ制得的无支撑体ＳｉＯ２膜，无１．７ｎｍ以上的微孔，由硅溶胶制得的无支撑体ＳｉＯ２膜平均孔径为７．５ｎｍ，且孔径分布集中，这种差异主要来自于由不同原料制备的溶胶，其聚合物分子具有不同的形态和生长模式．用ＴＥＯＳ作原料，在无过渡层的α－Ａｌ２Ｏ３多孔支撑体上制得了无大孔缺陷、厚约１５μｍ的ＳｉＯ２膜，膜对ＢＳＡ的百分截留率为７５．８％．在有过渡层的α－Ａｌ２Ｏ３上制得的ＳｉＯ２膜的纯Ｎ２渗透表现为Ｋｎｕｄｓｅｎ扩散特征．起超滤和扩散作用的是ＳｉＯ２膜层内部的缺陷微孔． 展开更多
关键词 二氧化硅膜 溶胶-凝胶法 结构 制备 超滤膜
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用溶胶凝胶法在烧结多孔金属基体上附载SiO_2膜 被引量：11
5
作者 田茂东 王立秋 +1 位作者 张守臣 刘长厚 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期49-52,共4页
为了克服传统陶瓷膜的某些缺陷，以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为原料，采用溶胶－凝胶法在多孔钛金属基体上制备出ＳｉＯ２膜．为避免金属基体与膜材料由于热膨胀系数的不同而引起膜的破裂，采用填堵的方法成膜．整个挂膜—干燥—煅烧过程... 为了克服传统陶瓷膜的某些缺陷，以正硅酸乙酯（ＴＥＯＳ）为原料，采用溶胶－凝胶法在多孔钛金属基体上制备出ＳｉＯ２膜．为避免金属基体与膜材料由于热膨胀系数的不同而引起膜的破裂，采用填堵的方法成膜．整个挂膜—干燥—煅烧过程须重复８～１０次．常温和高温下的气体渗透实验表明所制得的金属－陶瓷复合膜具有努森扩散特征，该膜能够在较高温度下使用． 展开更多
关键词 多孔金属 溶胶-凝胶法 无机膜 二氧化硅膜
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反应溅射制备SiO_2膜的问题及进展 被引量：7
6
作者 侯晓波 查良镇 +1 位作者 范垂祯 许生 《真空》 CAS 北大核心 1999年第6期1-5,共5页
磁控溅射法制备ＳｉＯ２ 膜传统上采用射频溅射工艺，但它成本较高，效率较低，无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来，反应磁控溅射在解决异常弧光放电和阳极消失等问题方面取得了很大的进展，已成功地应用于包括ＳｉＯ２ 在... 磁控溅射法制备ＳｉＯ２ 膜传统上采用射频溅射工艺，但它成本较高，效率较低，无法充分满足大面积镀膜工业生产的需要。近年来，反应磁控溅射在解决异常弧光放电和阳极消失等问题方面取得了很大的进展，已成功地应用于包括ＳｉＯ２ 在内的绝缘膜沉积，成为镀制介质膜的一个新方向。本文介绍和评述了反应溅射所遇到的几个关键问题，结合机理讨论了相应的解决办法，并认为反应溅射有重要实用价值和发展前景。 展开更多
关键词 反应溅射 阳极消失 二氧化硅膜 镀膜工业
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仿生合成石质文物二氧化硅保护膜的研究 被引量：10
7
作者 洪坤 詹予忠 沈国鹏 《文物保护与考古科学》 2007年第4期33-36,共4页
由于二氧化硅仿生材料具有优越的耐候性,与基底石材相容性好,合成条件的温和性及对环境无污染等优点,为此制备了二氧化硅防护膜。室温下利用CTAB自组装体为模板来调控Na2SiF6水解,在石材表面制备出具有优良性能的SiO2膜,并对膜进行了XRD... 由于二氧化硅仿生材料具有优越的耐候性,与基底石材相容性好,合成条件的温和性及对环境无污染等优点,为此制备了二氧化硅防护膜。室温下利用CTAB自组装体为模板来调控Na2SiF6水解,在石材表面制备出具有优良性能的SiO2膜,并对膜进行了XRD、SEM分析表征。经过保护处理的石材表面清洁、透明,具有突出的抵抗酸碱性能。生成的保护膜具有良好的透气性,而吸水性有所下降。另外,该保护膜还显示出优良的抵抗高、低温,耐磨,及与基底结合紧密等性能。上述研究表明,仿生SiO2膜将会对石质文物起到更好的保护作用。 展开更多
关键词 仿生合成 二氧化硅膜 石质文物 保护
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La/Y掺杂二氧化硅膜的制备及其对染料废水的分离性能研究 被引量：8
8
作者 张华宇 罗芳颖 +2 位作者 江婷婷 李晨晖 张小亮 《膜科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期113-119,131,共8页
以1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备出完整无缺陷的La/Y掺杂二氧化硅膜.采用TG、FTIR、XRD和SEM等手段表征了La/Y掺杂溶胶凝胶的性质、膜的形貌特征和热稳定性.考察了不同La/Y掺杂比和焙烧温度条件下制备... 以1,2-双(三乙氧基硅基)乙烷(BTESE)为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备出完整无缺陷的La/Y掺杂二氧化硅膜.采用TG、FTIR、XRD和SEM等手段表征了La/Y掺杂溶胶凝胶的性质、膜的形貌特征和热稳定性.考察了不同La/Y掺杂比和焙烧温度条件下制备的二氧化硅膜对正电荷染料结晶紫、负电荷染料刚果红等染料废水的分离性能.研究结果表明,与纯BTESE-SiO_2膜相比,La/Y掺杂SiO2膜的分离性能有所提高.La/Y为50/50(摩尔比)、焙烧温度为300℃的合成条件下所制备的La50Y50-SiO2膜对染料废水分离性能最佳.在初始质量浓度为5mg/L的结晶紫溶液和20mg/L的刚果红溶液分离过程中,该膜的渗透通量都高于5.0L/(m^2·h),对染料分子的截留率为100%.该膜对负电荷染料刚果红的分离性能优于其对正电荷染料结晶紫的分离性能.在膜分离染料废水过程中,存在分子筛分和静电吸附的协同分离机制.此外,La/Y掺杂二氧化硅膜还表现出优异的耐盐性,表明该膜可用于高盐染料废水处理. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 稀土 掺杂 染料废水
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乙烯基修饰的微孔二氧化硅膜孔结构与疏水性研究 被引量：6
9
作者 王艳丽 韦奇 +2 位作者 于春晓 李群艳 聂祚仁 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期949-953,共5页
在溶胶-凝胶反应过程中,用乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)代替部分正硅酸乙酯(TEOS),通过两者共水解缩合反应制备乙烯基修饰的SiO_2膜,并通过BET、TG、NMR、以及接触角测量仪对所制备的材料进行表征.结果表明:修饰后的二氧化硅膜仍保持微孔结... 在溶胶-凝胶反应过程中,用乙烯基三乙氧基硅烷(TEVS)代替部分正硅酸乙酯(TEOS),通过两者共水解缩合反应制备乙烯基修饰的SiO_2膜,并通过BET、TG、NMR、以及接触角测量仪对所制备的材料进行表征.结果表明:修饰后的二氧化硅膜仍保持微孔结构,且孔径集中分布在0.5～0.7nm之间.由于部分亲水表面羟基被疏水乙烯基团所代替,乙烯基修饰的SiO_2膜疏水性能得到明显提高,并且随着TEVS加入量的增加,疏水性能逐渐增强. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 乙烯基 孔结构 疏水性能 溶胶-凝胶法
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射频磁控溅射制备SiO_2膜 被引量：2
10
作者 陈国平 张随新 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第5期310-316,共7页
利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺，采用L型阻抗匹配网络，并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数，靶面自偏压及SiO2膜沉积速率均随功率密度的增加而线性增加。溅射气压及氧分压对自... 利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺，采用L型阻抗匹配网络，并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数，靶面自偏压及SiO2膜沉积速率均随功率密度的增加而线性增加。溅射气压及氧分压对自偏压的影响较小，但两者的增加将导致SiO2沉积速率的降低。制备了可见光区透光性良好，折射率为1．46，沉积速率为35nm／min的SiO2膜。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 阻抗匹配 二氧化硅膜
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溶胶凝胶-模板技术合成负载型中孔SiO_2膜 被引量：3
11
作者 李传峰 钟顺和 李青 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期352-356,共5页
将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表... 将溶胶 -凝胶技术与模板技术结合起来 ,分别以TEOS和Na2 SiO3为有机和无机硅源 ,C1 2 H2 5(CH3) 3N+ Cl- (DTAC)为模板剂 ,制备了两类负载型中孔SiO2 膜 .SEM ,XRD ,IR ,TG -DTA ,氮吸附和气体渗透性能测试装置对其进行了表征 .结果表明 :两类膜成膜情况良好 ,硅溶胶与模板剂形成键联型交联 ,由有机硅源制备的SiO2 膜晶相和非晶相共存 ,平均孔径 4.2nm ,最高有机分解温度 2 97℃ .而由无机硅源制得的SiO2 膜全部为晶态结构 ,平均孔径为 6.0nm ,最高有机分解温度 2 75℃ .气体在这两类膜中的渗透均由Knudsen扩散控制 . 展开更多
关键词 溶胶凝胶-模板技术 二氧化硅膜 结构表征 气体渗透性能 负载型中孔SiO2膜
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三氟丙基修饰的二氧化硅膜制备、氢气分离及其水热稳定性能 被引量：5
12
作者 洪志发 韦奇 +3 位作者 李国华 王学伟 聂祚仁 李群艳 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2013年第5期941-947,共7页
以三氟丙基三甲氧基硅烷（TFPTMS）和正硅酸乙酯（TEOS）作为前驱体，通过溶胶一凝胶法制备三氟丙基修饰的SiO2膜材料．研究了三氟丙基修饰对膜材料孔结构和疏水性的作用、疏水膜材料的氢气渗透和分离性能以及水热稳定性能。结果表明三... 以三氟丙基三甲氧基硅烷（TFPTMS）和正硅酸乙酯（TEOS）作为前驱体，通过溶胶一凝胶法制备三氟丙基修饰的SiO2膜材料．研究了三氟丙基修饰对膜材料孔结构和疏水性的作用、疏水膜材料的氢气渗透和分离性能以及水热稳定性能。结果表明三氟丙基修饰后的膜材料仍保持良好的微孔结构．孔径狭窄分布在0．45-0．7nm之间。修饰后膜材料疏水性明显提高，当nTFPTMS/nFEOS=时。对水的接触角达到（102．7°±0．1°）。H：在修饰后膜材料的输运遵循微孔扩散机理，在300℃时，H2的单组份渗透率达到4．77x10-7mol·m-2·s-1·Pa-1，H2/CO2的理想分离系数以及双组份分离系数分别达到6．99和6．93，均高于其Knudsen扩散分离因子。在200℃水蒸气物质的量含量为5％的环境中陈化220h后．H2的单组份渗透率仅在前3h有轻微下降，然后基本保持不变．说明三氟丙基修饰的SiO，膜具有良好的水热稳定性。 展开更多
关键词 二氧化硅膜 溶胶-凝胶法 疏水性 气体分离 水热稳定性
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镍掺杂SiO2膜的制备及CH4／CO2气体分离性能 被引量：5
13
作者 李文秀 李丹丹 +2 位作者 郑立娇 范俊刚 张志刚 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期416-422,共7页
以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,六水合硝酸镍(Ni(NO3)2·6H2O)为镍源,采用溶胶--凝胶法制备镍掺杂SiO2膜。研究了水用量及镍含量对镍掺杂SiO2膜的结构及形貌的影响,并对其进行CH4、CO2气体渗透性能测试。结果表明:水酯比为5.5时,制备... 以正硅酸乙酯(TEOS)为前驱体,六水合硝酸镍(Ni(NO3)2·6H2O)为镍源,采用溶胶--凝胶法制备镍掺杂SiO2膜。研究了水用量及镍含量对镍掺杂SiO2膜的结构及形貌的影响,并对其进行CH4、CO2气体渗透性能测试。结果表明:水酯比为5.5时,制备的10%Ni掺杂SiO2膜具有良好的微孔结构,且孔径约为1.16nm,孔隙率为64.9%。一部分Ni元素以Ni和NiO晶体形式填充于SiO2孔道内,另一部分以Si—O—Ni形式进入SiO2骨架。Ni掺杂SiO2膜在84h内能够保持良好的气体渗透性能,表现出比纯SiO2膜更好的水热稳定性。CH4和CO2的气体渗透通量分别为1.56×10--7和0.64×10--7 mol/(m2·s·Pa),CH4/CO2气体分离因子达到2.43。 展开更多
关键词 二氧化硅膜 镍掺杂 水热稳定性 气体分离 孔结构
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钴掺杂二氧化硅膜的制备、表征及氢气分离性能 被引量：5
14
作者 闫建平 韦奇 +3 位作者 段小勇 何俊 李群艳 聂祚仁 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1334-1340,共7页
采用正硅酸乙酯(TEOS)和Co(NO3)2.6H2O为前驱体通过溶胶-凝胶法制备掺钴微孔二氧化硅膜,研究钴在二氧化硅膜材料中的存在状态、膜材料孔结构以及膜材料的气体渗透和分离性能。结果表明钴元素以Si-O-Co的形式存在于SiO2骨架之中,掺杂Co ... 采用正硅酸乙酯(TEOS)和Co(NO3)2.6H2O为前驱体通过溶胶-凝胶法制备掺钴微孔二氧化硅膜,研究钴在二氧化硅膜材料中的存在状态、膜材料孔结构以及膜材料的气体渗透和分离性能。结果表明钴元素以Si-O-Co的形式存在于SiO2骨架之中,掺杂Co 10%的微孔SiO2膜具有典型的微孔结构,其孔体积为0.119 cm3·g-1,平均孔径在0.52 nm左右且孔径主要分布在0.4～0.55 nm之间。氢气在膜材料中的输运低温下遵循Knudsen扩散机理,高于100℃时遵循活化扩散机理,300℃时膜材料的H2渗透率达到6.41×10-7 mol.m-2.s-1.Pa-1,H2/CO2分离系数达到6.61,高于Knudsen扩散的理想分离系数。 展开更多
关键词 钴 微孔 二氧化硅膜 氢气分离
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石质文物表面二氧化硅仿生膜的探索 被引量：3
15
作者 洪坤 詹予忠 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2008年第9期520-522,共3页
受石质古迹表面天然保护膜的启发,通过仿生技术,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板调控正硅酸乙酯(TEOS)的水解缩合,在青石表面制备出二氧化硅防护膜。制备出的防护膜具有优良的耐酸、耐污性能,憎水性有所增加,但仍维持其亲水的... 受石质古迹表面天然保护膜的启发,通过仿生技术,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为有机模板调控正硅酸乙酯(TEOS)的水解缩合,在青石表面制备出二氧化硅防护膜。制备出的防护膜具有优良的耐酸、耐污性能,憎水性有所增加,但仍维持其亲水的性能。用红外光谱仪对仿生膜的结构进行表征,表明其主要成分为二氧化硅。 展开更多
关键词 石质文物保护 仿生合成 二氧化硅膜 正硅酸乙酯
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溶胶-凝胶法改性SiO_2膜的润湿性与水汽稳定性 被引量：5
16
作者 杨靖 陈杰瑢 余嵘 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期739-744,共6页
以甲基三乙氧基硅烷(MTES)替代部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,用溶胶.凝胶法制备了MTES改性二氧化硅溶胶和二氧化硅膜。研究了憎水基团的添加量对溶胶体系的稳定性和对二氧化硅膜润湿性以及水汽稳定性的影响.结果表明,随MTES/TEOS摩... 以甲基三乙氧基硅烷(MTES)替代部分正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱物,用溶胶.凝胶法制备了MTES改性二氧化硅溶胶和二氧化硅膜。研究了憎水基团的添加量对溶胶体系的稳定性和对二氧化硅膜润湿性以及水汽稳定性的影响.结果表明,随MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅溶胶的稳定性降低,改性二氧化硅膜的表面自由能显著减小;表面润湿性降低,主要是表面张力中极性力的贡献,FTIR分析表明,这是由于二氧化硅颗粒表面-CH_3非极性基团增加所致;在潮湿环境中陈化时,二氧化硅膜接触角的变化及吸水率随MTES/TEOS摩尔比增大而减小,疏水性二氧化硅膜的MTES/TEOS宜为0.8～1.0;AFM形貌分析表明陶瓷支撑体上的二氧化硅薄膜连续,膜表面较光滑、平整. 展开更多
关键词 二氧化硅膜 改性 润湿性 水汽稳定性
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二氧化硅膜的制备及分离CH_4/CO_2气体的研究 被引量：4
17
作者 张志刚 张冰 +1 位作者 陈立峰 李文秀 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期56-61,共6页
以正硅酸乙酯为前驱体,通过溶胶-凝胶法,采用多分离层镀膜工艺制备了用于分离CH4/CO2气体二氧化硅无机膜。通过TG-DSC、粒度分析仪及SEM对二氧化硅膜进行表征,结果表明分别利用HNO3、EtOH及DMF作为催化剂、助溶剂及添加剂可制备出表面... 以正硅酸乙酯为前驱体,通过溶胶-凝胶法,采用多分离层镀膜工艺制备了用于分离CH4/CO2气体二氧化硅无机膜。通过TG-DSC、粒度分析仪及SEM对二氧化硅膜进行表征,结果表明分别利用HNO3、EtOH及DMF作为催化剂、助溶剂及添加剂可制备出表面性能较好的二氧化硅膜;利用多分离层镀膜工艺制备的二氧化硅膜,在0.025MPa下,对CH4/CO2气体的分离因子高达1.73,其效果明显高于利用单一溶胶涂膜的分离因子1.6,有效的提高了二氧化硅膜对气体的分离能力。 展开更多
关键词 分离因子 多分离层 二氧化硅膜
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硅藻土-莫来石陶瓷负载SiO_2膜的制备与表征 被引量：3
18
作者 李青 钟顺和 《膜科学与技术》 CAS CSCD 2000年第4期14-18,共5页
将液晶模板技术与溶胶 -凝胶法相结合 ,制备了硅藻土 -莫来石陶瓷 (K -M )负载型SiO2 膜 .表征实验结果表明 :SiO2 膜层与TiO2 过渡膜层间通过Si—O—Ti键的价联方式形成了紧密、稳定的化合型复合膜 ;SiO2 膜孔径集中在 4～ 5nm ,孔分... 将液晶模板技术与溶胶 -凝胶法相结合 ,制备了硅藻土 -莫来石陶瓷 (K -M )负载型SiO2 膜 .表征实验结果表明 :SiO2 膜层与TiO2 过渡膜层间通过Si—O—Ti键的价联方式形成了紧密、稳定的化合型复合膜 ;SiO2 膜孔径集中在 4～ 5nm ,孔分布较为均匀 ;K -M负载SiO2 膜管对气体具有较强的渗透能力 ,并有较好的气体分离作用 .根据实验结果探讨了模板剂的性质及用量对SiO2 膜孔结构的决定性作用 . 展开更多
关键词 液晶模板 负载型 硅藻土 莫来石陶瓷 二氧化硅膜
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Sol-Gel法制备SiO_2膜的研究进展 被引量：1
19
作者 郭文淼 金珊 《辽宁化工》 CAS 2003年第12期525-528,共4页
叙述了Sol-Gel法制备SiO2 膜的原理以及工艺 ;举例说明了近些年来SiO2 膜的制备进展 ,讨论了SiO2 膜制备过程的影响因素 ;进而指出了采用Sol-Gel制备SiO2 膜存在的问题。为SiO2 膜的制备提供参考。
关键词 SOL-GEL法 二氧化硅膜 正硅酸乙脂 无机陶瓷膜 制备工艺
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仿生制备石质文物SiO_2防护膜的探索 被引量：4
20
作者 洪坤 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2009年第2期113-115,共3页
国内外的野外考察都在一些石刻古迹表面发现一层性能优良的天然草酸钙膜,受其启发,首次采用仿生技术,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)自组装成有机模板来调控Na2SiF6的水解沉积,在青石表面制备出二氧化硅防护膜。通过正交设计确定了最佳... 国内外的野外考察都在一些石刻古迹表面发现一层性能优良的天然草酸钙膜,受其启发,首次采用仿生技术,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)自组装成有机模板来调控Na2SiF6的水解沉积,在青石表面制备出二氧化硅防护膜。通过正交设计确定了最佳的制备条件为25 ml浓度为0.050 mol/L的Na2SiF6,1.0 g硼酸,反应时间24 h。仿生合成出的SiO2膜具有优良的耐酸、耐污性能,憎水性有所增加,但仍保持青石亲水的性能。用红外光谱仪和扫描电子显微镜对仿生SiO2膜的结构和形貌进行了表征,并与正硅酸乙酯(TEOS)仿生法进行了比较。本方法为开发新型石质文物保护材料提供了思路。 展开更多
关键词 仿生合成 石质文物 二氧化硅膜 氟硅酸钠
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